纯水制造装置以及纯水制造方法制造方法及图纸

技术编号：39944023 阅读：11 留言：0更新日期：2024-01-08 22:47

提供一种纯水制造装置，在不添加过氧化氢等氧化剂的前提下降低被处理水的TOC浓度。纯水制造装置(1)具有：紫外线照射装置(16)，向被处理水照射紫外线；TOC获取部(19)和溶解氧浓度获取部(20)，设置于紫外线照射装置(16)的前级；以及控制单元(21)，控制溶解氧浓度，以使由溶解氧浓度获取部(20)测量出的被处理水的溶解氧浓度相对于由TOC获取部(19)测量出的被处理水的TOC浓度的重量比率为1以上且7以下。

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【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

本申请以2021年5月12日提交的日本申请特愿2021-80873为基础，且基于该日本申请主张优先权。该日本申请的全部内容通过参照而取入本申请。本专利技术涉及纯水制造装置和纯水制造方法，尤其涉及使用紫外线照射装置的纯水制造装置。

技术介绍

1、对被处理水中的有机物进行分解来降低toc(总有机碳)浓度的技术是已知的。在日本特开2011-218248公报中公开了一种纯水制造装置，具有过氧化氢的添加装置以及设置于其后级的紫外线照射装置。通过向添加了过氧化氢的被处理水照射紫外线来产生氧化力强的oh自由基。由此，能高效地分解被处理水中的有机物。

技术实现思路

1、专利技术要解决的课题

2、在日本特开2011-218248公报记载的纯水制造装置中，在被照射了紫外线的被处理水即紫外线照射装置的处理水中残留有过氧化氢。残留的过氧化氢有可能使后级的装置劣化。故而，需要后级的装置的频繁维护、过氧化氢的去除单元。

3、本专利技术的目的在于，提供一种纯水制造装置，能在不添加过氧化氢等氧化剂的前提下降低被处理水的toc浓度。

4、用于解决课题的技术方案

5、本专利技术的纯水制造装置具有：紫外线照射装置，其向被处理水照射紫外线；toc获取部和溶解氧浓度获取部，其设置于紫外线照射装置的前级；以及控制单元，其控制溶解氧浓度，以使由溶解氧浓度获取部测量出的被处理水的溶解氧浓度相对于由toc获取部测量出的被处理水的toc浓度的重量比率为1以上且7以下。

6、

7、上述以及其他的本专利技术的目的、特征以及优点将通过参照例示了本专利技术的附图的以下说明的具体实施方式而明确。

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【技术保护点】

1.一种纯水制造装置，具有：

2.根据权利要求1所述的纯水制造装置，其中，

3.根据权利要求1或2所述的纯水制造装置，其中，

4.根据权利要求3所述的纯水制造装置，其中，

5.根据权利要求1至4中任一项所述的纯水制造装置，其中，

6.根据权利要求1至5中任一项所述的纯水制造装置，其中，

7.根据权利要求6所述的纯水制造装置，其中，

8.根据权利要求1至7中任一项所述的纯水制造装置，其中，

9.根据权利要求1至8中任一项所述的纯水制造装置，其中，

10.一种纯水制造方法，包括如下步骤：

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

1.一种纯水制造装置，具有：

2.根据权利要求1所述的纯水制造装置，其中，

3.根据权利要求1或2所述的纯水制造装置，其中，

4.根据权利要求3所述的纯水制造装置，其中，

5.根据权利要求1至4中任一项所述的纯水制造装置，其中，

6.根据...

【专利技术属性】
技术研发人员：高桥悠介，高桥一重，
申请(专利权)人：奥加诺株式会社，
类型：发明
国别省市：

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