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本发明公开了一种在镀金属层的高分子材料膜上进行漫反射处理的方法，步骤为：①确定光栅点阵的分辨率；②确定光栅像素的光栅间距；③按随机取向规则确定光栅像素的取向；④根据上述确定的光栅点阵的参数，利用全息点阵光刻机在光刻胶版上刻蚀出随机光栅点阵；...
该专利属于华中科技大学所有，仅供学习研究参考，未经过华中科技大学授权不得商用。

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