彩色滤光基板及其形成方法技术

本发明专利技术提供一种彩色滤光基板及其形成方法，其中，在形成彩色光阻层的过程中，在基板的第一额缘区和开口区涂布不同厚度的光阻剂，在第一额缘区涂布的光阻剂的厚度小于开口区光阻剂的厚度，从而使所述额缘区光阻剂经过图形化形成的彩色光阻层的厚度较薄。这样额缘区间隔柱下方的彩色光阻层较薄，而额缘区的间隔柱的绝对高度较大，从而使额缘区和开口区间隔柱顶端相对于基板表面的高度相当，进而可以提高显示的均匀度。

Color filter substrate and method of forming the same

The invention provides a color filter substrate and forming method thereof, wherein, in the process of forming a color photoresist layer, the first in the frontal border area and the opening area of substrate coated with different thickness of the photoresist is less than the opening area of photoresist thickness in the first photoresist coating thickness of the frontal border area. The color photoresist layer so that the frontal border area of photoresist through graphical form thin. Color photoresist layer so that the frontal border area below the column spacing is thin, and the spacer frontal border area of the absolute height of the larger, so that the frontal border area and the opening area of the top of the column spacing relative to the substrate surface is high, and can improve the uniformity of display.

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及液晶显示
，尤其涉及一种彩色滤光基板及其形成方法。
技术介绍
随着显示技术的发展，薄膜晶体管(ThinFilmTransistor，TFT)液晶显示器能够实现对各个像素的独立精确控制，得到广泛关注。彩色滤光基板(ColorFilter，CF)是TFT液晶显示器的重要组成部件。在彩色滤光基板的制备过程中，由于配向膜制备工艺的需要，彩色滤光基板的额缘区增加与开口区类似的画素。图1至图7是现有技术一种彩色滤光基板形成方法的各步骤示意图。请参考图1，提供基板100，所述基板100包括，黑色矩阵形成区a和位于黑色矩阵形成区a周围的边缘区b。参考图2和图3，图2是图1方框1内区域的局部放大图，图3是图2沿2-2’线的剖视图。在基板100的黑色矩阵形成区a形成黑色矩阵120。所述黑色矩阵120包括具有开口110的开口区A和位于开口区A周围的额缘区，所述额缘区包括用于形成间隔柱的第一额缘区B。所述黑色矩阵120用于防止显示器背景光泄露，提高颜色显示的对比度。请参考图4，在所述黑色矩阵120(如图3所示)和露出的基板100上涂布光阻剂。请参考图5和图6，对所述光阻剂进行图形化，形成彩色光阻层130。所述彩色光阻层130用于使相应颜色的背景光透过，起到滤光的作用。重复图4和图5所示的步骤，形成全部彩色光阻层130。请参考图7，在所述彩色光阻层130上形成间隔柱140。然而，现有技术形成的彩色滤光基板会导致显示器周边颜色显示不均的问题。
技术实现思路
本专利技术解决的问题是提供一种彩色滤光基板及其形成方法，用于改善滤光片基板周边颜色显示不均的效果，改善显示器的显示效果。为解决上述问题，本专利技术提供一种彩色滤光基板的形成方法，包括：提供基板；在基板上形成黑色矩阵，所述黑色矩阵包括形成有多个开口的开口区和位于开口区周围的额缘区，所述额缘区包括用于形成间隔柱的第一额缘区；在所述黑色矩阵和所述开口露出的基板上涂布彩色光阻剂，在第一额缘区涂布的光阻剂厚度小于在开口区涂布的光阻剂厚度；图形化所述光阻剂形成彩色光阻层；在所述彩色光阻层上形成间隔柱，所述间隔柱形成于所述第一额缘区与所述开口区相应位置处。可选的，在所述黑色矩阵和露出的基板上涂布光阻剂的步骤包括：采用狭缝涂布机在所述黑色矩阵上涂布光阻剂；在涂布过程中，所述狭缝涂布机中狭缝的延伸方向与第一额缘区的延伸方向相同。可选的，在所述黑色矩阵和露出的基板上涂布光阻剂的步骤中，所述狭缝涂布机在第一额缘区和开口区的涂布速度相同，在第一额缘区的光阻吐出量小于在开口区的光阻吐出量。可选的，第一额缘区的光阻吐出量为1800～3500μL/s；开口区的光阻吐出量为1500～2500μL/s。可选的，在所述黑色矩阵和所述开口露出的基板上涂布光阻剂的步骤中，所述狭缝涂布机在第一额缘区和开口区的光阻吐出量相同，在第一额缘区的涂布速度大于在开口区的涂布速度。可选的，第一额缘区的涂布速度为90～150mm/s；开口区的涂布速度为80～140mm/s。可选的，图形化所述光阻剂形成彩色光阻层的步骤包括：使形成于所述开口区间隔柱下方的彩色光阻层的厚度大于或等于所述第一额缘区彩色光阻层的厚度。可选的，图形化所述光阻剂形成彩色光阻层的步骤包括：使开口区彩色光阻层的厚度为1.5～3.5μm，第一额缘区彩色光阻层的厚度为1.5～2.5μm。可选的，图形化所述光阻剂形成彩色光阻层的步骤包括：在开口区形成填充于开口中的多个彩色光阻；所述多个彩色光阻呈条形、马赛克型或三角型排列。可选的，其特征在于，在基板上形成黑色矩阵的步骤包括：在基板上形成多个黑色矩阵，所述黑色矩阵的开口区为长方形结构，所述额缘区为围绕所述长方形结构的方环形，所述第一额缘区为所述方环形中与长方形结构长边相邻的区域；所述多个黑色矩阵沿长方形结构长边方向和短边方向排布，形成一阵列结构；在所述黑色矩阵和露出的基板上涂布光阻剂的步骤包括：采用狭缝涂布机通过狭缝涂布的方法在所述黑色矩阵和露出的基板上涂布光阻剂，且在涂布过程中，所述狭缝涂布机的狭缝涂布头沿长方形结构的长边方向延伸且沿宽边方向移动。相应的，本专利技术还提供一种彩色滤光基板，其特征在于，包括：基板；位于基板上的黑色矩阵，所述黑色矩阵包括形成有多个开口的开口区和位于开口区周围的额缘区，所述额缘区包括用于形成间隔柱的第一额缘区；位于所述黑色矩阵和所述开口所露出基板上的彩色光阻层；位于所述彩色光阻层和第一额缘区上的间隔柱；所述开口区间隔柱下方的彩色光阻层的厚度大于或等于所述第一额缘区彩色光阻层的厚度。可选的，开口区彩色光阻层的厚度为1.5～3.5μm，第一额缘区彩色光阻层的厚度为1.5～2.5μm。可选的，所述开口区间隔柱顶端相对于基板表面的高度与所述第一额缘区间隔柱顶端相对于基板表面的高度相差0～0.4μm。。与现有技术相比，本专利技术的技术方案具有以下优点：本专利技术的形成方法中，在形成彩色光阻层的过程中，在基板的第一额缘区和开口区涂布不同厚度的光阻剂，在第一额缘区涂布的光阻剂的厚度小于开口区光阻剂的厚度，从而使所述额缘区光阻剂经过图形化形成的彩色光阻层的厚度较薄。这样在所述额缘区形成间隔柱时，间隔柱下方的彩色光阻层较薄，而额缘区的间隔柱的高度较大，从而使额缘区和开口区间隔柱顶端相对于基板表面的高度相当，进而可以提高显示的均匀度。附图说明图1至图9是现有技术一种彩色滤光基板的形成方法的各步骤示意图；图10至图16是本专利技术的彩色滤光基板的形成方法一实施例的各步骤结构示意图；图17是本专利技术彩色滤光基板的形成方法另一实施例中光阻剂涂布过程示意图；图18至图20是本专利技术彩色滤光基板一实施例的结构示意图。具体实施方式现有技术中彩色滤光基板容易引起显示器出现周边显示不均的问题。结合图4、图7至图9分析周边显示不均的原因：图8示出了图7所示彩色滤光基板开口区A(即沿3-3’线)的侧面剖视图，图9示出了额缘区B(即沿4-4’线)的侧面剖视图。结合参考图4、图7至图9，在黑色矩阵120和露出的基板100上涂布光阻剂的步骤中，现有技术通过狭缝涂布机涂布所述光阻剂。在涂布的过程中，所述涂布机在开口区A和第一额缘区B的光阻吐出量和光阻吐出速度相同。因此在开口区A和第一额缘区B涂布的光阻剂厚度相同。然而，如图8所示，开口区A具有开口，在对所述光阻剂进行图形化的过程中，由于光阻剂的流动性，开口区A黑色矩阵120上的光阻剂会向开口处流淌，导致形成彩色光阻层130后，黑色矩阵120上方的彩色光阻层130的厚度较小。如图9所示，第一额缘区B不具有开口，在对光阻剂进行图形化的过程中，光阻剂不流动，因此形成的彩色光阻层130厚度较大。因此，结合参考图8和图9，现有技术形成的彩色滤光基板中第一额缘区B彩色光阻层130的厚度大于开口区A黑色矩阵120上方彩色光阻层130的厚度。相应的，在开口区A形成间隔柱140的过程中，由于光阻剂的流动性，导致第一额缘区B的间隔柱140高度大于开口区A间隔柱140高度。因此第一额缘区B彩色滤光基板的厚度大于开口区A彩色滤光基板的厚度，从而导致成盒后液晶显示器液晶单元间隙(CellGap)在第一额缘区和开口区不相同，直接导致周边颜色显示不均本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种彩色滤光基板的形成方法，其特征在于，包括：提供基板；在基板上形成黑色矩阵，所述黑色矩阵包括形成有多个开口的开口区和位于开口区周围的额缘区，所述额缘区包括用于形成间隔柱的第一额缘区；在所述黑色矩阵和所述开口露出的基板上涂布彩色光阻剂，在第一额缘区涂布的光阻剂厚度小于在开口区涂布的光阻剂厚度；图形化所述光阻剂形成彩色光阻层；在所述彩色光阻层上形成间隔柱，所述间隔柱形成于所述第一额缘区与所述开口区相应位置处。

【技术特征摘要】
1.一种彩色滤光基板的形成方法，其特征在于，包括：提供基板；在基板上形成黑色矩阵，所述黑色矩阵包括形成有多个开口的开口区和位于开口区周围的额缘区，所述额缘区包括用于形成间隔柱的第一额缘区；在所述黑色矩阵和所述开口露出的基板上涂布彩色光阻剂，在第一额缘区涂布的光阻剂厚度小于在开口区涂布的光阻剂厚度；图形化所述光阻剂形成彩色光阻层；在所述彩色光阻层上形成间隔柱，所述间隔柱形成于所述第一额缘区与所述开口区相应位置处。2.如权利要求1所述的彩色滤光基板的形成方法，其特征在于，在所述黑色矩阵和露出的基板上涂布光阻剂的步骤包括：采用狭缝涂布机在所述黑色矩阵上涂布光阻剂；在涂布过程中，所述狭缝涂布机中狭缝的延伸方向与第一额缘区的延伸方向相同。3.如权利要求2所述的彩色滤光基板的形成方法，其特征在于，在所述黑色矩阵和露出的基板上涂布光阻剂的步骤中，所述狭缝涂布机在第一额缘区和开口区的涂布速度相同，在第一额缘区的光阻吐出量小于在开口区的光阻吐出量。4.如权利要求3所述的彩色滤光基板的形成方法，其特征在于，第一额缘区的光阻吐出量为1800～3500μL/s；开口区的光阻吐出量为1500～2500μL/s。5.如权利要求2所述的彩色滤光基板的形成方法，其特征在于，在所述黑色矩阵和所述开口露出的基板上涂布光阻剂的步骤中，所述狭缝涂布机在第一额缘区和开口区的光阻吐出量相同，在第一额缘区的涂布速度大于在开口区的涂布速度。6.如权利要求5所述的彩色滤光基板的形成方法，其特征在于，第一额缘区的涂布速度为90～150mm/s；开口区的涂布速度为80～140mm/s。7.如权利要求1所述的彩色滤光基板的形成方法，其特征在于，图形化所述
\t光阻剂形成彩色光阻层的步骤包括：使形成于所述开口区间隔柱下方的彩色光阻层的厚度大于或等于所述第一额缘区彩色光阻层的厚...

【专利技术属性】
技术研发人员：郁侃，张莉，徐广军，
申请(专利权)人：上海仪电显示材料有限公司，
类型：发明
国别省市：上海;31