【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本专利技术提供了特别用作光致抗蚀剂组合物组分的生酸剂化合物。在一个优选的方面,本专利技术提供了环锍盐和包含这种化合物的光致抗蚀剂组合物。在另一个优选的方面,本专利技术还提供了包含一个或多个共价连接的酸不稳定性部分,特别是含有酯的酸不稳定性部分的生酸剂化合物。【专利说明】生酸剂化合物和包含其的光致抗蚀剂
本专利技术涉及新的生酸剂化合物。在一个优选的方法,本专利技术提供了环锍盐和包含这种化合物的光致抗蚀剂组合物。在另一个优选的方面,本专利技术提供了包含一个或多个共价连接的酸不稳定性部分,特别是包含酯的酸不稳定性部分的生酸剂化合物。
技术介绍
光致抗蚀剂是用于将图像传递到基材的光敏膜。它们形成负图像或正图像。在基材上涂覆光致抗蚀剂之后,涂层穿过图案化的光掩膜曝光于活化能源,例如紫外光以形成光致抗蚀剂涂层中的潜像。该光掩膜具有对限定期望转移到下层基质的图像的活化辐射不透明和透明的区域。通过抗蚀剂涂层中潜像图案的显影而提供浮雕图像。已知的光致抗蚀剂可以提供具有足以用于许多现有商业应用的分辨率和尺寸的特性。但是对于许多其他的应用,还需要新的光致抗蚀剂以提供亚微米尺寸的高分辨图像。对改变光致抗蚀剂的组成进行了许多尝试以改进功能性质的性能。在其他情况中,报道了多种光活化化合物用于光致抗蚀剂组合物中。参见US20070224540、EP1906241和JP4369375B。远紫外线(EUV)和e_电子束图像技术也得以使用。参见U.S.专利7,459,260。EUV利用典型的在Inm到40nm之间的短波辐射,其通常具有13.5nm的辐射。EUV光致抗蚀剂的 ...
【技术保护点】
光致抗蚀剂组合物,其包括:(i)聚合物;和(ii)对应于下式(I)的生酸剂:其中R1是提供酸不稳定性部分的非氢取代基;A是氢原子或非氢取代基;e是0到4的整数;R2和R3是相同或不同的非氢取代基,且R2和R3可以一起形成芳香环或非芳香环;并且Z?是抗衡阴离子;排除其中R2和R3各自是未取代的苯基;?(C=O)OR1是对位取代基;R1是叔丁基或?C(CH3)2(C6H5),且e为0的化合物。FSA0000097200960000011.tif
【技术特征摘要】
...
【专利技术属性】
技术研发人员:P·J·拉宝美,
申请(专利权)人:罗门哈斯电子材料有限公司,
类型:发明
国别省市:
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。