【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及在用例如等离子体进行半导体晶片的蚀刻处理等的处理装置中,用于进行其运转状态监视或特性评价等的方法。例如等离子体处理装置用于蚀刻处理或成膜处理等。这种等离子体处理装置例如包含在处理容器内相互平行配置的上部电极和下部电极,在下部电极上施加高频电力的同时,向处理容器内导入处理气体,通过上部电极和下部电极间的放电产生处理气体的等离子体,对半导体晶片等被处理体实施预定的等离子体处理。而且等离子体处理装置的运转状态用各自的检测器检测处理容器内的压力或下部电极施加的电力或处理气体供给流量等30多种数据,各自的检测值作为运转数据利用,监视处理装置的运转状态。然而,如果通过处理装置经历长时间继续预定的处理,则运转状态随时间变化,根据不同情况会出现运转状态突发的变化。这时,对于例如高频电力、处理气体的流量、处理容器内的处理气体的压力等运转数据个别地求出平均值、最大值、最小值以及离散值等统计数据,根据各自的统计数据来评价处理装置的运转状态。不过,问题是由于检测器数量多,对于全部的检测器的运转数据求出统计数据,为了对每个检测器评价运转数据,因烦杂而耗力、耗时。例如在评价新的处理装置或维护后的处理装置时,对各自的处理装置进行试运转。而且,在试运转中得到的运转数据,与成为基准的处理装置(以下称为「基准处理装置」)对应的、由检测器得到的运转数据,如附图说明图11~图15所示地一一加以比较、分析。因此,也有所谓这类处理装置的评价耗时、耗力等问题。其次,这种等离子体处理装置例如在处理容器内的电极上施加高频电力的同时,向处理容器内导入处理气体,在处理容器内产生处理气体的等 ...
【技术保护点】
一种运转监视方法,它是将用附设于处理装置上的多个检测器检测出的各个被处理体上的多个检测值作为运转数据加以利用,监视该处理装置运转的方法,其特征为,用所述运转数据进行多变量分析,评价处理装置的运转状态。
【技术特征摘要】
JP 2000-7-4 201729/00;JP 2000-7-4 201731/001.一种运转监视方法,它是将用附设于处理装置上的多个检测器检测出的各个被处理体上的多个检测值作为运转数据加以利用,监视该处理装置运转的方法,其特征为,用所述运转数据进行多变量分析,评价处理装置的运转状态。2.根据权利要求1所述的运转监视方法,其特征为,进行主因素分析以作为所述多变量分析。3.一种运转监视方法,它是将用附设于等离子体处理装置上的多个检测器检测出的多个检测值作为运转数据加以利用,监视该等离子体处理装置运转的方法,其特征为,对预先作为基准的多个被处理体,分别得到多个运转数据,并且用由此得到的运转数据进行主因素分析,用该主因素分析的结果,评价等离子体处理装置的运转状态。4.根据权利要求3所述的运转监视方法,其特征为,用第1主因素所得值作为所述主因素分析的结果。5.根据权利要求4所述的运转监视方法,其特征为,用所述第1主因素所得值的离散值,判断运转停止时间。6.根据权利要求3所述的运转监视方法,其特征为,用第2主因素所得值作为所述主因素分析的结果。7.一种运转监视方法,它是将用附设于处理装置上的多个检测器检测出的各个被处理体上的多个检测值作为运转数据加以利用,监视处理装置运转的方法,其特征为,将所述运转数据分为相对贡献率高的主因素和贡献率低的主因素,并且求出属于所述贡献率低的主因素的运转数据的残差矩阵,根据从该残差矩阵得到的残差所得值评价处理装置的运转状态。8.一种处理装置的评价方法,它是将用附设于处理装置上的多个检测器检测出各个被处理体上的多个检测值作为运转数据加以利用,评价多个处理装置间的特性差的方法,其特征为,它包含以下工序用基准处理装置得到多个被处理体的各自第1运转数据的工序;用所述第1运转数据进行多变量分析的工序;用所述基准处理装置和应比较的比较处理装置,得到多个被处理体的各自第2运转数据的工序;把所述第2运转数据填入所述多变量分析结果内、得到分析结果的工序,以及通过对由所述第1运转数据产生的分析结果和由所述第2运转数据产生的分析结果加以比较,评价处理装置间性能差的工序。9.一种处理装置的评价方法,它是将用附设于处理装置上的多个检测器检测出的各个被处理体上的多个检测值作为运转数据加以利用,评价多个处理装置间的特性差的方法,其特征为,它包含以下工序用基准处理装置得到多个被处理体的各自第1运转数据的工序;用所述第1运转数据进行主因素分析,求出残差矩阵的工序;用所述基准处理装置和应比较的比较处理装置,得到多个被处理体的各自第2运转数据的工序;把所述第2运转数据填入所述多变量分析结果内、求出残差矩阵的工序;以及通过对由所述第1运转数据产生的分析结果和由所述第2运转数据产生的分析结果加以比较,评价处理装置间性能差的工序。10.根据权利要求9所述的处理装置的评价方法,...
【专利技术属性】
技术研发人员:坂野真治,仙洞田刚士,
申请(专利权)人:东京毅力科创株式会社,
类型:发明
国别省市:JP[日本]
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