纯水制造方法以及纯水制造装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供纯水制造方法，使用混床式离子交换装置从含有二氧化硅的被处理水制造纯水，包括：采水工序，使被处理水与混床式离子交换装置所内置的离子交换树脂接触；在采水工序后执行的再生工序，使离子交换树脂的离子交换性能再生；以及静置工序，在再生工序后，将不对混床式离子交换装置进行通水、采水的静置状态维持给定的静置时间，上述静置时间为0.5小时以上且720小时以下。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及使用混床式离子交换装置从含有二氧化硅的被处理水制造纯水的纯水制造方法以及纯水制造装置。

技术介绍

1、一般而言，在半导体制造工厂等中所使用的纯水(超纯水)是使用具备预处理装置、一次纯水制造装置以及对一次纯水进行处理的子系统的纯水制造装置而制造的。

2、预处理装置将上下水、地下水等原水中所含的悬浮物质通过凝聚、沉淀、过滤来进行去除，并由具有反渗透膜以及离子交换装置的一次纯水制造装置去除原水成分的99～99.99％来生成一次纯水。上述子系统通过去除残留在一次纯水中的极微量的离子、胶体成分来生成超纯水。

3、在这样的超纯水的制造工序中，要从原水去除离子来生成一次纯水，主要采用离子交换装置。作为离子交换装置，已知有将阳离子(正离子)交换树脂与阴离子(负离子)交换树脂分别作为单床使用的复床式离子交换装置、以及将阳离子交换树脂与阴离子交换树脂以混合状态使用的混床式离子交换装置。关于复床式离子交换装置，例如在jp特开2000-301145号公报中有所记载。另外，关于混床式离子交换装置，例如在jp特开平6-315683号公报中有所记载本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种纯水制造方法，是使用混床式离子交换装置从含有二氧化硅的被处理水制造纯水的方法，包括：

2.根据权利要求1所述的纯水制造方法，其中，

3.根据权利要求1或2所述的纯水制造方法，其中，

4.根据权利要求1或2所述的纯水制造方法，其中，

5.一种纯水制造装置，从含有二氧化硅的被处理水制造纯水，所述纯水制造装置具有混床式离子交换装置以及控制装置，

【技术特征摘要】

1.一种纯水制造方法，是使用混床式离子交换装置从含有二氧化硅的被处理水制造纯水的方法，包括：

2.根据权利要求1所述的纯水制造方法，其中，

3.根据权利要求1或2所述的纯水制...

【专利技术属性】
技术研发人员：伊藤沙耶，横田治雄，
申请(专利权)人：奥加诺株式会社，
类型：发明
国别省市：