XYθ精密对位平台制造技术

本实用新型专利技术涉及一种XYθ精密对位平台，包括：一XY轴移动平台，包括：一X轴移动平台，其底部设有至少一滑轨元件；一Y轴移动平台，其底部设有至少一滑轨元件；所述X轴移动平台及Y轴移动平台为层叠组合；一θ角回动平台，包括:一平台；一圆弧形齿排，其设于平台的底部；一滑轨元件，其结合至少一滑块；一蜗杆结构，其与圆弧形齿排啮合；所述滑轨元件及蜗杆结构对应设于所述XY轴移动平台的承载面；所述θ角回动平台层叠设置于XY轴移动平台承载面，且所述滑块对应结合于平台的底部；本实用新型专利技术通过控制其蜗杆结构传动该圆弧形齿排，可以精密地令该θ角回动平台进行θ角精密回动，回动角度更是可达360°，机体厚度更是只有4层，达成薄形化的产品目标。?（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

XY θ精密对位平台
本技术属于对位平台领域，特别涉及一种可以达成360°回动、薄形化、高精密度的XY θ精密对位平台。
技术介绍
在各种液晶面板制造、检查设备、半导体制造、检查设置、网印设备或印刷电路板制造、检查设备中，必须使用对位平台进行对位移动等程序，而为了提高精密度，除X轴、Y 轴的移动外，除以伸缩元件达成XY轴的移动外，更应具备θ角移动功能，方能达成高精密度的要求；但已知市售同性质产品中，号称具有Θ角回动功能，实则仅以XXY轴或XYY轴结构间接达成，显然并不是真正的Θ角回动；而其回动角度亦受到限制，例如普遍均只能达到±5°范围内；且元件复杂，层叠组合后达到6层的厚度，不符合设备元件轻薄化的要求； 更进一步指出，已知结构在运转时更存在有干涉现象，实在无法达到绝对精密度；如何改善上述缺点，实有其必要性。
技术实现思路
有鉴于此，本案新型的本技术的目的在于提供一种XY Θ精密对位平台。为达到上述目的，本技术提供一种XY Θ精密对位平台，所述XY Θ精密对位平台包括一 XY轴移动平台，包括一 X轴移动平台，其底部设有至少一滑轨元件；一 Y轴移动平台，其底部设有至少一滑轨元件；所述X轴移动平台及Y轴移动平台为层叠组合；一 Θ角回动平台，包括一平台；一圆弧形齿排，其设于所述平台底部；一滑轨元件，其结合至少一滑块；一蜗杆结构，其与所述圆弧形齿排啮合；所述滑轨元件及蜗杆结构对应设于所述XY轴移动平台的承载面；所述Θ角回动平台层叠设置于所述XY轴移动平台的承载面，且所述滑块对应结合于所述平台的底部。作为上述一种XY Θ精密对位平台的优选方案，其中所述圆弧形齿排为圈状。作为上述一种XY Θ精密对位平台的优选方案，其中所述圆弧形齿排为弧状。作为上述一种XY Θ精密对位平台的优选方案，其中所述滑轨元件为圈状。作为上述一种XY Θ精密对位平台的优选方案，其中所述XY轴移动平台架设于一底座座面。为达到上述目的，本技术还提供一种XY Θ精密对位平台的Θ角回动平台，所述ΧΥΘ精密对位平台的Θ角回动平台包括一平台；一圆弧形齿排，其设于所述平台底部；一滑轨元件，其结合至少一滑块；所述平台的底部对应结合于所述滑块；且所述平台由一蜗杆结构与其圆弧形齿排啮合传动。作为上述一种XY Θ精密对位平台的Θ角回动平台的优选方案，其中所述圆弧形齿排为圈状。作为上述一种XY Θ精密对位平台的Θ角回动平台的优选方案，其中所述圆弧形齿排为弧状。作为上述一种XY Θ精密对位平台的Θ角回动平台的优选方案，其中所述滑轨元件为圈状。本技术所提供的XY Θ精密对位平台，通过控制其蜗杆结构传动该圆弧形齿排，可以精密地令该Θ角回动平台进行Θ角精密回动，回动角度更是可达360°，机体厚度更是只有4层，达成薄形化的产品目标。附图说明图I为本技术较佳实施例的立体外观图；图2为本技术较佳实施例的元件立体组合示意图；图3为本技术较佳实施例的Θ角回动平台结构示意图；图4为本技术较佳实施例的作动示意图之一一 X轴移动；图5为本技术较佳实施例的作动示意图之二一 Y轴移动；图6为本技术较佳实施例的作动示意图之三一 Θ角回动；图7为本技术另一实施例的元件立体组合示意图；图8为本技术另一实施例的Θ角回动平台结构示意图；图9为本技术另一实施例的作动示意图一 Θ角回动。主要附图标记I-XY轴移动平台；11-X轴移动平台；111_滑轨元件；12-Y轴移动平台；121_滑轨元件；13_底座；2- Θ角回动平台；21_平台；22_圆弧形齿排；23_滑轨元件；24_滑块；25_蜗杆结构；26_伺服电动机。具体实施方式有关本技术的详细说明及
技术实现思路
，将结合附图进行说明，然而以下附图及实施例仅作为说明之用，并非用于限制本技术。如图I 图3所示，本技术所述的XY Θ精密对位平台，包括一 XY轴移动平台I，包括一 X轴移动平台11，其底部设有至少一滑轨元件111 ;— Y轴移动平台12，其底部设有至少一滑轨元件121 ；所述X轴移动平台11及Y轴移动平台12为层叠组合；该XY轴移动平台I架设于一底座13的座面；一 Θ角回动平台2,包括一平台 21 ；一圆弧形齿排22，其设于平台21的底部；其中，圆弧形齿排22为圈状；或圆弧形齿排22为弧状，参照图7、图8 ;一滑轨元件23，且其结合至少一滑块24 ；其中，滑轨元件23为圈状；滑块24依平台21荷重调整其数量；一蜗杆结构25，且其应与所述圆弧形齿排22啮合；蜗杆结构25由一伺服电动机26传动；所述滑轨元件24及蜗杆结构25对应设于所述XY轴移动平台I的承载面；Θ角回动平台2层叠设置于XY轴移动平台I的承载面,且所述滑块24对应结合于所述平台21的底部；如图4所示，本技术以所述XY轴移动平台I中的X轴移动平台11进行X轴方向受控移动；如图5所示，本技术以所述XY轴移动平台I中的Y轴移动平台12进行Y轴方向受控移动；特别指出，则是所述Θ角回动平台2通过控制其蜗杆结构25传动所述圆弧形齿排22，可以精密地令Θ角回动平台2进行Θ角精密回动；参照图6及图9 ;本技术Θ角回动平台2有固定运动轨迹，可配合安装光学尺，且可以独立进行回动，回动角度更是可达360° (所述圆弧形齿排22为圈状时)，完全满足产业界的精密需求。另外，本技术组合后的机体厚度降低至只有4层，有效达成薄形化的产品目标。以上所述，仅为本技术的较佳实施例，并非因此而限定本技术的保护范围，举凡依据本技术专利精神所作的等效变化、修饰与置换等，皆应属于本技术专利的保护范围内。权利要求1.一种ΧΥΘ精密对位平台，其特征在于，所述XY Θ精密对位平台包括一 XY轴移动平台，包括一 X轴移动平台，其底部设有至少一滑轨元件；一 Y轴移动平台，其底部设有至少一滑轨元件；所述X轴移动平台及Y轴移动平台为层叠组合；一 θ角回动平台，包括一平台；一圆弧形齿排，其设于所述平台底部；一滑轨元件，其结合至少一滑块；一蜗杆结构，其与所述圆弧形齿排啮合；所述滑轨元件及蜗杆结构对应设于所述XY轴移动平台的承载面；所述Θ角回动平台层叠设置于所述XY轴移动平台的承载面，且所述滑块对应结合于所述平台的底部。2.如权利要求I所述的XYΘ精密对位平台，其特征在于，所述圆弧形齿排为圈状。3.如权利要求I所述的XYΘ精密对位平台，其特征在于，所述圆弧形齿排为弧状。4.如权利要求I所述的XYΘ精密对位平台，其特征在于，所述滑轨元件为圈状。5.如权利要求I所述的XYΘ精密对位平台，其特征在于，所述XY轴移动平台架设于一底座座面。6.一种ΧΥΘ精密对位平台的Θ角回动平台，其特征在于，所述XY Θ精密对位平台的 Θ角回动平台包括一平台；一圆弧形齿排，其设于所述平台底部；一滑轨元件，其结合至少一滑块；所述平台的底部对应结合于所述滑块；且所述平台由一蜗杆结构与其圆弧形齿排啮合传动。7.如权利要求6所述XYΘ精密对位平台的Θ角回动平台，其特征在于，所述圆弧形齿排为圈状。8.如权利要求6所述XYΘ精密对位平台的Θ角回动平台，其特征在于，所述圆弧形齿排为弧状。9.如权利要求6所述XYΘ精密对位平台的Θ角回动平台，其特征在于，所述滑轨元件为圈状。专利摘本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种XYθ精密对位平台，其特征在于，所述XYθ精密对位平台包括：一XY轴移动平台，包括：一X轴移动平台，其底部设有至少一滑轨元件；一Y轴移动平台，其底部设有至少一滑轨元件；所述X轴移动平台及Y轴移动平台为层叠组合；一θ角回动平台，包括:一平台；一圆弧形齿排，其设于所述平台底部；　　一滑轨元件，其结合至少一滑块；一蜗杆结构，其与所述圆弧形齿排啮合；所述滑轨元件及蜗杆结构对应设于所述XY轴移动平台的承载面；所述θ角回动平台层叠设置于所述XY轴移动平台的承载面，且所述滑块对应结合于所述平台的底部。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：吴茂祥，
申请(专利权)人：吴茂祥，
类型：实用新型
国别省市：