防尘装置、物镜及LDI光刻机防尘镜制造方法及图纸

本实用新型专利技术提供了一种防尘装置、物镜及LDI光刻机防尘镜，涉及激光直接成像技术领域，包括成像防尘圈和防尘物镜，防尘物镜分为物镜防尘圈和防尘装置，防尘装置的防尘圈与物镜防尘圈连接。防尘装置包括防尘圈、防尘片和密封压圈，防尘片和密封压圈均装配在防尘圈的内部，密封压圈位于防尘圈内部的底层，防尘片位于密封压圈的上层。该技术方案解决了传统光刻机镜头存在的清洁过程繁琐，清洁后恢复防尘片困难的问题，从而简化了光刻机的清洁流程，节省了技术人员清洁后恢复防尘片的时间，从而提高了光刻机的生产效率。

Dustproof device, objective lens and dust proof mirror of LDI photoetching machine

The utility model provides a dustproof device, lens and LDI lithography machine dust mirror, relates to the technical field of laser direct imaging, including imaging lens and a dust dust dust ring, divided into objective lens dustproof ring and dustproof device, dustproof ring and lens dustproof ring dustproof device connection. The dustproof device comprises a dust ring, a dustproof sheet and a sealing pressing ring, wherein, the dustproof sheet and the sealing press ring are all arranged in the inner of the dustproof ring, and the sealing pressing ring is arranged at the bottom layer inside the dustproof ring, and the dustproof sheet is arranged on the upper layer of the sealing pressing ring. The technical scheme for solving the cleaning process of traditional lithography lens cumbersome, dust-proof film difficult problem recovery after cleaning, thus simplifying the lithography machine cleaning process, dust film recovery time saves technicians after cleaning, so as to improve the production efficiency of the lithography.

【技术实现步骤摘要】
防尘装置、物镜及LDI光刻机防尘镜
本技术涉及激光直接成像
，尤其是涉及一种防尘装置、物镜及LDI光刻机防尘镜。
技术介绍
光刻技术是用于在基底表面上印刷具有特征构图的技术。这样的基底可用于制造半导体器件、多种集成电路、平面显示器(例如液晶显示器)、电路板、生物芯片、微机械电子芯片、光电子线路芯片等。在直写式光刻机的光刻系统中，特征图形由空间光调制器微镜阵列产生，这些微小镜面可以独立寻址单独受控以不同的倾斜方向反射照射的光束，以产生空间光强调制，最后将特征图形通过相应成像光路投影到PCB(PrintedCircuitBoard，简称PCB)板上。目前，激光直接成像(LaserDirectImage，简称LDI)光刻机所使用的防尘圈是光刻机的主要光路部分。参见图1，现有技术的防尘圈结构示意图。其中，位于防尘圈最上端的防尘片的上表面与防尘圈最末端的防尘片下表面与空气相接触，防尘圈的下方就是光刻机生产台面，镜面的洁净度直接影响了光刻机的成像质量和生产效率。因此，在实际生产中，光刻机的镜头清洁工作是光刻机日常养护中的重要部分。在实现本技术过程中，专利技术人发现现有技术中至少存在如下问题：随着光刻机使用时间的增加，暴露在空气中的防尘片表面没有特殊的保护措施，在光刻机工作时灰尘或水汽会吸附到最末端的防尘片表面上，严重影响了光刻机的成像质量及生产效率，此时需要对机械件进行清洁。传统的光刻机镜头不仅结构复杂，给清洁工作中的拆卸过程增加了难度，而且清洁后恢复防尘片时，需要花费相当长的时间及精力对光学组件中的防尘片进行重新定位校对，增加了清洁成本。因此，传统的光刻机镜头存在清洁过程繁琐，清洁后恢复防尘片困难的技术问题。
技术实现思路
有鉴于此，本技术的目的在于提供一种防尘装置、物镜及LDI光刻机防尘镜，以缓解技术中存在的清洁过程繁琐，清洁后恢复防尘片困难的技术问题。第一方面，本技术实施例提供了一种防尘装置，包括：防尘圈、防尘片和密封压圈；所述防尘片和所述密封压圈装配在所述防尘圈的内部；所述密封压圈位于所述防尘圈内部的底层；所述防尘片位于所述密封压圈的上层；所述密封压圈固定所述防尘片。结合第一方面，本技术实施例提供了第一方面的第一种可能的实施方式，其中，所述防尘圈的内部设有防尘片卡槽。结合第一方面，本技术实施例提供了第一方面的第二种可能的实施方式，其中，所述防尘圈的内部设有固定所述密封压圈的挡块。结合第一方面，本技术实施例提供了第一方面的第三种可能的实施方式，其中，所述防尘片为平板玻璃片。结合第一方面，本技术实施例提供了第一方面的第四种可能的实施方式，其中，所述防尘圈上端配有内螺纹。第二方面，本技术实施例还提供一种防尘物镜，包括：物镜防尘圈和上述防尘装置；所述防尘装置的防尘圈与所述物镜防尘圈连接。结合第二方面，本技术实施例提供了第二方面的第一种可能的实施方式，其中，所述物镜防尘圈下端配有外螺纹。结合第二方面，本技术实施例提供了第二方面的第二种可能的实施方式，其中，所述物镜防尘圈的内部装配有透镜组。第三方面，本技术实施例还提供一种LDI光刻机防尘镜，包括：成像防尘圈和上述防尘物镜。结合第三方面，本技术实施例提供了第二方面的第一种可能的实施方式，其中，所述成像防尘圈的下端配有紧固装置。本技术实施例带来了以下有益效果：本技术所提供的防尘装置、物镜及LDI光刻机防尘镜，其中LDI光刻机防尘镜包括成像防尘圈和防尘物镜，防尘物镜分为物镜防尘圈和防尘装置，防尘装置的防尘圈与物镜防尘圈连接，避免物镜防尘圈与外界空气直接接触，增强了防尘镜的密封性。防尘装置包括防尘圈、防尘片和密封压圈，防尘片和密封压圈均装配在防尘圈的内部，密封压圈位于防尘圈内部的底层，防尘片位于密封压圈的上层，密封压圈对防尘片实现密封及固定，实现防尘的目的。本技术所提供的技术方案采用了加装易拆卸、易清洁的防尘装置的方式，避免光刻机物镜与污染源接触，解决了传统光刻机镜头存在的清洁过程繁琐，清洁后恢复防尘片困难的问题，简化了光刻机的清洁流程，节省了技术人员清洁后恢复防尘片的时间，从而提高了光刻机的生产效率。本技术的其他特征和优点将在随后的说明书中阐述，并且，部分地从说明书中变得显而易见，或者通过实施本技术而了解。本技术的目的和其他优点在说明书、权利要求书以及附图中所特别指出的结构来实现和获得。为使本技术的上述目的、特征和优点能更明显易懂，下文特举较佳实施例，并配合所附附图，作详细说明如下。附图说明为了更清楚地说明本技术具体实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本技术的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为现有技术的防尘圈结构示意图；图2为本技术实施例提供防尘装置的结构示意图；图3为本技术实施例提供的防尘装置中平板玻璃片的光路图；图4为本技术实施例提供的防尘物镜结构示意图。图标：100-防尘装置；110-防尘圈；111-防尘片卡槽；112-挡块；113-内螺纹；120-防尘片；130-密封压圈；200-物镜防尘圈；210-透镜组；300-成像防尘圈。具体实施方式为使本技术实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本技术的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。通常在此处附图中描述和示出的本技术实施例的组件可以以各种不同的配置来布置和设计。因此，以下对在附图中提供的本技术的实施例的详细描述并非旨在限制要求保护的本技术的范围，而是仅仅表示本技术的选定实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。目前，位于LDI光刻机防尘圈最上端的防尘片的上表面与防尘圈最末端的防尘片下表面与空气相接触，防尘圈的下方就是光刻机生产台面，镜面的洁净度直接影响了光刻机的成像质量和生产效率，传统的光刻机镜头不仅结构复杂，给清洁工作中的拆卸过程增加了难度，而且清洁后恢复防尘片时，需要花费相当长的时间及精力对光学组件中的防尘片进行重新定位校对，增加了清洁成本。基于此，本技术实施例提供的一种防尘装置、物镜及LDI光刻机防尘镜，可以简化光刻机的清洁流程，节省技术人员清洁后恢复防尘片的时间，从而提高光刻机的生产效率。为便于对本实施例进行理解，对本技术实施例所公开的一种防尘装置、物镜及LDI光刻机防尘镜进行详细介绍。实施例一：参见图2，本技术实施例提供防尘装置的结构示意图。本技术实施例提供的防尘装置100，包括防尘圈110、防尘片120和密封压圈130，防尘片和密封压圈装配在防尘圈的内部，密封压圈位于防尘圈内部的底层，防尘片位于密封压圈的上层，密封压圈固定防尘片。密封压圈对防尘片实现密封及固定，实现防尘的目的。本技术实施例提供的防尘装置防尘圈的内部设有防尘片卡槽111，安装防尘片时将防尘片固定于卡槽内，防止防尘片晃动产生缝隙而导致灰尘进入防尘圈内。本实用新本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种防尘装置，其特征在于，包括：防尘圈、防尘片和密封压圈；所述防尘片和所述密封压圈装配在所述防尘圈的内部；所述密封压圈位于所述防尘圈内部的底层；所述防尘片位于所述密封压圈的上层；所述密封压圈固定所述防尘片。

【技术特征摘要】
1.一种防尘装置，其特征在于，包括：防尘圈、防尘片和密封压圈；所述防尘片和所述密封压圈装配在所述防尘圈的内部；所述密封压圈位于所述防尘圈内部的底层；所述防尘片位于所述密封压圈的上层；所述密封压圈固定所述防尘片。2.根据权利要求1所述的防尘装置，其特征在于，所述防尘圈的内部设有防尘片卡槽。3.根据权利要求1所述的防尘装置，其特征在于，所述防尘圈的内部设有固定所述密封压圈的挡块。4.根据权利要求1所述的防尘装置，其特征在于，所述防尘片为平板玻璃片。5.根据权利要求1所述的防尘装置，其特征...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘宝金，
申请(专利权)人：天津津芯微电子科技有限公司，
类型：新型
国别省市：天津,12