The invention discloses a method for eliminating false alarms of graph matching degree, which includes: step 1, checking graph matching degree and outputting matching area; step 2, setting checking area in matching area; step 3, checking area removing rectangular matching area to form temp1 figure; step 4, checking area removing all matching areas to form temp2 figure; step 5, checking area removing The extended graphics of all matching areas form temp3 graphics; step 6, temp1 graphics remove temp2 graphics to form temp4 graphics; step 7, temp2 graphics and temp4 graphics have common edges to form temp5 graphics; step 8, temp5 graphics remove temp3 graphics to form the first kind of graphics; step 9, temp2 graphics select the second kind of graphics whose width is larger than the set value; step 10, step 8 and step 9 The graphics are aggregated into the final graphics to be checked. By XOR processing and graph selection, the invention can effectively eliminate errors in graph matching checking, greatly improve efficiency, and is not affected by SRAM graphic features.
【技术实现步骤摘要】
滤除图形匹配度误报错的方法
本专利技术属于半导体集成电路设计中的光学临近效应修正技术,具体涉及一种滤除图形匹配度误报错的方法,主要用于芯片版图中重复单元的匹配性检查。
技术介绍
目前,PM(PatternMatch,即图形匹配度)在半导体集成电路行业内的应用越来越广泛,这项技术通常应用于工艺热点的检查,运用PM技术查找相似图形,以进一步辅助光学临近修正(OpticalProximityCorrection,即OPC)。随着PM技术的不断发展,其应用范围逐渐扩展,其中包括在静态随机存取存储器(StaticRandom-AccessMemory,即SRAM)中进行图形匹配度检查。SRAM的图形特征是拥有大量的重复单元,并且随着半导体技术节点往越来越小尺寸的方向发展,这种重复单元的光学临近修正一致性要求也越来越高,而PM技术正好可以检查版图中重复单元的匹配性。但是,由于SRAM图形的边缘和中间沟道的图形不同于标准单元,因此PM技术在应用时会出现大量的误报错,这就造成人工审核时效率低下且有漏检的风险。
技术实现思路
本专利技术要解决的技术问题是提供一种滤除图形匹配度误报错的方法,可以解决利用PM技术对SRAM图形进行检查时出现大量误报错的问题。为解决上述技术问题,本专利技术提供的滤除图形匹配度误报错的方法,包括如下步骤:步骤1,利用PM技术进行SRAM图形匹配度检查,输出匹配区域;步骤2,在匹配区域中设置检查区域;步骤3,检查区域去除矩形结构的匹配区域形成中间图形temp1;步骤4,检查区域去除所有匹配区域形成中间图形temp2;步骤5,检查区域去除所有匹配区域的延伸 ...
【技术保护点】
1.一种滤除图形匹配度误报错的方法,其特征在于,包括如下步骤:步骤1,利用PM技术进行SRAM图形匹配度检查,输出匹配区域;步骤2,在匹配区域中设置检查区域;步骤3,检查区域去除矩形结构的匹配区域形成中间图形temp1;步骤4,检查区域去除所有匹配区域形成中间图形temp2;步骤5,检查区域去除所有匹配区域的延伸图形形成中间图形temp3;步骤6,中间图形temp1与中间图形temp2进行异或运算形成中间图形temp4;步骤7,中间图形temp2与中间图形temp4有共同边的图形形成中间图形temp5;步骤8,中间图形temp5与中间图形temp3进行异或运算形成需要人工审核的第一类图形;步骤9,在中间图形temp2中选取需要人工审核的第二类图形;步骤10,步骤8形成的第一类图形和步骤9形成的第二类图形的合集为最终需进一步检查的图形。
【技术特征摘要】
1.一种滤除图形匹配度误报错的方法,其特征在于,包括如下步骤:步骤1,利用PM技术进行SRAM图形匹配度检查,输出匹配区域;步骤2,在匹配区域中设置检查区域;步骤3,检查区域去除矩形结构的匹配区域形成中间图形temp1;步骤4,检查区域去除所有匹配区域形成中间图形temp2;步骤5,检查区域去除所有匹配区域的延伸图形形成中间图形temp3;步骤6,中间图形temp1与中间图形temp2进行异或运算形成中间图形temp4;步骤7,中间图形temp2与中间图形temp4有共同边的图形形成中间图形temp5;步骤8,中间图形temp5与中间图形temp3进行异或运算形成需要人工审核的第一类图形;步骤9,在中间图形temp2中选取需要人工审核的第二类图形;步骤10,步骤8形成的第一类图形和步骤9形成的第二类图形的合集为最终需进一步检查的图形。2.根据权利要求1所述的滤除图形匹配度误报错的方法,其特征在于,在步骤2中,所述检查区域的各边界与匹配区域的相邻边界之间的间距为1μm~3μm。3.根据权利要求1所述的滤除图形匹配度误报错的方法,其特征在于,在步骤9中,所述第二类图形为中间图形temp2中宽度大于...
【专利技术属性】
技术研发人员:顾婷婷,陈翰,张辰明,
申请(专利权)人:上海华力微电子有限公司,
类型:发明
国别省市:上海,31
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