一种晶圆清洗机台清洗液泄漏的自动处理装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术提供了一种晶圆清洗机台清洗液泄漏的自动处理装置，用于处理晶圆清洗机台防漏盘上渗漏出的清洗液，它包括漏水感应传感器，配有抽水管的抽水器、抽水控制器；抽水器的抽水管连接到防漏盘上，漏水感应传感器置于防漏盘上方并与抽水控制器连接。当防漏盘上出现泄漏的清洗液时，在不终止机台当前的清洗进程下，漏水感应传感器将输出信号传动给抽水控制器，从而抽水控制器启动抽水器开始工作抽出防漏盘上的清洗液。这样可有效解决原晶圆清洗机台中清洗液泄漏的传感控制电路强制性终止机台当前进程导致晶圆报废的问题。（*该技术在2018年保护过期，可自由使用*）

Automatic treatment device for cleaning liquid leakage of wafer cleaning machine

The utility model provides a wafer automatic processing equipment of machine cleaning fluid leakage cleaning, cleaning liquid for processing wafer cleaning machine leak disc leaked out, it includes Water Leakage sensor, equipped with a pumping device, pumping controller for pumping pipe; a water pump pumping tube connected to the leak proof plate, Water Leakage induction sensor in leak proof the top plate is connected with the pumping controller. When the cleaning fluid leakage occurred leak proof plate, without terminating the current process of cleaning machine, Water Leakage induction sensor output signal transmission to the controller and the controller to start pumping, pumping water pump to work out the cleaning liquid on the disc leak. In this way, the sensing control circuit of the cleaning liquid leakage in the original wafer cleaning machine can be effectively solved, and the current process of the compulsory termination of the machine lead to the scrap of the wafer.

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及晶圆清洗机台自动控制领域，尤其涉及晶圆清洗机台的清 洗液存在泄漏时的自动处理装置。
技术介绍
集成芯片制作均是在高洁净度环境中生产制造的，因此对芯片本身，即生 产制作过程中的晶圆表面也有十分严格的要求。因此，清洗晶圓是半导体制程 中常见的一道工序。清洗晶圆是在特定的晶圆清洗机台中依次进行不同的清洗 步骤，待所有清洗步骤完成之后，就会把清洗完毕的晶圓放入具有较高洁净度 的晶罩盒中去。然而，由于清洗机台中的各个清洗步骤使用的清洗液大部分是 液体，在这些清洗液体的输送管路之中容易出现泄漏的情况。传统的晶圆清洗 机台的监测系统中的传感器监测电路，当检测到有液体发生泄漏时，就会自动 报警，并会同时强制性地终止清洗机台的工作。当清洗机台突然停止时，会使停留在清洗机台中尚未完成清洗步骤的晶圆 长时间停留在清洗液或较高温度的热水中，使得晶圆上芯片出现缺陷，导致停 留在清洗机台中的晶圓报废，造成晶圆的浪费。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种晶圆清洗机台清洗液泄露的自动处理装 置，以解决目前晶圆清洗机台的清洗液存在泄漏时强行终止机台工作而造成停 留在清洗机台中晶圆报废的问题。为达到上述目的，采用本技术的晶圆清洗机台清洗液泄漏的自动处理 装置取代晶圆清洗机台原来的传感器报警终止进程系统。该清洗液泄露的自动 处理装置用于处理晶圆清洗机台防漏盘上渗漏出的清洗液，它包括漏水感应传感器，配有抽水管的抽水器、抽水控制器；抽水器的抽水管连接到防漏盘上，漏水感应传感器置于防漏盘上方并与抽水控制器连接；漏水感应传感器将感应 的清洗液泄漏信号传送给抽水控制器，抽水控制器从而控制抽水器开始工作。 进一步地，漏水感应传感器为光感传感器。抽水器为真空抽水器，真空抽水器 配有输入气体管。抽水控制器包括控制真空抽水器输入气体管的启动阀和控制 启动阀的开关阀，开关阀的输出端与启动阀连接，开关阀的输入端与漏水感应 传感器连接。开关阀的输出端还与信号灯和蜂鸣器连接。启动阀为电子阀，开 关阀为直流继电器。真空抽水器置于一抽水器皿内。抽水器皿上端开有通气孔， 下端连接排水管。与原晶圆清洗机台中清洗液泄漏的传感控制电路相比，本技术的晶圆 清洗机台清洗液泄漏的自动处理装置可当晶圆清洗机台发生清洗液泄漏时，不 终止机台当前的清洗进程的情况下，用抽水装置将防漏盘上的水抽出，便于处 在晶圆清洗机台中晶圓完成所有清洗步骤装入晶罩盒后再停止机台进行检测和 维修，解决原清洗液泄漏的传感控制电路出现漏水就强行终止当前清洗进程时 导致清洗机台中晶圆报废的问题。以下结合附图和具体实施例对本技术的晶圆清洗机台清洗液泄漏的自 动处理装置作进一步详细具体地说明。附图说明图1是本技术的晶圆清洗机台清洗液泄露的自动处理装置示意图。具体实施方式请参阅图1,本技术的清洗液泄露的自动处理装置，用于处理晶圓清洗 机台防漏盘上渗漏出的清洗液。它包括漏水感应传感器2，配有抽水管7的抽水 器5、抽水控制器；抽水器5的抽水管7连接到防漏盘1上，漏水感应传感器2 置于防漏盘1上方并与抽水控制器连接。漏水感应传感器2为光感传感器。抽 水器5为真空抽水器，真空抽水器5配有输入气体管6。抽水控制器包括控制真 空抽水器输入气体管的启动阀4和控制启动阀的开关阀3,开关阀3的输出端与 启动阀4连接，开关阀3的输入端与漏水感应传感器2连接。开关阀3的输出 端还与信号灯9和蜂鸣器IO连接。启动阀4为电子阀，开关阀3为直流继电器。真空抽水器5置于一抽水器皿8内。抽水器皿8上端开有通气孔11,下端连接 排水管12。当晶圆清洗^/L台工作正常时，为开关阀的继电器3的触头和A触头接触。 然而当晶圆清洗才几台中的清洗液发生泄漏，防漏盘上1上出现泄漏的液体。由 于泄漏的液体会改变光感传感器2接收光线的折射率。从而光感传感器2向作 为开关阀的继电器3输出信号，继电器3的触头和B触头接通，从而打开真空 抽水器5的输入气体管6，真空抽水器5开始工作。继电器3的触头和B触头接 触的同时会打开用于报警的信号灯9和蜂鸣器10提醒工作人员晶圓清洗机台清 洗液发生泄漏。真空抽水器5通过抽水管7抽出防漏盘1上的泄漏出的清洗液， 并将清洗液排到抽水器皿8内，通过抽水器皿8下方的排水管12将泄漏出的清 洗液排出。在抽水器皿8上方开有通气孔11以平衡抽水器皿8内的气压。待当 前停留在晶圆清洗机台中的晶圆清洗完毕送入晶罩盒后，可对晶圓清洗机台进 行检测和维f务。通过采用本技术清洗液的自动处理装置替代原晶圓清洗机台清洗液泄 漏的传感控制电路，当清洗机台出现清洗液漏水时，该装置自动抽出泄漏出的 清洗液，并不停止当前晶圓清洗机台中正在执行的清洗步骤，这样有较多时间 待当前晶圆清洗机台中晶圆清洗完毕送入晶罩盒后再停下晶圆清洗机台进行检 测和维修。该清洗液的自动处理装置可解决原清洗液泄漏的传感控制电路存在 遇到清洗液泄漏就终止当前晶圆清洗机台进行的清洗进程而导致当前清洗机台 中晶圆因较长时间停留在清洗液出现报废的问题。权利要求1、一种晶圆清洗机台清洗液泄漏的自动处理装置，用于处理所述晶圆清洗机台防漏盘上渗漏出的清洗液，其特征在于，它包括漏水感应传感器，配有抽水管的抽水器、抽水控制器；所述抽水器的抽水管连接到所述防漏盘上，所述漏水感应传感器置于所述防漏盘上方并与抽水控制器连接；所述漏水感应传感器将感应的清洗液泄漏信号传送给抽水控制器，抽水控制器从而控制所述抽水器开始工作。2、 如权利要求1所述的清洗液泄露的自动处理装置，其特征在于，所述的漏水 感应传感器为光感传感器。3、 如权利要求1所述的清洗液泄露的自动处理装置，其特征在于，所述的抽水 器为真空抽水器，所述真空抽水器配有输入气体管。4、 如权利要求3所述的清洗液泄露的自动处理装置，其特征在于，所述抽水控 制器包括控制所述真空抽水器输入气体管的启动阀和控制所述启动阀的开关 阀，所述开关阀的输出端与启动阀连接，所述开关阀的输入端与所述漏水感应 传感器连接。5、 如权利要求4所述的清洗液泄露的自动处理装置，其特征在于，所述开关阀 的输出端还与信号灯和蜂鸣器连接。6、 如权利要求4所述的清洗液泄露的自动处理装置，其特征在于，所述启动阀 为电子阀，所述开关阀为直流继电器。7、 如权利要求3所述的清洗液泄露的自动处理装置，其特征在于，所述真空抽 水器置于一抽水器^内。8、 如权利要求7所述的清洗液泄露的自动处理装置，其特征在于，所述抽水器 皿上端开有通气孔，下端连接排水管。专利摘要本技术提供了一种晶圆清洗机台清洗液泄漏的自动处理装置，用于处理晶圆清洗机台防漏盘上渗漏出的清洗液，它包括漏水感应传感器，配有抽水管的抽水器、抽水控制器；抽水器的抽水管连接到防漏盘上，漏水感应传感器置于防漏盘上方并与抽水控制器连接。当防漏盘上出现泄漏的清洗液时，在不终止机台当前的清洗进程下，漏水感应传感器将输出信号传动给抽水控制器，从而抽水控制器启动抽水器开始工作抽出防漏盘上的清洗液。这样可有效解决原晶圆清洗机台中清洗液泄漏的传感控制电路强制性终止机台当前进程导致晶圆报废的问题。文档编号G05B11/32GK201161240SQ200820055659公开日2008年12月10日 申请日期本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种晶圆清洗机台清洗液泄漏的自动处理装置，用于处理所述晶圆清洗机台防漏盘上渗漏出的清洗液，其特征在于，它包括漏水感应传感器，配有抽水管的抽水器、抽水控制器；所述抽水器的抽水管连接到所述防漏盘上，所述漏水感应传感器置于所述防漏盘上方并与抽水控制器连接；所述漏水感应传感器将感应的清洗液泄漏信号传送给抽水控制器，抽水控制器从而控制所述抽水器开始工作。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：王重任，孙顾华，孙涛，
申请(专利权)人：中芯国际集成电路制造上海有限公司，
类型：实用新型
国别省市：31[中国|上海]