The manufacturing method of the dilution by dilution of the first liquid is added to the second manufacturing second liquid liquid, the dilution liquid manufacturing method includes the following steps: the first in the first liquid piping (11) in the flow; for the second liquid storage tank (12) to control the pressure inside the tank (through 12) and second (11) first piping connection pipe (13) to second will be added to the first liquid piping (11) in the first liquid. Includes the steps of adding second steps: Determination of the first liquid piping (11) the first liquid flow in the flow or dilution flow; concentration dilution determination; and based on the measurement of flow rate measurement and component concentration values to control the pressure inside the tank (12), the component concentration dilution for the specified value.
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】稀释液制造方法以及稀释液制造装置
本专利技术涉及一种制造稀释液的稀释液制造方法以及稀释液制造装置。
技术介绍
在半导体装置、液晶显示器的制造过程中,作为硅晶圆、液晶面板用玻璃基板的清洗液,采用使用超纯水稀释氨水等药液所得到的稀释液。作为稀释液的制造方法,已知的是对朝向使用点供给的超纯水添加微少量的药液的方法,并提出了多种方法。例如,专利文献1中提出如下一种方法:使用药液供给泵向超纯水所流动的配管内添加药液罐体内的药液,并且测定添加药液后的超纯水(药液的稀释液)的电导率,基于该测定值来调节药液的添加量。另外,专利文献2中提出如下一种方法:将设置有阀的多根细管并列地连结于超纯水流通的流通管与药液的供给装置之间,将向流通管添加药液时的压力设为某个固定值,根据打开的阀的数量来控制药液向流通管的供给量。并且,专利文献3中提出如下一种方法:使用药液供给管将清洗液供给管与药液贮存容器连接,只基于清洗液供给管中的清洗液的流量来调整向药液贮存容器内供给的气体的压力,由此控制从药液供给管向清洗液供给管添加的药液量。专利文献1:日本特开2000-208471号公报专利文献2:日本特开2003-311140号公报专利文献3:日本特许第3343776号公报
技术实现思路
专利技术要解决的问题但是,在上述的专利文献1、2、3中记载的稀释液的制造方法中,分别存在以下问题点。在专利文献1所记载的稀释液的制造方法中,在由于药液供给泵的脉动的影响而稀释液中的药液的浓度不均匀的情况下,或者在设定了高稀释倍率的情况下,需要使将药液暂时稀释到某种程度后的药液贮存在罐体中,并将稀释后的药液添加到超纯水中 ...
【技术保护点】
一种稀释液制造方法,通过对第一液体添加第二液体来制造该第二液体的稀释液,该稀释液制造方法包括以下步骤:使所述第一液体在第一配管中流动;以及对用于贮存所述第二液体的罐体内的压力进行控制,通过用于将所述罐体与所述第一配管连接的第二配管来将所述第二液体添加到在所述第一配管内流动的所述第一液体,其中,在添加所述第二液体的步骤中包括以下步骤:测定在所述第一配管内流动的所述第一液体的流量或所述稀释液的流量;测定所述稀释液的成分浓度;以及基于所述流量的测定值和所述成分浓度的测定值,来控制所述罐体内的压力,使得所述稀释液的成分浓度为规定值。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2014.09.16 JP 2014-1878041.一种稀释液制造方法,通过对第一液体添加第二液体来制造该第二液体的稀释液,该稀释液制造方法包括以下步骤:使所述第一液体在第一配管中流动;以及对用于贮存所述第二液体的罐体内的压力进行控制,通过用于将所述罐体与所述第一配管连接的第二配管来将所述第二液体添加到在所述第一配管内流动的所述第一液体,其中,在添加所述第二液体的步骤中包括以下步骤:测定在所述第一配管内流动的所述第一液体的流量或所述稀释液的流量;测定所述稀释液的成分浓度;以及基于所述流量的测定值和所述成分浓度的测定值,来控制所述罐体内的压力,使得所述稀释液的成分浓度为规定值。2.根据权利要求1所述的稀释液制造方法,其特征在于,在添加所述第二液体的步骤中,还包括以下步骤:使所述第二液体在所述第二配管中以层流状态流动。3.根据权利要求1或2所述的稀释液制造方法,其特征在于,在添加所述第二液体的步骤中,还包括以下步骤:使所述第二液体在所述第二配管中流动,所述第二配管的内径在超过0.1mm且4mm以下的范围内。4.根据权利要求1~3中的任一项所述的稀释液制造方法,其特征在于,在添加所述第二液体的步骤中,还包括以下步骤:测定所述第一配管与所述第二配管之间的连结部处的管内的压力,在控制所述罐体内的压力的步骤中,包括以下步骤:基于所述流量的测定值、所述成分浓度的测定值以及所述压力的测定值,来控制所述罐体内的压力,使得所述稀释液的成分浓度为规定值。5.根据权利要求1~3中的任一项所述的稀释液制造方法,其特征在于,在添加所述第二液体的步骤中,还包括以下步骤:测定所述第一配管与所述第二配管之间的连结部处的管内的压力;以及基于所述压力的测定值来将所述连结部处的管内的压力调整为规定值,在控制所述罐体内的压力的步骤中,包括以下步骤:基于所述流量的测定值和所述成分浓度的测定值,或者基于所述流量的测定值、所述成分浓度的测定值以及所述压力的测定值,来控制所述罐体内的压力,使得所述稀释液的成分浓度为规定值。6.根据权利要求1~5中的任一项所述的稀释液制造方法,其特征在于,所述第一液体是超纯水,所述第二液体是将电解质溶解得到的水溶液。7.根据权利要求1~...
【专利技术属性】
技术研发人员:林佳史,山下幸福,山中弘次,矢野大作,
申请(专利权)人:奥加诺株式会社,
类型:发明
国别省市:日本,JP
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。