研磨液搅拌装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种研磨液搅拌装置，包括：存储机构、旋转机构及搅拌机构，旋转机构包括基座和旋转单元，基座的承载面支撑旋转单元，旋转单元套接在存储机构的外壁上以驱动存储机构绕其中心轴旋转，并且，存储机构的中心轴平行于基座的承载面；搅拌机构具有主动轴和从动轴，从动轴位于存储机构内，主动轴的一端与从动轴连接，另一端伸出存储机构，并且，主动轴的轴线与从动轴的轴线垂直，从动轴末端安装有搅拌叶片，当主动轴旋转时，驱动搅拌叶片随之旋转。本发明专利技术具有使研磨液均匀混合、防止研磨液颗粒沉淀的效果。

Grinding fluid agitator

The invention relates to a grinding fluid stirring device, which comprises a storage mechanism, a rotating mechanism and a stirring mechanism, a rotating mechanism including a base and a rotating unit, a bearing surface of the base supporting a rotating unit, a rotating unit sleeved on the outer wall of the storage mechanism to drive the storage mechanism to rotate around its central axis, and a storage mechanism in the storage mechanism. The mandrel is parallel to the bearing surface of the base; the agitating mechanism has an active shaft and a driven shaft, which are located in the storage mechanism. One end of the active shaft is connected with the driven shaft, and the other end is extended out of the storage mechanism. The impeller is driven to rotate. The invention has the effect of uniformly mixing the grinding fluid and preventing the particle precipitation of the abrasive liquid.

【技术实现步骤摘要】
研磨液搅拌装置
本专利技术涉及半导体制造领域，尤其涉及一种研磨液搅拌装置。
技术介绍
化学机械研磨(CMP)设备在集成电路生产中具有极其重要的作用，化学机械研磨设备的主要部件有研磨头、固定环、研磨机台、研磨垫、研磨液搅拌装置、修整盘以及清洗装置等。其中研磨液搅拌装置的主要作用是对研磨液进行预搅拌，防止研磨液中的研磨颗粒产生沉淀，保证研磨液中的各个组分均匀分布，以及根据研磨机台的实际需求对研磨液进行稀释，然后输送研磨液给研磨机台。由于研磨液在静置一段时间后，研磨颗粒会发生沉淀的现象，特别是当研磨颗粒较大或者含有密度较高的金属氧化物时，例如含有氧化铈、氧化铝等，这种沉淀现象更为明显，所以通过研磨液搅拌装置进行预搅拌是研磨液供给过程中极为重要的一环。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种研磨液搅拌装置，以保证研磨液始终处于流动状态，从而起到防止研磨液颗粒沉淀的作用。为了达到上述目的，本专利技术提供了一种研磨液搅拌装置，包括：存储机构、旋转机构及搅拌机构，所述旋转机构包括基座和旋转单元，所述基座的承载面支撑所述旋转单元，所述旋转单元套接在所述存储机构的外壁上以驱动所述存储机构绕其中心轴旋转，并且，所述存储机构的中心轴平行于所述基座的承载面；所述搅拌机构具有主动轴和从动轴，所述从动轴位于所述存储机构内，所述主动轴的一端与所述从动轴连接，另一端伸出所述存储机构，并且，所述主动轴的轴线与所述从动轴的轴线垂直，所述从动轴末端安装有搅拌叶片，当所述主动轴旋转时，驱动所述搅拌叶片随之旋转。可选的，所述研磨液搅拌装置还包括循环机构，所述循环机构位于所述存储机构的一侧，所述存储机构设置所述循环机构的一侧与设置所述主动轴的一侧相对。可选的，所述循环机构包括循环泵、输入管路及输出管路，所述循环泵具有输入口和输出口，所述输入管路的一端伸入所述存储机构内，另一端与所述循环泵的输入口连接，所述输出管路的一端伸入所述存储机构内，另一端与所述循环泵的输出口连接。可选的，所述旋转机构还包括驱动电机，所述驱动电机驱动所述旋转单元旋转。可选的，所述旋转单元为转动齿轮。可选的，所述从动轴位于所述存储机构的中心位置。可选的，所述搅拌机构还包括搅拌电机，所述搅拌电机与所述主动轴连接以驱动所述主动轴旋转。可选的，所述存储机构的侧壁上设置有第一密封轴承、第二密封轴承及第三密封轴承，所述第一密封轴承位于所述存储机构的侧壁与所述主动轴之间，所述第二密封轴承位于所述存储机构的侧壁与所述输入管路之间，所述第三密封轴承位于所述存储机构的侧壁与所述输出管路之间。可选的，在所述存储机构的外壁上设置有液位检测器，所述液位检测器与所述存储机构底壁之间的距离较所述搅拌叶片与所述存储机构底壁之间的距离大。可选的，所述存储机构的形状为圆柱形。本专利技术通过旋转机构使存储机构沿水平方向绕中心轴旋转，以带动存储机构底部的沉淀物流动，同时将其搅拌机构设置成可转向的搅拌轴，其主动轴从存储机构的侧面一端伸入，并与从动轴垂直连接，通过从动轴末端的搅拌叶片实现搅拌作业，从而起到使研磨液始终处于流动状态，防止研磨液颗粒沉淀的效果。附图说明图1为一种研磨液搅拌装置的结构示意图；图2为本专利技术实施例提供的研磨液搅拌装置的结构示意图。其中，10a-原液桶；31a-电机；32a-搅拌棒；33a-搅拌叶片；41a-循环泵；42a-循环管路；60a-液位检测器；70a-研磨液液位；10-存储机构；20-旋转机构；21-基座；22-旋转单元；30-搅拌机构；31-搅拌电机；32-直角转向搅拌轴；321-主动轴；322-从动轴；33-搅拌叶片；40-循环机构；41-循环泵；42-循环管路；421-输入管路；422-输出管路；51-第一密封轴承；52-第二密封轴承；53-第三密封轴承；60-液位检测器；70-研磨液液位；80-研磨液极限液位。具体实施方式下面将结合示意图对本专利技术的具体实施方式进行更详细的描述。根据下列描述，本专利技术的优点和特征将更清楚。需说明的是，附图均采用非常简化的形式且均使用非精准的比例，仅用以方便、明晰地辅助说明本专利技术实施例的目的。请参阅图1，其为一种研磨液搅拌装置，所述研磨液搅拌装置包括原液桶10a、电机31a、搅拌棒32a、搅拌叶片33a、循环泵41a、循环管路42a、液位检测器60a等，在平底的原液桶10a中放置一个带有搅拌叶片33a的搅拌棒32a，搅拌叶片33a横向与桶底平行，由电机31a驱动搅拌棒32a转动，同时循环泵41a抽动研磨液桶内自循环，使研磨液在桶内保持流动状态，从而达到预搅拌的目的。然而，由于原液桶10a的桶底为平底，而搅拌叶片33a和桶底又有一定距离(10-15cm)，当液位检测器60a检测到桶内液位降到接近搅拌叶片33a时，为防止研磨液飞溅，搅拌叶片33a会停止搅拌，此时，桶底剩余研磨液量较大，仅通过自循环无法完全防止研磨颗粒沉淀。而且，当研磨液中的研磨颗粒含有密度较高的金属氧化物时，限于搅拌速度不能无限提升，导致桶底容易产生沉淀而影响研磨液的颗粒分布均匀性。请参阅图2，其为本实施例提供的研磨液搅拌装置的结构示意图，所述研磨液搅拌装置，包括：存储机构10、旋转机构20及搅拌机构30，所述旋转机构20包括基座21和旋转单元22，所述基座21的承载面支撑所述旋转单元22，所述旋转单元22套接在所述存储机构10的外壁上以驱动所述存储机构10绕其中心轴旋转，并且，所述存储机构10的中心轴平行于所述基座21的承载面；所述搅拌机构30具有主动轴321和从动轴322，所述从动轴322位于所述存储机构10内，所述主动轴321的一端与所述从动轴322连接，另一端伸出所述存储机构10，并且，所述主动轴321的轴线与所述从动轴322的轴线垂直，所述从动轴322末端安装有搅拌叶片33，当所述主动轴321旋转时，驱动所述搅拌叶片33随之旋转。所述旋转机构20驱动存储机构10围绕其中心轴旋转，存储机构10的旋转运动可以带动其底部的沉淀物流动起来，使其内部的研磨液始终处于流动状态，从而起到防止研磨液颗粒沉淀的效果。所述研磨液搅拌装置还包括循环机构40，所述循环机构40位于所述存储机构10的一侧，所述存储机构10设置所述循环机构40的一侧与设置所述主动轴321的一侧相对。所述循环机构40包括循环泵41，具有输入口和输出口；还包括循环管路42，具有输入管路421和输出管路422，所述输入管路421的一端伸入所述存储机构10内，另一端与所述循环泵41的输入口连接，所述输出管路422的一端伸入所述存储机构10内，另一端与所述循环泵41的输出口连接。通过设置循环泵41和循环管路42，循环泵41作业时，经由循环管路42抽动存储机构10内的研磨液实现其自循环，更有效地促使研磨液在其内部处于流动状态。所述旋转单元22为转动齿轮，套接于所述存储机构10的外壁。转动齿轮至少为2个，其旋转轴线方向平行于所述基座21的承载表面，使所述存储机构10绕其中心轴线作旋转运动。所述旋转机构20还包括驱动电机(图中未示出)，并且与转动齿轮啮合有配合齿轮(图中未示出)，驱动电机作业驱动配合齿轮旋转，配合齿轮带动转动齿轮实现旋转运动。所述从动轴322位于所述存储机构10的中心位置，当实施搅拌作业时，以使从动轴322上连接的搅拌叶片33本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种研磨液搅拌装置，其特征在于，包括：存储机构、旋转机构及搅拌机构，所述旋转机构包括基座和旋转单元，所述基座的承载面支撑所述旋转单元，所述旋转单元套接在所述存储机构的外壁上以驱动所述存储机构绕其中心轴旋转，并且，所述存储机构的中心轴平行于所述基座的承载面；所述搅拌机构具有主动轴和从动轴，所述从动轴位于所述存储机构内，所述主动轴的一端与所述从动轴连接，另一端伸出所述存储机构，并且，所述主动轴的轴线与所述从动轴的轴线垂直，所述从动轴末端安装有搅拌叶片，当所述主动轴旋转时，驱动所述搅拌叶片随之旋转。

【技术特征摘要】
1.一种研磨液搅拌装置，其特征在于，包括：存储机构、旋转机构及搅拌机构，所述旋转机构包括基座和旋转单元，所述基座的承载面支撑所述旋转单元，所述旋转单元套接在所述存储机构的外壁上以驱动所述存储机构绕其中心轴旋转，并且，所述存储机构的中心轴平行于所述基座的承载面；所述搅拌机构具有主动轴和从动轴，所述从动轴位于所述存储机构内，所述主动轴的一端与所述从动轴连接，另一端伸出所述存储机构，并且，所述主动轴的轴线与所述从动轴的轴线垂直，所述从动轴末端安装有搅拌叶片，当所述主动轴旋转时，驱动所述搅拌叶片随之旋转。2.如权利要求1所述的研磨液搅拌装置，其特征在于，所述研磨液搅拌装置还包括循环机构，所述循环机构位于所述存储机构的一侧，所述存储机构设置所述循环机构的一侧与设置所述主动轴的一侧相对。3.如权利要求2所述的研磨液搅拌装置，其特征在于，所述循环机构包括循环泵、输入管路及输出管路，所述循环泵具有输入口和输出口，所述输入管路的一端伸入所述存储机构内，另一端与所述循环泵的输入口连接，所述输出管路的一端伸入所述存储机构内，另一端与所述循环泵的输出口连接。4.如...

【专利技术属性】
技术研发人员：李虎，张守龙，赵正元，
申请(专利权)人：上海华力微电子有限公司，
类型：发明
国别省市：上海,31