品质管理系统、对象物管理系统以及对象物管理方法技术方案

技术编号：40822674 阅读：2 留言：0更新日期：2024-04-01 14:42

本发明专利技术的品质管理系统具有：取得部(100)，取得浓缩期间信息，该浓缩期间信息表示使浓缩单元对用于清洗对象物的清洗液所包含的杂质进行浓缩的期间；数据库(200)，将赋予为对象物固有的对象物识别信息与表示对对象物进行了清洗的期间的清洗期间信息相关联地作为关联信息进行存储；以及确定部(300)，基于取得部(100)取得的浓缩期间信息和存储于数据库(200)中的关联信息，来确定使用与在浓缩期间信息所示的浓缩期间向浓缩单元供给的清洗液对应的清洗液进行了清洗的对象物。

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【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

本专利技术涉及一种品质管理系统、对象物管理系统以及对象物管理方法。

技术介绍

1、近年来，半导体器件等电子部件在各种场景下使用，高功能化、高集成化不断发展。在这样的电子部件中，不言而喻需要确保高品质。通常，为了向市场供给符合需求的电子部件，进行精密的设计工序、包括使用超纯水的清洗处理的制造工序、严密的检查工序等。例如，考虑如下方法：预先存储各工序中的处理条件与比该工序靠后的工序中的质量管理条件的关系，基于所存储的关系，选择与检测到的处理条件对应的品质管理条件，基于所选择的品质管理条件和检测到的品质，进行半导体装置的良好与否判定(例如，参照专利文献1)。

2、现有技术文献

3、专利文献

4、专利文献1：日本特开2004-296676号公报

技术实现思路

1、专利技术所要解决的课题

2、如上所述的技术中的品质管理是每个工序的品质管理。因此，存在难以进行与制造期间相应的品质的严密管理这样的问题点。

3、本专利技术的目的在于提供一种能够进行与期间相应的品质的严密管理的品质管理系统、对象物管理系统以及对象物管理方法。

4、用于解决课题的技术方案

5、本专利技术的品质管理系统具有：

6、取得部，其取得浓缩期间信息，该浓缩期间信息表示使浓缩单元对用于清洗对象物的清洗液所包含的杂质进行浓缩的期间；

7、数据库，其将赋予为所述对象物固有的对象物识别信息与表示对该对象物进行了清洗的期间的清洗期间

8、确定部，其基于所述取得部取得的浓缩期间信息和存储于所述数据库中的关联信息，来确定使用与在所述浓缩期间信息所示的浓缩期间向所述浓缩单元供给的清洗液对应的清洗液进行了清洗的对象物。

9、另外，本专利技术的对象物管理系统具有：

10、液质测定部，其测定用于清洗对象物的清洗液的液质；

11、调整阀，其设置于向清洗槽供给所述清洗液的流路；以及

12、开闭控制部，其基于所述液质测定部测定出的液质，来控制所述调整阀的开闭。

13、另外，本专利技术的对象物管理方法测定用于清洗对象物的清洗液的液质，并基于所测定出的所述液质，使用设置于向清洗槽供给所述清洗液的流路的调整阀，来控制所述清洗液向清洗所述对象物的清洗槽的供给。

14、专利技术效果

15、在本专利技术中，能够进行与期间相应的品质的严密管理。

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【技术保护点】

1.一种品质管理系统，其具有：

2.根据权利要求1所述的品质管理系统，其中，

3.根据权利要求1或2所述的品质管理系统，其中，

4.根据权利要求1至3中任一项所述的品质管理系统，其中，

5.根据权利要求4所述的品质管理系统，其中，

6.一种对象物管理系统，其具有：

7.根据权利要求6所述的对象物管理系统，其中，

8.根据权利要求6或7所述的对象物管理系统，其中，

9.一种对象物管理方法，基于用于清洗对象物的清洗液的液质，使用设置于向清洗槽供给所述清洗液的流路的调整阀，来控制所述清洗液向清洗所述对象物的清洗槽的供给。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

1.一种品质管理系统，其具有：

2.根据权利要求1所述的品质管理系统，其中，

3.根据权利要求1或2所述的品质管理系统，其中，

4.根据权利要求1至3中任一项所述的品质管理系统，其中，

5.根据权利要求4所述的品质管理系统，其中，

6.一种对象物管...

【专利技术属性】
技术研发人员：中居巧，茑野恭平，
申请(专利权)人：奥加诺株式会社，
类型：发明
国别省市：

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