一种显示面板的制作方法以及显示面板技术

本发明专利技术提供的显示面板的制作方法以及显示面板，提供一基板，其中，基板包括显示区和非显示区，在基板上形成光刻胶层，并通过曝光显影工艺在光刻胶层上形成第一光刻胶保留区域和第二光刻胶保留区域，在形成光刻胶图案的基板上涂敷遮光材料，并对遮光材料进行曝光显影，以在基板的非显示区上形成遮光层，其中，遮光层在第一光刻胶保留区域上形成第一间隔物，以及在第二光刻胶保留区域上形成第二间隔物。本发明专利技术通过这种方法，保留了制程中需要去除的光刻胶材料，提高了材料的利用率，从而减少显示面板的制作流程，提高了生产效率。

Method for producing display panel and display panel

The invention provides a method for manufacturing a display panel and a display panel, providing a substrate, wherein the substrate comprises a display area and a non-display area, forms a photoresist layer on the substrate, and forms a first photoresist reserve area and a second photoresist reserve area on the photoresist layer through an exposure development process, and forms a photoresist pattern. A light-shielding material is coated on the substrate of the case, and the light-shielding material is exposed to form a light-shielding layer on the non-display area of the substrate, wherein the light-shielding layer forms a first spacer on the first photoresist reserve area and a second spacer on the second photoresist reserve area. By this method, the photoresist material needed to be removed in the process is retained, the utilization ratio of the material is improved, the manufacturing process of the display panel is reduced, and the production efficiency is improved.

【技术实现步骤摘要】
一种显示面板的制作方法以及显示面板
本专利技术涉及显示
，具体涉及一种显示面板的制作方法以及显示面板。
技术介绍
随着科技的发展和社会的进步，液晶显示器被广泛应用于各行各业。例如，薄膜晶体管液晶显示器因具有轻、薄和小等特点，同时功耗低、无辐射以及制造成本相对较低，目前，在平板显示行业应用较为广泛。显示面板作为薄膜晶体管液晶显示器的主要部件，按结构组成可以分为薄膜晶体阵列基板和彩色滤光片基板，传统的显示面板设计中，在彩色滤光片与像素电极对位时，因为对位不佳容易造成漏光、开口率降低以及面板亮度降低等问题。为了解决由于对位不佳造成的漏光、开口率降低以及面板亮度降低等问题，现有的解决方案是将彩色滤光片整合于阵列基板(ColorFileronArray，COA)结合黑矩阵整合于阵列基板(BlackonArray，BOA)的技术，但这种技术在制作流程上较为繁琐，影响了生产效率。
技术实现思路
本专利技术实施例提供一种显示面板的制作方法和显示面板能够减少制作流程，提高了材料的利用率以及生产效率。本专利技术提供了一种显示面板的制作方法，包括：提供一基板，所述基板包括显示区和非显示区；在所述基板上形成光刻胶层，并对所述光刻胶层进行曝光显影，以在所述光刻胶层上形成光刻胶图案，所述光刻胶图案包括第一光刻胶保留区域和第二光刻胶保留区域；在形成所述光刻胶图案的所述基板上涂敷遮光材料，并对所述遮光材料进行曝光显影，以在所述基板的非显示区上形成遮光层，其中，所述遮光层在所述第一光刻胶保留区域上形成第一间隔物，以及在所述第二光刻胶保留区域上形成第二间隔物，且所述第一间隔物的高度高于所述第二间隔物的高度。根据本专利技术一优选实施例，采用第一掩膜板对所述光刻胶层进行曝光显影，以形成光刻胶图案，所述光刻胶图案包括第一光刻胶保留区域和第二光刻胶保留区域。根据本专利技术一优选实施例，所述第一掩膜板包括第一透光区域和第二透光区域，所述第一透光区域在所述光刻胶层上的投影与所述第一光刻胶保留区域重合，所述第二透光区域在所述光刻胶层上的投影与所述第二光刻胶保留区域重合。根据本专利技术一优选实施例，所述第一透光区域的透光度为第一预设值，所述第二透光区域的透光度为第二预设值，所述第一预设值小于所述第二预设值。根据本专利技术一优选实施例，所述第一光刻胶保留区域上的所述光刻胶层的厚度大于所述第二光刻胶保留区域上的所述光刻胶层的厚度。根据本专利技术一优选实施例，采用第二掩膜板对所述遮光材料进行曝光，并对曝光后的遮光材料进行显影，以在所述基板的非显示区上形成遮光层，其中，所述遮光层在所述第一光刻胶保留区域上形成第一间隔物，以及在所述第二光刻胶保留区域上形成第二间隔物，且所述第一间隔物的高度高于所述第二间隔物的高度。根据本专利技术一优选实施例，所述第二掩膜板包括遮光区域和全透光区域，所述遮光区域在所述基板上的投影与所述非显示区重合，所述全透光区域在所述基板上的投影与所述显示区重合。根据本专利技术一优选实施例，所述光刻胶层的材料为正性光刻胶或负性光刻胶。根据本专利技术一优选实施例，所述遮光材料为黑色遮光树脂。相应的，本专利技术还提供了一种显示面板，根据本专利技术任一实例的方法制成。本专利技术提供的显示面板的制作方法以及显示面板，提供一基板，其中，基板包括显示区和非显示区，在基板上形成光刻胶层，并通过曝光显影工艺在光刻胶层上形成第一光刻胶保留区域和第二光刻胶保留区域，在形成光刻胶图案的基板上涂敷遮光材料，并对遮光材料进行曝光显影，以在基板的非显示区上形成遮光层，其中，遮光层在第一光刻胶保留区域上形成第一间隔物，以及在第二光刻胶保留区域上形成第二间隔物。本专利技术通过这种方法，保留了制程中需要去除的光刻胶材料，提高了材料的利用率，从而减少显示面板的制作流程，提高了生产效率。附图说明为了更清楚地说明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为本专利技术实施例提供的显示面板的制作方法的流程示意图；图2～5为本专利技术实施例提供的阵列基板的制作方法的具体步骤示意图；图6为本专利技术一优选实施例提供的显示面板的截面示意图；图7为本专利技术一优选实施例提供的显示面板的流程示意图；图8～14为本专利技术一优选实施例提供的阵列基板的制作方法的具体步骤示意图。具体实施方式下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。实施例一、请参阅图1，图1为本专利技术实施例提供的显示面板的制作方法的流程示意图。所述方法包括：S101、提供一基板，所述基板包括显示区和非显示区；S102、在所述基板上形成光刻胶层，并通过曝光显影工艺在所述光刻胶层上形成光刻胶图案；S103、在形成所述光刻胶图案的所述基板上涂敷遮光材料，并对所述遮光材料进行曝光显影，以在所述光刻胶图案上形成间隔物，并且在所述基板的非显示区上形成遮光层。其中，在步骤S101中，如图2所示，提供一基板101，所述基板包括显示区110和非显示区110，例如，该基板101可以为阵列基板，基板101可以包括显示图像的显示区110以及用于间隔或区分不同像素的非显示区111。其中，在步骤S102中，如图3、图4所示，在所述基板101上形成光刻胶层102，并通过曝光显影工艺在所述光刻胶层102上形成光刻胶图案，所述光刻胶图案包括第一光刻胶保留区域104和第二光刻胶保留区域105。其中，在步骤S103中，如图5所示，在形成所述光刻胶图案的所述基板101上涂敷遮光材料106，并对所述遮光材料106进行曝光显影，以在所述基板101的非显示区111上形成遮光层，其中，所述遮光层在所述第一光刻胶保留区域104上形成第一间隔物107，以及在所述第二光刻胶保留区域105上形成第二间隔物108，且所述第一间隔物107的高度高于所述第二间隔物108的高度。需要说明的是，该第一间隔物107包括第一光刻胶保留区域104和遮光材料106，该第二间隔物108包括第二光刻胶保留区域105和遮光材料106。本专利技术实施例公开了一种显示面板的制作方法以及显示面板；本专利技术实施例通过提供一基板101，其中基板101包括显示区110和非显示区111，在基板101上形成光刻胶层102，并对光刻胶层102进行曝光显影，以在非显示区111上形成光刻胶图案，并且在所述光刻胶图案上涂敷遮光材料106，以在基板101的非显示区111内形成第一间隔物107和第二间隔物108，充分利用了制程中的光刻胶材料，提高了材料的利用率，从而减少显示面板的制作流程，提高了生产效率。实施例二、根据实施例一所述的显示面板的制作方法，以下将举例进一步详细说明。本专利技术实施例将以该显示面板具体集成在薄膜晶体管阵列基板上为例进行说明。请参阅图6，图6为本专利技术一优选实施例提供的显示面板的截面示意图，以第一间隔物与第二间隔物形成在无机薄膜上为例，包括薄膜晶体管阵列基板21，该阵列基板包括显示区210和非显示区本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种显示面板的制作方法，其特征在于，包括：提供一基板，所述基板包括显示区和非显示区；在所述基板上形成光刻胶层，并对所述光刻胶层进行曝光显影，以在所述光刻胶层上形成光刻胶图案，所述光刻胶图案包括第一光刻胶保留区域和第二光刻胶保留区域；在形成所述光刻胶图案的所述基板上涂敷遮光材料，并对所述遮光材料进行曝光显影，以在所述基板的非显示区上形成遮光层，其中，所述遮光层在所述第一光刻胶保留区域上形成第一间隔物，以及在所述第二光刻胶保留区域上形成第二间隔物，且所述第一间隔物的高度高于所述第二间隔物的高度。

【技术特征摘要】
1.一种显示面板的制作方法，其特征在于，包括：提供一基板，所述基板包括显示区和非显示区；在所述基板上形成光刻胶层，并对所述光刻胶层进行曝光显影，以在所述光刻胶层上形成光刻胶图案，所述光刻胶图案包括第一光刻胶保留区域和第二光刻胶保留区域；在形成所述光刻胶图案的所述基板上涂敷遮光材料，并对所述遮光材料进行曝光显影，以在所述基板的非显示区上形成遮光层，其中，所述遮光层在所述第一光刻胶保留区域上形成第一间隔物，以及在所述第二光刻胶保留区域上形成第二间隔物，且所述第一间隔物的高度高于所述第二间隔物的高度。2.根据权利要求1所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述在所述基板上形成光刻胶层，并对所述光刻胶层进行曝光显影，以在所述光刻胶层上形成光刻胶图案，所述光刻胶图案包括第一光刻胶保留区域和第二光刻胶保留区域的步骤，包括：在所述基板上形成光刻胶层，采用第一掩膜板对所述光刻胶层进行曝光显影，以形成光刻胶图案，所述光刻胶图案包括第一光刻胶保留区域和第二光刻胶保留区域。3.根据权利要求2所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述第一掩膜板包括第一透光区域和第二透光区域，所述第一透光区域在所述光刻胶层上的投影与所述第一光刻胶保留区域重合，所述第二透光区域在所述光刻胶层上的投影与所述第二光刻胶保留区域重合。4.根据权利要求3所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述第一透光区域的透光度为第一预设值，所述第二透光区域的透光度为第二预设值，所述第一预设值小于所述第...

【专利技术属性】
技术研发人员：曹武，
申请(专利权)人：深圳市华星光电半导体显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44