The invention discloses a method for improving the cleaning efficiency of the wet cleaning tank and cleaning method, through the tank at the bottom of both sides and the middle position of the first set fourth liquid inlet pipe, the first second, third, fourth liquid inlet pipe and the liquid inlet pipe alternately opened and closed in the water inside the two side and middle position are respectively opposite alternating intermittent spray, to increase the volatility of water flow, improve water flow rate through the surface of the chip, and will not damage the fragile graphics chip surface, thereby improving the cleaning effect and cleaning efficiency.
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及先进集成电路制造工艺
,更具体地,涉及一种在湿法清洗制程中可提高清洗效率的湿法清洗水槽及其清洗方法。
技术介绍
槽式湿法清洗几十年来在湿法清洗制程里一直占统治地位,同时槽式湿法清洗也是最成熟、稳定的制程。但是,随着技术的发展,在先进制程中,芯片设计的关键尺寸越来越小,对湿法清洗的质量要求也越来越高。这对传统的槽式清洗提出了很大的挑战。槽式清洗一般采用酸液槽浸泡---水槽清洗---酸液槽浸泡---水槽清洗---干燥的交替步骤。其中,酸液槽可为HF酸、SPM、SC1、SC2等酸液槽。每经过一个酸液槽,其后面设置的水槽即用来清洗掉芯片表面剩余的残酸,起到清洗芯片表面的作用。而且在芯片干燥前的最近一个步骤,一定是水槽清洗。所以水槽清洗的好坏就决定了槽式湿法清洗的效率。请参阅图1,图1是现有的一种湿法清洗水槽结构示意图。如图1所示,该水槽用于对经酸液浸泡后的芯片进行清洗。芯片11可通过芯片卡槽12固定在水槽10中,在水槽底部的两侧各设置有一个进液阀13,用于沿水槽底部两侧向中间方向进行不间断供水。水流可在水槽内从下到上作溢流流动排出水槽(如图示箭头所指)。然而,上述水槽的进液模式,仅起到单纯的水流溢流流动清洗作用,清洗效果并不好。这种清洗方式对芯片上精细图形结构的清洗效果以及清洗效率,已越来越难以满足先进制程对清洗的质量要求。为了增加水槽的清洗效果和清洗效率,已开始引进兆声波技术。利用兆声波的物理作用,可增加流经芯片表面的水流速度,达到更好的清洗效果。但是采用兆声波清洗的副作用是,兆声波往往会损坏芯片上的脆弱图形,造成良率损失。所以在先进制程的 ...
【技术保护点】
一种提高清洗效率的湿法清洗水槽,其特征在于,所述水槽的底部设有第一‑第四进液管,用于向水槽内进行喷水,并使水流在水槽内从下到上作溢流流动;其中,第一、第二进液管分设于水槽的底部两侧,其进液方向为指向水槽的中间,第三、第四进液管并列设于水槽的底部中间,其进液方向为指向水槽的两侧;通过使第一、第二进液管与第三、第四进液管交替开启和关闭,在水槽内的两侧和中间位置分别相向进行交替间断喷水,以增加水流的波动性,提高水槽内流经芯片表面的水流速度,从而提高清洗效果和清洗效率。
【技术特征摘要】
1.一种提高清洗效率的湿法清洗水槽,其特征在于,所述水槽的底部设有第一-第四进液管,用于向水槽内进行喷水,并使水流在水槽内从下到上作溢流流动;其中,第一、第二进液管分设于水槽的底部两侧,其进液方向为指向水槽的中间,第三、第四进液管并列设于水槽的底部中间,其进液方向为指向水槽的两侧;通过使第一、第二进液管与第三、第四进液管交替开启和关闭,在水槽内的两侧和中间位置分别相向进行交替间断喷水,以增加水流的波动性,提高水槽内流经芯片表面的水流速度,从而提高清洗效果和清洗效率。2.根据权利要求1所述的提高清洗效率的湿法清洗水槽,其特征在于,所述第一-第四进液管设有多个进液口,用于同时向水槽内进行喷水。3.根据权利要求1或2所述的提高清洗效率的湿法清洗水槽,其特征在于,所述第一-第四进液管分设有第一-第四进液阀,用于控制第一-第四进液管的开启和关闭。4.根据权利要求3所述的提高清洗效率的湿法清洗水槽,其特征在于,所述第一-第四进液阀为电磁控制阀。5.根据权利要求1或2所述的提高清洗效率的湿法清洗水槽,其特征在于,所述第一-第四进液管分设有第一-第四质量流量控制器,用于控制向水槽...
【专利技术属性】
技术研发人员:宋振伟,徐友峰,
申请(专利权)人:上海华力微电子有限公司,
类型:发明
国别省市:上海;31
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