本发明专利技术公开了一种在镀金属层的高分子材料膜上进行漫反射处理的方法，步骤为：①确定光栅点阵的分辨率；②确定光栅像素的光栅间距；③按随机取向规则确定光栅像素的取向；④根据上述确定的光栅点阵的参数，利用全息点阵光刻机在光刻胶版上刻蚀出随机光栅点阵；⑤将刻有随机光栅点阵的光刻胶版制成模压版，将随机光栅点阵模压在镀金属层的高分子材料膜上。在随机光栅点阵（漫反射）区域上制作条形码或与激光全息防伪标识共同使用，可实现综合防伪。在该方法形成的漫反射区域内制作的条形码能采用通用条码扫描器正确读取条码信息，在实际应用中有着重要的意义。本发明专利技术方法克服了在镀金属塑料膜上以及类似具有镜面反射特性的载体上无法直接使用条形码的问题。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于激光全息防伪
，具体涉及在镀金属层的高分子材 料膜上进行漫反射处理的方法，在进行漫反射处理后的高分子材料膜上制 作的条形码可以采用普通扫描器读取信息。
技术介绍
条形码技术是一种快速、准确的自动识别技术，为物品管理和世界各 国的经贸交往提供了一种极其简便而通用的方法，在商品流通、物资管理、 工业过程控制、交通运输、医药、邮电、金融、图书资料管理、安全防护 以及办公自动化等方面得到了越来越广泛的应用。条形码信息是由"0"和"1"的比特流组成的，利用印制的条符宽度、条符之间的间隔宽度以及间隔的相对位置来进行编码，通过条码打印机在 条码标签上打印后，条码扫描器就能识别。因此，条码标签载体上的条码 打印效果对条码信息识别显得尤其重要。通常，条形码制作在白纸上，白纸具有漫反射特性，扫描读取时条形 码的光电信息向各个方向反射，总可以有信号进入扫描接收器，很容易正 确读取数据。将条形码制作在镀金属(例如铝、锌、铬，等等)塑料膜上 的时候，由于镀金属塑料膜具有镜面反射特性，扫描读取时条形码的信息 按照反射定律只能向一定的方向反射，不能保证一定有信号进入扫描接收 器，也就无法保证条形码信息的读取。为了解决在镀金属塑料膜上制作的 条形码难以读出的问题， 一般是在印制条形码的区域印刷一层白色油墨作 为衬底，白色油墨的衬底也具有漫反射特性。以白色油墨作为背景，可以 印制条形码。对于激光全息防伪标识，也存在上述同样的问题。激光全息防伪标识 是通过全息模压工艺，在镀金属塑料薄膜上压制全息干涉条纹，因而产生出绚丽多彩的全息效果。由于薄膜上的镀金属层起着镜面反射的作用，如 果直接在激光全息防伪标识上制作条形码，然后采用条码扫描器进行条码 读取，是无法正确读取条码信息的。当然，也可以在激光全息防伪标识上 印刷一层白色油墨，再以白色油墨作为背景，印制条形码。但这一方法实 施起来比较麻烦，而且也破坏了全息防伪标识的整体外观。要实现条形码 与激光全息防伪标识的有机融合，也必须研究制作全息标识表面上产生漫 反射效果的原理和产生条件，使得条形码区域和全息图案浑然一体，仿冒 者也难以伪造。 .镀金属层的高分子材料膜包括镀金属塑料膜和带有金属镀层的烫印材 料等高分子材料。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种在镀金属层的高分子材料膜上进行漫反射 处理的方法，在进行漫反射处理后的镀金属塑料膜上制作的条形码可以采 用现有条码扫描器正确读取。本专利技术提供的， 其步骤包括(1) 确定光栅点阵的分辨率；(2) 确定光栅像素的光栅间距；(3) 按随机取向规则确定光栅像素的取向；(4) 根据上述确定的光栅点阵的参数，利用全息点阵光刻机在光刻胶 版上刻蚀出随机光栅点阵；(5) 将刻有随机光栅点阵的光刻胶版制成模压版，将随机光栅点阵模 压在镀金属层的高分子材料膜上。上述步骤(3)可以按下述规则制作光栅点阵以坐标原点为顶点作i条射线，将坐标平面的半平面等分成i+2个扇 型区域，i条射线和X轴、Y轴分别记作Sh S2、 、 Si， Si+1、 Si+2， i^2;制作每一个光栅像素时，用计算机产生一个取值范围为1至i+2的随机数k， 光栅像素按射线Sk取向，即光栅线垂直于射线Sk。本专利技术在镀金属层的高分子材料膜表面形成漫反射区域，在漫反射区 域上制作条形码。本专利技术方法还可以与激光全息防伪标识共同使用，扩大 激光全息防伪标识的应用范围，实现综合防伪。在该方法形成的漫反射区域内制作的条形码能采用通用的条码扫描器(例如CIPHER 1021系列的条 码扫描器)正确读取条码信息，在实际应用中有着重要的意义。本专利技术方 法克服了在镀金属层的高分子材料膜(包括镀金属塑料膜，激光全息防伪 标识)上以及类似具有镜面反射特性的载体上无法直接使用条形码的问题。具体而言，本专利技术具有以下特点(1) 解决了在镀金属层的高分子材料膜上直接制作的条形码不能读取信息的问题；(2) 在激光全息防伪标识上采用本专利技术的方法处理后，可以在激光全息 防伪标识上直接印制条形码，条形码信息可以采用条码扫描器自动读取。 条形码与激光全息防伪标识组成为一体，使标识增加了条形码的功能，反 过来，条形码标签具有了激光全息的美观效果，相得益彰。当采用随机条 形码或数字变化条形码时，激光全息防伪标识的防伪力度可以大大增强。(3) 该方法仍然利用现有的条码打印机和普通条码扫描器，扩大了条形 码的应用范围，增强了激光全息防伪标识的功能和作用。附图说明图l为点阵全息示意图。图2为步骤3实施的说明图例。图3为在激光全息标识上制作的漫反射背景区域。图4为打印有防伪条形码的激光全息标识示意图。具体实施例方式本专利技术采用点阵全息的方法，在镀金属层的高分子材料膜上研究制作具有漫反射效果的区域。本专利技术采用点阵全息技术，在全息标识制版过程中制作具有"漫反射" 效果的随机光栅点阵。在这种漫反射区域印制条形码，可以用条码扫描器 正确地读出条形码数据。点阵全息图是由大量按一定规则排列的像素点组成，这些像素点本身 又具有精细的衍射光栅结构，因此这些像素点被称为光栅像素，如图1所 示。对于每个光栅像素，有两个基本的参数， 一个是光栅像素的"光栅间距"(栅距)d，它由两束相干光的夹角e决定，栅距d可以定量地表示为 d=a / sine)。其中，人是使用的激光的波长。另一个参数就是"光栅像素的取向"，例如图i中的光栅像素i为水平取向，光栅像素2为垂直取向，光栅像素3为45度取向，光栅像素4为135 度取向。光栅像素的取向决定了光的衍射方向。相同方向的光线照射到取向不 同的光栅像素上，从光栅像素上衍射出来的光的方向也是各不相同的。本 专利技术就是利用光栅像素的这一特点，随机安排光栅像素的取向，这种由大 量随机取向的光栅像素组成的光栅点阵(称为随机光栅点阵)，就具有漫反 射的效果。本专利技术利用全息点阵光刻机，采用"随机光栅点阵"在镀金属层的高 分子材料膜(例如全息标识)表面制作"漫反射"区域，在漫反射区域制 作条形码。本专利技术制作随机光栅点阵方法的步骤包括(1) 选定光栅点阵的分辨率。光栅点阵分辨率的选择范围很宽，可以 从几十dpi到数千dpi，分辨率越高越好，目前全息点阵光刻机的分辨率通 常都在2000dpi以上，分辨率的要求很容易满足。(2) 选定光栅像素的光栅间距。如前所述，光栅间距由全息点阵光刻机的两束相干光夹角e决定，光栅间距d=a / sine)。其中，X是全息点阵光刻机使用的激光的波长。因此，选定光栅间距实际上是选择两束相干光的夹角e， e的选择范围是o°<e<i8o°。例如，全息点阵光刻机中使用氦镉激光器，其波长为441.6纳米，选 定两束相干光的夹角e为30度，则光栅间距为883. 2纳米。(3) 以坐标原点为顶点，作若干条射线，将坐标平面的上半平面等分 成许多不同的扇型区域。例如，作Sb S2、 S3……Ss八条射线，连同X、 Y 轴，将坐标平面的上半平面等分成10个扇型区域，如图2(a)所示。通常射 线的条数不少于2条就可以了，如图2(b)， S9和Su)两条射线，连同X、 Y 轴，将坐标平面的上半平面等分成4个扇型区域。(4) 按随机取向规则制作光栅点阵。设第m行第n列的光栅像素用Jmn 表示，例如，左上本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种在镀金属层的高分子材料膜上进行漫反射处理的方法，其步骤包括：（１）确定光栅点阵的分辨率；（２）确定光栅像素的光栅间距；（３）按随机取向规则确定光栅像素的取向；（４）根据上述确定的光栅点阵的参数，利用全息点 阵光刻机在光刻胶版上刻蚀出随机光栅点阵；（５）将刻有随机光栅点阵的光刻胶版制成模压版，将随机光栅点阵模压在镀金属层的高分子材料膜上。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：曹汉强，陈汝钧，
申请(专利权)人：华中科技大学，
类型：发明
国别省市：83[中国|武汉]
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