一种COA基板的制备方法技术

本发明专利技术提供了一种COA基板的制备方法，包括以下步骤：包括以下步骤：1)提供衬底基板，并在所述基板上提供金属层；2)在所述金属层之上设置第一保护层；3)在所述第一保护层上设置彩色光阻层；4)在所述彩色光阻层上设置PFA制备保护层，其中所述PFA保护层由白色光阻、平坦保护层和支撑柱组成；5)设置金属ITO导电层。本发明专利技术通过在彩色光阻层上涂上同时具有通用光阻材料，通过一次曝光显影的方式形成白色光阻、平坦保护层和支撑柱，然后再制备ITO导电层，结合白色光阻、平坦保护层和支撑柱三道黄光制程于一道，节省了两道黄光制程工艺，工艺过程简单，最大限度的提高了生产的产能。

Method for preparing COA substrate

The present invention provides a method for preparing a COA substrate, which comprises the following steps: including the following steps: 1) providing a substrate, and a metal layer on the substrate; 2) the first protective layer is arranged on the metal layer; 3) color photoresist layer is arranged on the first protective layer 4); set the PFA preparation of protective layer in the color photoresist layer, wherein the protective layer of PFA by white light resistance, flat protective layer and the support columns; 5) set the metal conductive layer ITO. In the color photoresist layer is coated on at the same time have common photoresist material to form white light resistance, flat protective layer and a support column through an exposure developing mode, and then prepared ITO conductive layer with white light resistance, flat protective layer and a support column three in a yellow light process save two, yellow light process, simple process, maximize the production capacity.

【技术实现步骤摘要】
一种COA基板的制备方法
本专利技术属于液晶显示器
，具体涉及一种COA基板的制备方法。
技术介绍
液晶显示面板包括阵列基板、彩膜基板以及夹在阵列基板和彩膜基板之间的液晶层，其是利用电路产生电场驱动液晶分子，藉由液晶物理特性产生不同的光学反应，再对应彩膜基板上RGB三原色的变化，实现全彩显示影像。COA(阵列上彩色滤光片，colorfilteronarray)技术是将彩色滤光片制备在阵列基板侧的一种技术，其最大的效益是能够减少寄生电容提高产品开口率。随着信息技术的发展，高透过率、低能耗、成像质量佳的液晶显示面板是提高产品竞争力的主要影响因素，为了提高画面整体亮度降低能耗，业界将一种白色(W)子像素添加到由红(R)、绿(G)、蓝(B)三色组成的传统RGB像素中，然后再应用相应的子像素成像技术，以人类看见图像的方式对那些子像素进行更好的排列，通过白色子像素提高画面整体的亮度，从而实现高灰度和低耗电。即在COA基板中，由红色子像素、绿色子像素、蓝色子像素和白色子像素组成一个像素。具体来说，通过解析输入像素的数据，进行恰当的信号处理来驱动液晶面板和背光，来达到保证画质的前提下实现上述特点，与传统的方式相比较可以实现耗电减少40％。COA基板有多种制备方法，目前，比较传统的制备工艺包括以下步骤：1、在基板上制作金属层；2、在金属层上设置第一保护层；3、在第一保护层上通过四次涂布、曝光、显影的方式形成红(R)、绿(G)、蓝(B)、白(W)彩色光阻层；4、在彩色光阻层上设置第二保护层；5、设置金属导电层；6、设置支撑柱。在传统的制备工艺中，彩色光阻层的制备是通过4次曝光显影的方式分次形成，然后制成第二保护层和支撑柱，第二保护层的制备过程复杂，包括CVD蒸镀、过孔曝光、过孔刻蚀、光刻胶去除，并且彩色光阻层的制备过程中需要经过四次涂布曝光显影，过程复杂。
技术实现思路
为了解决现有技术的问题，本专利技术提供了一种新的制备工艺，采用不同的光罩设计，并且搭配相应的光阻材料，采用一次曝光显影的方式形成白色光阻、平坦保护层和支撑柱。生产过程简单，大大简化了生产工艺，很大程度上节省了成本。为了达到上述目的，本专利技术采用如下技术方案：一种COA基板的制备方法，包括以下步骤：1)提供衬底基板，并在所述衬底基板上提供金属层；2.)在所述金属层之上设置第一保护层；3)在所述第一保护层上设置彩色光阻层；4)在所述彩色光阻层上设置PFA(polymerfilmonarray，阵列基板侧高分子膜)保护层，PFA保护层由白色光阻、平坦保护层和支撑柱组成；5)设置金属ITO(氧化铟锡)导电层。根据本专利技术，所述PFA保护层即为具有白色光阻(WPIXEL)、平坦保护层和PS(postspacer)支撑柱特性的多功能层别。进一步地，所述金属层包括第一金属层和第二金属层，优选由第一金属层和第二金属层组成。进一步地，所述步骤3)中，通过三次涂布、曝光、显影方式形成所述彩色光阻层。优选地，所述彩色光阻层由红色光阻、绿色光阻和蓝色光阻组成。进一步地，所述步骤4)中，在步骤3)的彩色光阻层上涂上具有白色光阻、平坦保护层和支撑柱特性的通用光阻材料，然后进行曝光和显影，从而形成所述PFA保护层。进一步地，所述曝光和显影的次数为1次。进一步地，所述通用光阻材料为透明材料。优选地，所述通用光阻材料选自正型光阻材料或负型光阻材料。进一步地，所述步骤4)中采用狭缝式涂布或旋转涂布方式在所述彩色光阻层上涂上所述通用光阻材料。进一步地，所述PFA保护层的厚度为2μm-6μm。进一步地，所述曝光所用的掩膜板具有至少两种穿透率，便于形成厚度不等的支撑柱。进一步地，所述曝光所用的掩膜板选自灰阶光罩、半色调光罩或其组合。进一步地，所述支撑柱包括主支撑柱和辅支撑柱。进一步地，所述金属ITO导电层包括第三金属层和ITO导电层。本专利技术的有益效果：本专利技术通过在红(R)、绿(G)、蓝(B)彩色光阻层上涂上具有白色光阻、平坦保护层和支撑柱特性的通用光阻材料，通过一次曝光显影的方式直接形成白色光阻、平坦保护层和支撑柱，然后再制备第三金属层和ITO导电层，本专利技术提供的方法结合白色光阻、平坦保护层和支撑柱三道黄光制程于一道，节省了两道黄光制程工艺，最大限度的提高了生产的产能。本专利技术使用PFA工艺取代了传统的第二保护层的制备过程，传统的第二保护层制备过程复杂，包括CVD(ChemicalVaporDeposition,化学气相沉积)蒸镀、过孔曝光、过孔刻蚀和光刻胶去除步骤，而PFA工艺一般只包含过孔曝光、漂白(用于正型光阻材料)、烘烤和过孔刻蚀步骤，工艺过程相比传统的第二保护层的制备工艺简单。附图说明图1是本专利技术白色光阻、平坦保护层和支撑柱结构示意图。其中，1支撑柱，2平坦保护层，3白色光阻。具体实施方式以下结合实施例对本专利技术进行详细说明，但本专利技术并不受下述实施例限定。实施例1本专利技术的COA基板，包括衬底基板、第一金属层、第二金属层、第一保护层、R/G/B色阻层、白色光阻/平坦保护层/支撑柱、第三金属层和ITO导电层。衬底基板，该衬底基板包括但不限于玻璃、金属、有机或石英基板，所述第一金属层位于衬底基板上，对第一金属层进行图像化处理形成栅极，栅极区部分以外的第一金属层在制作过程中被刻蚀掉，然后制作第二金属层，为了隔离第一金属层和第二金属层，在第一金属层和第二金属层之间设置氮化硅层。在所述的第二金属层之上设置第一保护层，第一保护层将第二金属层和红/绿/蓝颜色光阻层隔离。在第一保护层上，通过3次涂布、曝光、显影的方式分别形成红、绿、蓝彩色光阻，之后在红、绿、蓝彩色光阻层上通过旋转涂布或狭缝式涂布方式涂上同时具有白色光阻、平坦保护层和支撑柱特性的通过光阻材料，该光阻材料为透明的负型光阻材料，此材料的穿透率在可见光范围内大于95％，涂布的光阻材料的厚度为2μm，然后进行曝光，曝光所用的掩膜板采用灰阶光罩、半色调光罩搭配的方式，穿透率最高部位得到膜厚最厚的主支撑柱，穿透率较低的曝光量比较小的部分，按照排序分别成形辅支撑柱、平坦保护层和白色光阻层。在本实施例中将白色光阻层、平坦保护层和支撑柱通过一次曝光显影的形式一次成型，节省了两道黄光制程，工艺大大减少。形成白色光阻层、平坦保护层和支撑柱以后制作第三金属层和ITO导电层。实施例2本专利技术的COA基板，包括衬底基板、第一金属层、第二金属层、第一保护层、红/绿/蓝色阻层、白色光阻/平坦保护层/支撑柱、第三金属层和ITO导电层。衬底基板，该衬底基板包括但不限于玻璃、金属、有机或石英基板，所述第一金属层位于衬底基板上，对第一金属层进行图像化处理形成栅极，栅极区部分以外的第一金属层在制作过程中被刻蚀掉，然后制作第二金属层，为了隔离第一金属层和第二金属层，在第一金属层和第二金属层之间设置氮化硅层。在所述的第二金属层之上设置第一保护层，第一保护层将第二金属层和红/绿/蓝颜色光阻层隔离。在第一保护层上，通过3次涂布、曝光、显影的方式分别形成红、绿、蓝彩色光阻，之后在红、绿、蓝彩色光阻层上通过旋转涂布或狭缝式涂布方式涂上同时具有白色光阻、平坦保护层和支撑柱特性的通过光阻材料，该光阻材料为透明的正型光阻材料，此材料的穿透率在可见光范围内大于95％，涂布的光阻材料的厚度为6μm，然后本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种COA基板的制备方法，包括以下步骤：1)提供衬底基板，并在所述衬底基板上提供金属层；2)在所述金属层之上设置第一保护层；3)在所述第一保护层上设置彩色光阻层；4)在所述彩色光阻层上设置PFA保护层，其中所述PFA保护层由白色光阻、平坦保护层和支撑柱组成；5)设置金属ITO导电层。

【技术特征摘要】
1.一种COA基板的制备方法，包括以下步骤：1)提供衬底基板，并在所述衬底基板上提供金属层；2)在所述金属层之上设置第一保护层；3)在所述第一保护层上设置彩色光阻层；4)在所述彩色光阻层上设置PFA保护层，其中所述PFA保护层由白色光阻、平坦保护层和支撑柱组成；5)设置金属ITO导电层。2.根据权利要求1所述的COA基板的制备方法，其特征在于，所述金属层由第一金属层和第二金属层组成。3.根据权利要求1或2所述的COA基板的制备方法，其特征在于，在步骤3)中，所述彩色光阻层是通过三次涂布、曝光和显影方式形成的，并且所述彩色光阻层由红色光阻、绿色光阻和蓝色光阻组成。4.根据权利要求1或2所述的COA基板的制备方法，其特征在于，所述步骤4)中，通过在步骤3)得到的彩色光阻层上涂上具有白色光阻、平坦保护层和支撑柱特性的通用光阻材料，然...

【专利技术属性】
技术研发人员：李兰艳，
申请(专利权)人：深圳市华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44