一种纳米压印设备用光刻胶制造技术

本发明专利技术公开了一种纳米压印设备用光刻胶，一种纳米压印设备用光刻胶按重量份数计，其组成为：有机小分子溶剂60‑80份、环氧树脂30‑50份、交联剂1‑5份、稳定剂1‑3份、纳米二氧化硅10‑15份、纳米氧化铝10‑15份、光引发剂1‑5份、光聚合单体1‑2份、助剂1‑3份。本发明专利技术具有表面性能稳定，提高脱模效果，提高压印精度，减少压印缺陷的特点。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种纳米压印设备用光刻胶。
技术介绍
纳米压印是受到广泛关注的下一代光刻技术，高精度、高分辨率、廉价的特点使其很可能成为下一代主流光刻技术，光刻胶是纳米压印关键材料，其性能将影响压印图形复制精度、图形缺陷率和图形向底材转移时刻蚀选择性，氟聚合物作为光刻胶材料能够较好的降低光刻胶表面张力，但会造成光刻胶刻蚀选择性下降，也会减小光刻胶对底材的粘附力。同时，为满足成膜及对底材的粘附，使用有机硅或氟聚合物为主体的光刻胶材料只能将表面能降低到一个较大的数值，对大面积高分辨率结构的压印难以得到满意的脱模效果。
技术实现思路
本专利技术目的：本专利技术的目的是为了解决现有技术中的不足，提供一种表面性能稳定，提高脱模效果，提高压印精度，减少压印缺陷的纳米压印设备用光刻胶。本专利技术的目的通过以下技术方案来实现一种纳米压印设备用光刻胶，所述一种纳米压印设备用光刻胶按重量份数计，其组成为：进一步的，交联剂为双官能团、多官能团单体中的一种。进一步的，助剂选自稳定剂、流平剂、消泡剂、防缩孔剂、附着力促进剂以及表面爽滑剂中的至少一种。进一步的，有机小分子溶剂为丙烯酸酯、乙烯基醚中的至少一种。本专利技术的与现有光刻胶相比具有以下优点：有机小分子溶剂作为主体成分，降低低粘度，提供更好的流动性，能够调节膜厚、促进成膜，环氧树脂决定光刻胶的聚合过程和成膜性能， 提高光刻胶在生产过程中的工作效率的提高，交联剂使固化后的光刻胶有足够的机械强度，减少光刻胶在压印过程中的形变，从而保证压印的质量，光引发剂引发聚合反应，吸收紫外光，助剂能够调节流平和表面性能，使表面性能稳定，提高脱模效果，提高压印精度，纳米二氧化硅提高光刻胶的抗刻蚀能力，减少压印缺陷，纳米氧化铝耐热性强，成型性好，使压印时较为精准，质量不受影响，提高模板寿命，提高脱模效果。具体实施方式为了加深本专利技术的理解，下面我们将对本专利技术作进一步详述，该实施例仅用于解释本专利技术，并不构成对本专利技术保护范围的限定。实施原料：有机小分子溶剂、环氧树脂、交联剂、稳定剂、纳米二氧化硅、纳米氧化铝、光引发剂、光聚合单体、助剂。实施过程：上述配方原料均可在市场上购得，按照组成成分的重量，称取相应的份数，经过相应的工序加工成胶。实施例1有机小分子溶剂60份、环氧树脂50份、交联剂1份、稳定剂1份、纳米二氧化硅12份、纳米氧化铝12份、光引发剂1份、光聚合单体1份、助剂1份，将上述几种物质依次加入烧杯中加热并搅拌，在50℃温度下稳定半小时，经0.1μm孔径过滤器过滤即得表面处理剂,以上操作均在避光条件下进行，得到纳米压印设备用光刻胶。实施例2有机小分子溶剂70份、环氧树脂30份、交联剂3份、稳定剂2份、纳米二氧化硅10份、纳米氧化铝10份、光引发剂3份、光聚合单体2份、助剂2份，将上述几种物质依次加入烧杯中加热并搅拌，在50℃温度下稳定半小时，经0.1μm孔径过滤器过滤即得表面处理剂,以上操作均在避光条件下进行，得到纳米压印设备用光刻胶。实施例3有机小分子溶剂80份、环氧树脂40份、交联剂5份、稳定剂3份、纳米二氧化硅15份、纳米氧化铝15份、光引发剂5份、光聚合单体1份、助剂3份，将上述几种物质依次加入烧杯中加热并搅拌，在50℃温度下稳定半小时，经0.1μm孔径过滤器过滤即得表面处理剂,以上操作均在避光条件下进行，得到纳米压印设备用光刻胶。上述具体实施方式，仅为说明本专利技术的技术构思和结构特征，目的在于让熟悉此项技术的相关人士能够据以实施，但以上内容并不限制本专利技术的保护范围，凡是依据本专利技术的精神实质所作的任何等效变化或修饰，均应落入本专利技术的保护范围之内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种纳米压印设备用光刻胶，其特征在于：所述一种纳米压印设备用光刻胶按重量份数计，其组成为：。

【技术特征摘要】
1.一种纳米压印设备用光刻胶，其特征在于：所述一种纳米压印设备用光刻胶按重量份数计，其组成为：。2.根据权利要求1所述的一种纳米压印设备用光刻胶，其特征在于：所述交联剂为双官能团、多官能团单体中的一种。3.根据权利要求1所述的一种纳...

【专利技术属性】
技术研发人员：王晶，
申请(专利权)人：无锡英普林纳米科技有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏;32