The invention relates to a sputtering coating equipment and coating chamber, coating chamber includes a casing, the casing has a coating chamber, wherein the shell comprises a bottom wall, the front wall and the front wall and the rear wall relative; cathode is arranged on the front wall, and along the front wall arrangement; the base frame is slidably arranged on the bottom wall, the direction of movement of the base and the cathode arranged in the same direction; bracket is rotatably arranged on the base frame, the bracket capable of carrying the samples; and, driving mechanism for driving the rotation of the cradle. The sputtering coating equipment and coating chamber, the pedestal, frame and matched with the driving mechanism of the structure, from the sample to the coating to a kind of process, samples with pedestal mobile, in order to achieve continuous production. At the same time, the driving mechanism can drive the bracket to rotate so as to realize the uniform coating on the surface of the nonplanar irregular sample.
【技术实现步骤摘要】
溅射镀膜设备及其镀膜腔室
本专利技术涉及镀膜技术,特别是涉及溅射镀膜设备及其镀膜腔室。
技术介绍
随着科学技术的发展,真空镀膜技术得到了飞速的发展。薄膜技术可以改变工件表面性能,提高工件耐磨损、抗氧化和耐腐蚀等性能,从而延长工件的使用寿命。薄膜技术也可以实现光学、电学、半导体薄膜器件的制备,具有很高的经济价值。磁控溅射技术可以制备各种超硬膜、耐腐蚀摩擦薄膜、超导薄膜、磁性薄膜、光学薄膜以及各种具有特殊功能的薄膜,在工业薄膜制备领域的应用非常广泛。目前,产业化的磁控溅射的设备主要分为两种类型:第一种为流水线式镀膜设备,设备通常为线性结构,包括多个腔室。生产时,样品基架放好样品后,从进样腔室进入,通过过渡腔室进入镀膜腔室,然后在镀膜腔室完成镀膜工艺后经由过渡腔室到出样腔室,基架可通过回架导轨回到进样腔室侧,取出成品后,重新安放需要镀膜样品,又可进入进样腔室,完成循环。缓冲室的设计可以实现不破环镀膜室真空条件下连续进出样,实现流水线生产。第二种为单体式镀膜设备,设备通常为圆柱形结构,结构比较简单,在腔壁的内侧均匀分布磁控溅射阴极部分,腔室正中心位置为主样品架,一般为圆柱形,可自转。主样品架上有许多圆形样品架,同样可以自转,镀膜时,先打开门阀,将样品架上放好样品后关上门阀,抽到合适真空后,让主样品架和次样品架同时自转,开始溅射镀膜,镀膜结束并待温度冷却后,将腔室放大气,打开门阀,拿出样品。传统的溅射镀膜设备都有着相应的缺点,对于第一种设备而言,其只能实现单面镀膜,当需要在一些样品的多个表面镀膜时,只能依次在不同面分次镀上薄膜,这样不仅增加了镀膜所需要的时间,同时工 ...
【技术保护点】
一种镀膜腔室,其特征在于,包括:外壳,所述外壳围成镀膜腔,所述外壳包括底壁、前壁及与所述前壁相对的后壁;阴极,设置于所述前壁上,且沿所述前壁排列;基架,可滑动地设置于所述底壁上,所述基架的运动方向与所述阴极排列的方向一致;支架,可转动地设置于所述基架上,所述支架能够承载样品;及驱动机构,用于驱动所述支架转动。
【技术特征摘要】
1.一种镀膜腔室,其特征在于,包括:外壳,所述外壳围成镀膜腔,所述外壳包括底壁、前壁及与所述前壁相对的后壁;阴极,设置于所述前壁上,且沿所述前壁排列;基架,可滑动地设置于所述底壁上,所述基架的运动方向与所述阴极排列的方向一致;支架,可转动地设置于所述基架上,所述支架能够承载样品;及驱动机构,用于驱动所述支架转动。2.根据权利要求1所述的镀膜腔室,其特征在于,所述驱动机构包括:锯齿导轨,设置于所述前壁或所述后壁上,所述锯齿导轨为条状结构,其上带有锯齿;及齿轮,与所述支架相联动,所述齿轮与所述锯齿导轨相啮合;其中,所述基架滑动,所述锯齿导轨与所述齿轮相配合,以带动所述支架转动。3.根据权利要求2所述的镀膜腔室,其特征在于,所述支架的一端穿设所述基架,且与所述齿轮相连接,所述基架开设有用于避位所述齿轮的避位孔,所述齿轮穿设所述避位孔并与所述锯齿导轨相啮合。4.根据权利要求3所述的镀膜腔室,其特征在于,所述基架还包括支架...
【专利技术属性】
技术研发人员:刘壮,崔骏,张撷秋,杨世航,陈旺寿,李霖,顾光一,
申请(专利权)人:深圳先进技术研究院,
类型:发明
国别省市:广东,44
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