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在基板上制备纳米点阵列的方法及其装置制造方法及图纸

技术编号:1404878 阅读:154 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术公开了在基板上制备纳米点阵列的方法及其装置,其制备包括:配置最终形成纳米点材料的前驱体分散系;将具有点阵排列的多孔模板与恒温基板固定于精密位移装置的上下对应位置;利用压力泵加压使前驱体分散系通过多孔模板并与基板接触,在基板上形成与模板孔相对应的纳米液滴,蒸发溶剂,在基板上形成固化的前驱体球;将具有前驱体球的基板进行个热处理,得到纳米点阵列。该方法通过调节模板与基板间的间距,施加压力的大小,模板孔洞的尺寸和分布,前驱体分散系的浓度和基板的选择,可以控制阵列中纳米点的尺寸、密度及成分掺杂等。所得纳米点阵列可望在高密度存储器领域、高分辨率传感器领域、催化领域、光子晶体领域获得广泛地应用。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
在基板上制备纳米点阵列的方法,其步骤如下:1)配置最终形成纳米点材料的前驱体分散系;2)将具有点阵排列的多孔模板与恒温基板固定于精密位移装置的上下对应位置;3)利用压力泵加压使前驱体分散系通过多孔模板并与恒温基板接触 ,在恒温基板上形成与模板孔相对应的纳米液滴,蒸发溶剂,在恒温基板上形成固化的前驱体球;4)将具有前驱体球的基板进行热处理,得到纳米点阵列。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:翁文剑罗鸣韩高荣杜丕一程逵沈鸽赵高凌张溪文徐刚汪建勋
申请(专利权)人:浙江大学
类型:发明
国别省市:86[中国|杭州]

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