间接转换检测器阵列制造技术

技术编号:15768547 阅读:140 留言:0更新日期:2017-07-06 19:26
本发明专利技术尤其提供了一种用于辐射成像系统的检测器阵列(300)。该检测器阵列包括多个检测器元件。各个检测器元件尤其包括闪烁体(304)和光电检测器(306)。在一些实施例中,所述检测器元件中的两个或更多个检测器元件之间共用闪烁体。在一些实施例中,两个或更多个检测器元件之间具有很少甚至几乎没有被配置成减轻检测器元件之间的串扰的反射材料。

Indirect conversion detector array

The present invention particularly provides a detector array (300) for a radiation imaging system. The detector array includes a plurality of detector elements. Each detector element includes a scintillator (304) and a photoelectric detector (306) in particular. In some embodiments, a scintillator is shared between two or more detector elements in the detector element. In some embodiments, two or more detector elements have a reflective material that is rarely or almost not configured to mitigate crosstalk between the detector elements.

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】间接转换检测器阵列
本申请涉及辐射成像系统的一种间接转换检测器阵列。本申请尤其适用于医疗、安全和/或工业领域,其中,辐射成像系统用于识别/查看被检查的对象的内部特定部位(aspects)。
技术介绍
如今,诸如计算机断层扫描(CT)系统、数字投影系统和/或行扫描系统之类的辐射成像系统例如对于提供被检查对象的内部特定部分的信息或图像是有用的。对象被暴露于辐射光子(例如,X射线光子、伽马射线光子等)的射线并且穿过对象的辐射光子通过检测器阵列被检测,该检测器阵列被设置成相对于对象与辐射源大体上径向相对。对辐射光子被对象衰减(例如,吸收、散射等)的程度进行测量以确定对象的一个或更多个属性,或者更确切地说,以确定对象的各个特定部位的一个或更多个属性。例如,对象的高度密集的特定表面相对于不太密集的特定表面而言通常会衰减较多的辐射,因此当具有较高密度的特定表面(诸如,骨骼或金属)被不太密集的特定表面(诸如,组织或衣物)所包围时会很明显。检测器阵列包括多个检测器元件,所述多个检测器元件分别被配置成对与检测器阵列的预定部分碰撞的辐射进行检测。检测器元件被配置成直接或间接地将辐射光子转换成电荷。直接转换检测器元件被配置成利用光电导体(例如,非晶硒)将辐射光子直接转换成电荷。间接转换检测器元件被配置成利用闪烁体将辐射光子转换成光,并且利用诸如光电二极管之类的光电检测器将光转换成电荷。对于包括间接转换检测器阵列元件的检测器阵列而言,传统检测器元件不共用同一闪烁体并且不共用同一光电检测器。例如,第一检测器元件的第一闪烁体与相邻检测器元件的第二闪烁体通过被配置成减轻第一闪烁体中生成的光被转移到第二检测器元件的反射材料来隔开。通过这种方式,例如减轻了检测器元件之间的光学串扰。
技术实现思路
本申请的各个方面解决了上述问题以及其他问题。根据一方面,提供了一种检测器阵列。检测器阵列包括闪烁体,所述闪烁体被配置成响应于检测事件生成发光光子。检测器阵列还包括多个光电检测器,所述多个光电检测器位于接近闪烁体的下侧并且被配置成对所述发光光子中的至少一些发光光子进行检测。闪烁体大体上连续地分布在所述多个光电检测器中的至少两个光电检测器上。根据另一方面,提供了一种检测器阵列。检测器阵列包括闪烁体,所述闪烁体被配置成响应于检测事件生成发光光子。检测器阵列还包括多个光电检测器,所述多个光电检测器位于接近闪烁体的下侧并且被配置成对所述发光光子中的至少一些发光光子进行检测。所述多个光电检测器中的至少两个光电检测器共用闪烁体。根据另一方面,提供了一种辐射成像系统。辐射成像系统包括辐射源和检测器阵列,所述辐射源被配置成发射辐射光子,以及检测器阵列包括多个检测器元件。所述多个检测器元件中的第一检测器元件包括共用闪烁体的第一部分以及位于接近所述第一部分的下侧的第一光电检测器。所述多个检测器元件中的第二检测器元件包括共用闪烁体的第二部分以及位于接近所述第二部分的下侧的第二光电检测器。通过阅读和理解所附的说明书,本领域的普通技术人员仍能理解本申请的其他方面。附图说明本申请借助于示例进行说明而并非限定于附图中的各图示,其中,相同的附图标记表示相同的元件,并且在附图中:图1是示出了示例性辐射成像系统的示意性框图;图2是传统检测器阵列的横截面图;图3是包括共用闪烁体的检测器阵列的横截面图;图4示出了示例性检测器阵列的透视图;图5示出了示例性检测器阵列的透视图;以及图6示出了示例性检测器阵列的透视图。具体实施方式现在参考附图对所要求保护的主题进行描述,其中,全文中相似的附图标记用于表示相似的要素。在以下说明书中,出于解释的目的,对各种具体细节进行了阐述以提供对所要求保护的主题的透彻理解。然而,明显的是,在没有这些具体细节的情况下,也可以实现所要求保护的主题。在其他情况下,以框图形式示出了结构和装置,以便于描述所要求保护的主题。根据一些实施例,提供了一种间接转换检测器阵列。该间接转换检测器阵列包括两个或更多个检测器元件所共用的闪烁体。例如,第一检测器元件包括第一光电检测器和共用闪烁体的第一部分。第二检测器元件包括第二光电检测器和所述共用闪烁体的第二部分。因此,考虑到该闪烁体是共用闪烁体,在一些实施例中,第一检测器元件与第二检测器元件之间没有反射材料。此外,因为第一检测器元件与第二检测器元件共用闪烁体,闪烁体中第一光电检测器与第二光电检测器之间存在很少的切线(如果存在切线)。图1示出了辐射成像系统100,该辐射成像系统100可以采用本文所描述的方法和/或系统。在所示出的实施例中,辐射成像系统100是计算机断层扫描(CT)系统,然而本文所述的系统和/或技术也可应用于诸如线扫描系统,乳腺X线摄影系统和/或衍射系统之类的其它辐射成像系统。因此,辐射成像系统100仅提供示例性布置,并且不旨在以限制性方式(例如,必须指定辐射成像系统100中描绘的部件的位置、内含物和/或相对位置)进行解释。例如,在一些实施例中,数据采集部件122(也认为是数据采集系统(DAS))是检测器阵列118的一部分和/或位于检查单元102的旋转台架106上。在示例性辐射成像系统100中,检查单元102被配置成检查对象104(例如,行李箱、货物、患者等)。检查单元102包括旋转台架106和(固定的)支撑结构108,例如,该支撑结构108可包围和/或围绕旋转台架106的至少一部分(例如,如所示出的那样,外部固定环围绕着内旋转环的外边缘)。在对象104的检查期间,将对象104放置在诸如床或传送带之类的支撑件110上,并且放置在检查区域112(例如,旋转台架106中的中空孔)内,在检查区域112中,对象104暴露于辐射120。旋转台架106可以围绕检查区域112的一部分并且可以包括辐射源116(例如,诸如x射线源和/或伽马射线源的电离辐射源)和检测器阵列118。检测器阵列118通常安装在相对于辐射源116的旋转台架106的基本上沿直径相对的一侧,并且在对对象104的检查期间,旋转台架106(例如,包括辐射源116和检测器阵列118)围绕对象104旋转。通常,旋转台架106在其中旋转的平面被定义为x-y平面,对象沿着其平移到检查区域112内和沿着其从检查区域112平移出来的方向称之为z方向。因为辐射源116和检测器阵列118被安装至同一旋转台架106,所以在旋转台架106的旋转期间,检测器阵列118与辐射源116之间的相对位置大体上保持不变。在对象104的检查期间,辐射源116将锥形和/或扇形辐射形态从辐射源116的焦斑(例如,辐射源116内、从其中发散辐射120的区域)发射到检查区域112。这样的辐射120可以大体上连续地发射和/或可以间歇地发射(例如,辐射120的短脉冲被发射之后,接下来是休息时段,在该休息时段期间辐射源116是未激活的)。此外,辐射120可以以单一能量谱或多能量谱进行发射,除此之外,这取决于CT系统是被配置成单一能量CT系统还是被配置成多能量(例如,双能量)CT系统。随着所发射的辐射120穿过对象104,辐射120会在对象104的不同特定部分出现不同程度的衰减。由于不同特定部分衰减不同百分比的辐射120,因此由检测器阵列118中的各个检测器元件所检测到的光子数量和或各个光子的能级会不同。例如,本文档来自技高网
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间接转换检测器阵列

【技术保护点】
一种检测器阵列,包括:闪烁体,所述闪烁体被配置成响应于检测事件生成发光光子;以及多个光电检测器,所述多个光电检测器位于接近所述闪烁体的下侧并且被配置成对所述发光光子中的至少一些发光光子进行检测,所述闪烁体大体上连续地分布在所述多个光电检测器中的至少两个光电检测器上。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种检测器阵列,包括:闪烁体,所述闪烁体被配置成响应于检测事件生成发光光子;以及多个光电检测器,所述多个光电检测器位于接近所述闪烁体的下侧并且被配置成对所述发光光子中的至少一些发光光子进行检测,所述闪烁体大体上连续地分布在所述多个光电检测器中的至少两个光电检测器上。2.根据权利要求1所述的检测器阵列,所述至少两个光电检测器中的第一光电检测器与所述至少两个光电检测器中的第二光电检测器以一间隙隔开,并且,其中,所述闪烁体大体上连续地分布在所述第一光电检测器、所述间隙以及所述第二光电检测器上。3.根据权利要求1所述的检测器阵列,其中,所述闪烁体的在所述至少两个光电检测器中的第一光电检测器上的第一部分与所述闪烁体的在所述至少两个光电检测器中的第二光检测器上的第二部分之间没有反射材料。4.根据权利要求1所述的检测器阵列,所述闪烁体包括硫氧化钆(GOS)陶瓷材料。5.根据权利要求1所述的检测器阵列,所述闪烁体被粘合至所述至少两个光电检测器。6.根据权利要求1所述的检测器阵列,所述闪烁体大体上连续地分布在至少三个光电检测器上,其中,所述至少三个光电检测器中的第一光电检测器和所述至少三个光电检测器中的第二光电检测器形成一行光电检测器,以及所述第一光电检测器和所述至少三个光电检测器中的第三光电检测器形成一列光电检测器。7.一种检测器阵列,包括:闪烁体,所述闪烁体被配置成响应于检测事件生成发光光子;以及多个光电检测器,所述多个光电检测器位于接近所述闪烁体的下侧并且被配置成对所述发光光子中的至少一些发光光子进行检测,所述多个光电检测器中的至少两个光电检测器共用所述闪烁体。8.根据权利要求7所述的检测器阵列,所述闪烁体被粘合至所述至少两个光电检测器。9.根据权利要求7所述的检测器阵列,所述闪烁体被至少三个光电检测器共用,其中,所述至少三个光电检测器中的第一光电检测器和所述...

【专利技术属性】
技术研发人员:鲁温·戴驰A·利特温弗拉丹·里斯丹维克
申请(专利权)人:模拟技术公司
类型:发明
国别省市:美国,US

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