【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及包含基于四芳基引达省(indaceno)并二噻吩的结构单元的化合物,此种化合物的合成以及它们在有机电子器件中的用途。本专利技术还涉及包含此种化合物的有机电子器件。现有技术背景和描述近年来,已经做出了大量努力来开发有机半导体(OSC)材料以便能够生产更多用途、较低成本的电子器件。此种材料应用在很宽范围的器件或设备中,仅举几个例子,例如有机场效应晶体管(OFET)、有机发光二极管(OLED)、光探测器、有机光伏(OPV)电池、传感器、存储元件和逻辑电路。有机半导体材料通常以例如50至300nm厚度的薄层形式存在于电子器件中。由于其良好的半导体性能,多环芳族化合物,或者作为“小分子”(例如并五苯),或者以聚合物的形式(例如聚(己基噻吩)),广泛用于有机电子学中,然而,这些材料具有很多缺点,其阻碍了大规模的商品化生产。通常这些多环芳族化合物的特征在于低溶解度并因此常常仅可以通过气相沉积方法加工。此外,它们还难于合成并且在某些情况下,例如并五苯,对氧化极其敏感。除此之外,它们的电荷载流子迁移率和通/断比仍留有改进的空间。一类有前景的共轭聚合物基于茚并芴单元并在S.Setayesh等,Macromolecules2000,33,2016-2020(DOI:10.1021/ma9914366)中首次被报道为用于在电致发光应用中蓝光发射的候选材料。WO2007/131582中也已经公开了茚并芴共聚物,其用于在晶体管器件中作为有机半导体材料。包含引达省并噻吩单元的聚合物已经被公开在例如WO2012/174561中;WO2012/088698中;EP207 ...
【技术保护点】
化合物,其包含至少一种选自式(I‑a)和式(I‑b)的结构单元M其中X1和X2彼此独立地是S或Se;Ar1,Ar2,Ar3和Ar4彼此独立地是芳基,所述芳基包含至少一个取代基R,所述取代基R是包含13至19个碳原子的有机基或有机杂基;a是0或1至10的整数;和Ar5在每次出现时独立地选自具有至多30个芳环原子的芳基、取代芳基、杂芳基和取代杂芳基。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2014.05.26 EP 14001828.41.化合物,其包含至少一种选自式(I-a)和式(I-b)的结构单元M其中X1和X2彼此独立地是S或Se;Ar1,Ar2,Ar3和Ar4彼此独立地是芳基,所述芳基包含至少一个取代基R,所述取代基R是包含13至19个碳原子的有机基或有机杂基;a是0或1至10的整数;和Ar5在每次出现时独立地选自具有至多30个芳环原子的芳基、取代芳基、杂芳基和取代杂芳基。2.根据权利要求1的化合物,其中Ar1、Ar2、Ar3和Ar4彼此独立地选自式(F1)至(F9)其中R21、R22、R23、R24、R25、R26、R27、R28和R29彼此独立地选自H、F、Br、Cl、-CN、-NC、-NCO、-NCS、-OCN、-SCN、-C(O)NR0R00、-C(O)X0、-C(O)R0、-NH2、-NR0R00、-SH、-SR0、-SO3H、-SO2R0、-OH、-OR0、-NO2、-SF5、-SiR0R00R000,具有1至40个碳原子的取代或未取代烃基,和包含一个或多个杂原子的具有1至40个碳原子的取代或未取代烃基,所述杂原子选自N、O、S、P、Si、Se、As、Te或Ge,N、O和S是优选的杂原子,条件是R21、R22、R23、R24、R25、R26、R27、R28和R29中的至少一个是R,其中R0、R00和R000在每次出现时彼此独立地是H、F或C1-40任选取代的有机基或有机杂基;和X0是卤素。3.根据权利要求1或权利要求2的化合物,其中Ar1、Ar2、Ar3和Ar4彼此独立地是包含至少一个取代基R的苯基。4.根据前述权利要求的任何一项或多项的化合物,其中Ar1、Ar2、Ar3和Ar4彼此独立地是5.根据前述权利要求的任何一项或多项的化合物,其中R是具有13至19个碳原子的烷基。6.根据前述权利要求的任何一项或多项的化合物,其中X1和X2是S。7.根据前述权利要求的任何一项或多项的化合物,其中a不是0并且Ar5在每次出现时独立地选自具有电子给体性能的亚芳基或杂亚芳基和具有电子受体性能的亚芳基或杂亚芳基。8.根据前述权利要求的任何一项或多项的化...
【专利技术属性】
技术研发人员:W·米切尔,M·德拉瓦利,王常胜,D·斯帕罗,
申请(专利权)人:默克专利股份有限公司,
类型:发明
国别省市:德国;DE
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。