彩色滤光片的制作方法技术

本发明专利技术公开彩色滤光片的制作方法，包括：将遮光层涂布于基板的表面；对所述遮光层进行开槽，形成黑矩阵层和次像素区域，所述黑矩阵包括底面和顶面，所述底面贴合于所述基板，所述顶面位于所述黑矩阵之远离所述基板的表面，所述底面的面积小于所述顶面的面积，所述次像素区域与所述黑矩阵交替间隔设置，其中每个所述次像素区域位于相邻的两个所述黑矩阵之间；在所述次像素区域形成彩色滤光层。通过本发明专利技术之彩色滤光片的制作方法得到的彩色滤光片表面平整，无段差，且能防止漏光。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及液晶显示
，特别是涉及一种。
技术介绍
彩色滤光基板是用来使显示装置达到显示彩色影像的目的。彩色滤光基板包括配置在基材不同位置的彩色滤光元件例如红色滤光元件、绿色滤光元件与蓝色滤光元件。彩色滤光元件的制程一般包括黄光制程。黄光制程的温度高达200度以上。软性显示装置之彩色滤光基板一般是使用具有可挠性质的材料作为基材，例如聚对苯二甲酸二乙酯(PET)等等的塑料。然而，塑料基板的玻璃转变温度(Tg)通常是远低于黄光制程的温度(例如，聚对苯二甲酸二乙酯的玻璃转变温度约为80度)。因此，塑料基板并不适用于黄光制程。在目前工艺制作彩色滤光片时，彩色滤光层需要与黑矩阵有一部分重合区域，该做法的目的是避免漏光，由于彩色滤光层在烘烤时体积会收缩，如果设计时彩色滤光层不与黑矩阵重合，那在黄光制程的烘烤后极易造成漏光缺陷。彩色滤光层需要与黑矩阵有一部分重合的做法虽然避免了漏光，但是彩色滤光层与黑矩阵重合的区域要高于次像素区，形成了“段差”，对后续的对盒工艺有很不利的影响，会扰乱液晶的取向。
技术实现思路
本专利技术所要解决的技术问题在于提供一种，使得制作的彩色滤光片表面平整，无段差，且能防止漏光。为了实现上述目的，本专利技术实施方式提供如下技术方案:—种，包括:将遮光层涂布于基板的表面；对所述遮光层进行开槽，形成黑矩阵层和次像素区域，所述黑矩阵包括底面和顶面，所述底面贴合于所述基板，所述顶面位于所述黑矩阵之远离所述基板的表面，所述底面的面积小于所述顶面的面积，所述次像素区域与所述黑矩阵交替间隔设置，其中每个所述次像素区域位于相邻的两个所述黑矩阵之间；在所述次像素区域形成彩色滤光层。其中，将遮光层涂布于基板的表面的步骤包括:通过刷涂、喷涂等方法在所述基板上形成膜层，再通过UV光进行固化处理。其中，所述膜层厚度均匀。其中，通过水割技术对所述遮光层进行切割，以实现对所述遮光层进行开槽。其中，在切割所述遮光层的过程中，用倾斜切割的方法。其中，在所述次像素区域形成彩色滤光层的步骤包括:滴涂像素树脂，通过UV光进行固化处理。其中，所述遮光层和所述滤光层的厚度相同，使得所述彩色滤光片的表面平整。其中，所述黑矩阵的垂直于所述基板的截面呈梯形。其中，所述基板为柔性基板。本专利技术通过对所述遮光层进行开槽，形成黑矩阵层和次像素区域，且利用低温切割技术代替现有技术中的黄光制程实现开槽的步骤，提高了基板的质量。所述黑矩阵包括底面和顶面，所述底面贴合于所述基板，所述顶面位于所述黑矩阵之远离所述基板的表面，所述底面的面积小于所述顶面的面积，通过黑矩阵的上大下小的结构设计，且使得彩色滤光片表面平整，无段差，且能防止漏光。【附图说明】为了更清楚地说明本专利技术的技术方案，下面将对实施方式中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以如这些附图获得其他的附图。图1是本专利技术一种实施方式提供的中在基板上涂布好遮光层的示意图。图2是在图1的基础上，对所述遮光层进行开槽后的示意图。图3在图2的基础上，在所述次像素区域形成彩色滤光层的示意图。【具体实施方式】下面将结合本专利技术实施方式中的附图，对本专利技术实施方式中的技术方案进行清楚、完整地描述。本专利技术涉及一种彩色滤光片，即CF，的制作方法，图1至图3描述了制作的步骤过程。本专利技术之，包括如下步骤。将遮光层涂布于基板的表面，如图1所示。具体而言，所述基板为柔性基板，也可以为玻璃、石英、透明树脂等材质的基板。基板的表面平坦，以利于遮光层的涂布。将遮光层涂布于基板的表面的步骤包括:通过刷涂、喷涂等方法在所述基板上形成膜层，再通过UV光(即紫外光线)进行固化处理。所述膜层厚度均匀。对所述遮光层进行开槽，形成黑矩阵层和次像素区域。本专利技术通过水割技术对所述遮光层进行切割，以实现对所述遮光层进行开槽。切割后形成多个黑矩阵，相邻的两个黑矩阵彼此间隔，次像素区域即形成在每相邻的两个黑矩阵之间，即所述次像素区域与所述黑矩阵交替间隔设置。而且，在切割所述遮光层的过程中，用倾斜切割的方法，使得每个黑矩阵的远离基板的一侧的端面尺寸大于贴近基板一侧的端面尺寸。每个黑矩阵的垂直于所述基板的截面呈梯形，上大下小，黑矩阵这样的形状能够防止彩色滤光片漏光。呈梯形的黑矩阵的侧侧均为平面，其它的实施方式中，黑矩阵的侧面，特别是与次像素区域邻接的侧面也可以为曲面，可由多段平面组合而成，只要保证黑矩阵远离基板一侧的端面的尺寸大于贴合基板的表面尺寸，即能实现防漏光的效果。每个黑矩阵具体结构为:所述黑矩阵包括底面和顶面，所述底面贴合于所述基板，所述顶面位于所述黑矩阵之远离所述基板的表面，所述底面的面积小于所述顶面的面积。在所述次像素区域形成彩色滤光层，具体包括如下步骤:滴涂像素树脂，通过UV光进行固化处理。所述遮光层和所述滤光层的厚度相同，使得所述彩色滤光片的表面平整。本专利技术通过对所述遮光层进行开槽，形成黑矩阵层和次像素区域，且利用低温切割技术代替现有技术中的黄光制程实现开槽的步骤，提高了基板的质量。所述黑矩阵包括底面和顶面，所述底面贴合于所述基板，所述顶面位于所述黑矩阵之远离所述基板的表面，所述底面的面积小于所述顶面的面积，通过黑矩阵的上大下小的结构设计，且使得彩色滤光片表面平整，无段差，且能防止漏光。以上所述是本专利技术的优选实施方式，应当指出，对于本
的普通技术人员来说，在不脱离本专利技术原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也视为本专利技术的保护范围。【主权项】1.一种，其特征在于，包括: 将遮光层涂布于基板的表面； 对所述遮光层进行开槽，形成黑矩阵层和次像素区域，所述黑矩阵包括底面和顶面，所述底面贴合于所述基板，所述顶面位于所述黑矩阵之远离所述基板的表面，所述底面的面积小于所述顶面的面积，所述次像素区域与所述黑矩阵交替间隔设置，其中每个所述次像素区域位于相邻的两个所述黑矩阵之间； 在所述次像素区域形成彩色滤光层。2.如权利要求1所述的，其特征在于，将遮光层涂布于基板的表面的步骤包括:通过刷涂、喷涂等方法在所述基板上形成膜层，再通过UV光进行固化处理。3.如权利要求2所述的，其特征在于，所述膜层厚度均匀。4.如权利要求1所述的，其特征在于，通过水割技术对所述遮光层进行切割，以实现对所述遮光层进行开槽。5.如权利要求4所述的，其特征在于，在切割所述遮光层的过程中，用倾斜切割的方法。6.如权利要求1所述的，其特征在于，在所述次像素区域形成彩色滤光层的步骤包括:滴涂像素树脂，通过UV光进行固化处理。7.如权利要求1-6任意一项所述的，其特征在于，所述遮光层和所述滤光层的厚度相同，使得所述彩色滤光片的表面平整。8.如权利要求1-6任意一项所述的，其特征在于，所述黑矩阵的垂直于所述基板的截面呈梯形。9.如权利要求1-6任意一项所述的，其特征在于，所述基板为柔性基板。【专利摘要】本专利技术公开，包括：将遮光层涂布于基板的表面；对所述遮光层进行开槽，形成黑矩阵层和次像素区域，所述黑矩阵包括底面和顶面，所述底面贴合于所述基板，所述顶面位于所述黑矩阵之远离所述基板的表面，所述底面的面积小于所述顶面的面积，所述次像素区域与所述黑矩阵交替间隔设本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种彩色滤光片的制作方法，其特征在于，包括：将遮光层涂布于基板的表面；对所述遮光层进行开槽，形成黑矩阵层和次像素区域，所述黑矩阵包括底面和顶面，所述底面贴合于所述基板，所述顶面位于所述黑矩阵之远离所述基板的表面，所述底面的面积小于所述顶面的面积，所述次像素区域与所述黑矩阵交替间隔设置，其中每个所述次像素区域位于相邻的两个所述黑矩阵之间；在所述次像素区域形成彩色滤光层。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：张瑞军，覃事建，
申请(专利权)人：深圳市华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44