The invention discloses an PCB fine line electrolytic etching and copper recovery correlation technology. The technical essentials include the following steps: (1) circuit pretreatment: removing oil stains and rust stains on the surface of copper plate, and micro-corrosion on the surface of copper to facilitate the pressing treatment; (2) pressing film: pasting photoresist dry film on the surface of copper substrate; (3) exposure: imaging by laser direct imaging technology; (4) development: using liquid medicine and dry film (5) electrolytic etching and recovery of copper: in the electrolytic system, the developed copper clad plate is used as the anode, and the bare copper foil without dry film is dissolved by electrochemical reaction, while the copper plate is used as the cathode for deposition and recovery. Metallic copper; (6) stripping: using strong alkali to remove the dry film on the line graph, fine lines are obtained. The invention can recover copper while manufacturing PCB fine circuit, not only can obtain high quality PCB fine circuit, but also can recover copper, avoid waste of resources, reduce pollution of environment caused by three wastes discharged from PCB industry, and realize sustainable development of PCB industry.
【技术实现步骤摘要】
一种PCB精细线路电解蚀刻与铜回收关联技术
本专利技术是一种印制电路板精细线路的制作方法,在精细线路制作的同时回收电解液中的金属铜,通过电解蚀刻法制得的线路质量高、侧蚀小,不仅提高了精细线路的质量,还能回收金属铜,减少了资源的消耗和浪费,降低PCB行业三废排放对环境的污染。属于清洁环保的电子产品制造领域。
技术介绍
随着电子工业的迅速发展,作为元器件载体的印制电路板也不断向着精细,高阶的方向发展。印制电路板精细线路的制作是PCB生产中的一个重要环节,传统的精细线路制作方法主要有减成法、半加成法和全加成法。全加成法由于导电线路与基材结合力不牢固而很少使用,减成法和半加成法都存在蚀刻工艺。蚀刻过程中由于蚀刻液的强腐蚀性会导致线路侧蚀严重,不仅严重地影响了线路质量,而且蚀刻后的废液中含铜量高,废液的处理难度大,大多数PCB制造厂都没有蚀刻废液处理工艺,而是将蚀刻废液转运到专门的废水处理厂进行金属回收。由此可知,传统PCB精细线路的制作方法是一个高消耗、高污染、高成本的生产方法。因此,研发一种线路质量高、环境友好的PCB精细线路制作方法迫在眉睫。而电解蚀刻作为一种环保、资源节约型的精细线路制作法完美地契合了当今清洁环保,可持续发展的生产理念。电解蚀刻是以电化学原理为基础,在外电场的作用下,阳极发生氧化反应,将PCB线路板上裸露的铜箔溶解掉,在阴极发生还原反应,将电解液中的金属铜离子还原为金属铜沉积在阴极板上。通过电解蚀刻不仅能提高PCB精细线路的质量,还能将溶解掉的金属铜回收。此种方法可谓一举两得。申请号为201210194058.5的中国专利公开了“一种 ...
【技术保护点】
1.一种印制电路板精细线路电解蚀刻与铜回收关联技术,其特征在于,包括如下步骤:(1)将覆铜基板经过压膜前处理生产线进行表面处理;(2)在经过前处理的覆铜基板上压一层光致抗蚀干膜;(3)经曝光、显影处理,获得有干膜覆盖的精细线路,以及需要蚀刻的无干膜覆盖的铜箔;(4)电解蚀刻线路与金属铜回收:在电解体系内,将经曝光、显影处理的覆铜板作为阳极,铜板作为阴极。利用电化学反应溶解掉无干膜覆盖的裸露铜箔,同时,在阴极沉积回收金属铜;(5)剥膜:将覆盖在线路上的抗蚀干膜去除,经过清洗、烘干后即可得到所需的精细线路。
【技术特征摘要】
1.一种印制电路板精细线路电解蚀刻与铜回收关联技术,其特征在于,包括如下步骤:(1)将覆铜基板经过压膜前处理生产线进行表面处理;(2)在经过前处理的覆铜基板上压一层光致抗蚀干膜;(3)经曝光、显影处理,获得有干膜覆盖的精细线路,以及需要蚀刻的无干膜覆盖的铜箔;(4)电解蚀刻线路与金属铜回收:在电解体系内,将经曝光、显影处理的覆铜板作为阳极,铜板作为阴极。利用电化学反应溶解掉无干膜覆盖的裸露铜箔,同时,在阴极沉积回收金属铜;(5)剥膜:将覆盖在线路上的抗蚀干膜去除,经过清洗、烘干后即可得到所需的精细线路。2.根据权利要求1所述的一种印制电路板精细线路电解蚀刻与铜回收关联技术,其特征在于,步骤(1)中的表面处理是将覆铜板的表面进行粗化处理:所用的表面粗化药液主要为H2SO4和H2O2。其中,处理线速1.5-2.5M/min,H2SO4浓度为30-70mL/L,H2O2的浓度为25-55mL/L。3.根据权利要求1所述的一种印制电路板精细线路电解蚀刻与铜回收关联技术,其特征在于,步骤(2)中所用的抗蚀干膜为抗酸性的光致抗蚀干膜。干膜厚度为25μm。4.根据权利要求1所述的一种印制电路板精细线路电解蚀刻与铜回收关联技术,其特征在于,步骤(2)中的压膜参数为:压膜线速1.5M/min-1.8M/min,压膜轮温度为120℃,贴膜压力为0.6MPa,贴膜温度为55℃-65℃。5.根据权利要求1所述的一种印制电路板精细线路电解蚀刻与铜回收关联技术,其特征在于,步骤(3)中的曝光处理是利用LDI激光直接成像技术,曝光能量为14mj/cm2。6.根据权利要求1所述的一种印制电路板精细...
【专利技术属性】
技术研发人员:付登林,陈际达,鲁蓝锶,廖超慧,文亚男,鄢婷,覃新,赖明生,
申请(专利权)人:江苏博敏电子有限公司,重庆大学,
类型:发明
国别省市:江苏,32
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