武汉新芯集成电路制造有限公司专利技术

武汉新芯集成电路制造有限公司共有1508项专利

  • 本实用新型提出一种过滤装置,所述过滤装置包括溶液箱、设置在溶液箱内的过滤器,溶液箱具有能够拆卸的封口。本实用新型还提供了一种使用过滤装置的溴化锂吸收式制冷机,溴化锂吸收式制冷机包括溶液泵、与溶液泵连通的腔体、以及过滤装置,过滤装置的一端...
  • 本发明提供一种化学机械研磨中的研磨液供应系统,其泵装置采用磁悬浮泵,研磨液盛桶通过管道与所述磁悬浮泵的研磨液入口相连接,所述磁悬浮泵的研磨液出口通过管道将研磨液输向研磨液供给出口,所述研磨液供给出口包含研磨液回流出口,所述研磨液回流出口...
  • 本发明提出一种金属互连结构的制作方法及平坦化工艺,包括下列步骤:提供一半导体衬底;在所述半导体衬底上沉积电介质层,所述电介质层包括依次层叠的绝缘层和缓冲氧化层;蚀刻所述电介质层至露出半导体衬底以形成凹槽;在上述结构表面沉积阻挡层;在凹槽...
  • 本发明揭露了一种闪存器件及其制造方法,所述制造方法包括:提供半导体衬底,所述半导体衬底上形成有栅极结构以及位于所述栅极结构侧壁的间隙壁;在所述栅极结构的顶部形成隔离氧化层;在所述隔离氧化层上形成光刻胶层;以所述光刻胶层和所述间隙壁为掩膜...
  • 本发明提供一种样品观测载网,包括网格载体、形成于所述网格载体之上的支持膜和形成于所述支持膜之上的第一导电膜,还包括第二导电膜,所述第二导电膜形成于所述第一导电膜之上。本发明提供的样品观测载网及其制造方法由于在样品观测载网的第一导电膜之上...
  • 本实用新型的孔洞清洁器包括气囊、密封盖、刷子以及刷子转动驱动装置;所述密封盖与所述气囊密封连接;所述密封盖设有进气通道;所述刷子的一端穿过所述密封盖设置在所述气囊内,该刷子为中空刷子,外部气体通过所述进气通道进入所述气囊,再由所述刷子排...
  • 本实用新型的晶圆盒包括加热器,所述加热器上设有定位销,其特征在于,所述定位销设有毛细管,该毛细管从所述定位销的底端贯穿至所述定位销的顶端。本实用新型的晶圆盒可避免产生定位销跳动现象,精确定位晶圆。
  • 本实用新型提供一种用于TEM样品提取的装置,包括放置台,还包括上托板、下托板和调节螺丝,其中所述上托板上设置有与所述放置台相适配的固定孔,所述下托板的一端与所述上托板连接,所述下托板的另一端设置有与所述调节螺丝相适配的螺丝孔。综上所述,...
  • 本实用新型提出一种内盖开启器,包括:一个可捏持的把手以及两个薄片,所述两个薄片开口相向,分别连接在把手两端,所述两个薄片在同一平面内。本实用新型提出的内盖开启器,通过将薄片的开口处轻轻插入内盖与瓶口之间,待内盖与瓶口之间的缝隙可以将整个...
  • 本实用新型涉及一种清洗装置,尤其涉及一种研磨头保湿清洗装置。这种研磨头保湿清洗装置,包括设置在所述研磨头侧边的喷射支撑管,所述喷射支撑管设有用于清洗研磨头的喷嘴,所述研磨头通过一转轴设置在一横向导轨的下方,所述喷嘴有两个以上,所述喷嘴所...
  • 本实用新型公开了一种检测晶片,用于检测旋转单元中的冲洗机构的冲洗状态,其中,所述旋转单元上设置有真空吸盘,该检测晶片为圆片状的玻璃,其背面从外边沿向内的第一圆环区域经过磨砂化处理或贴有磨砂化薄膜,所述第一圆环区域的外径等于玻璃的直径,其...
  • 本实用新型揭露了一种辅助定位装置,所述辅助定位装置包括支架,固定在所述支架上的投影装置及位于所述投影装置上方的点光源,所述投影装置包括一透明投影板,所述透明投影板上贴有不透光的黑色薄膜,在宏观目检的过程中,所述点光源照射在所述透明投影板...
  • 本实用新型提供一种水封箱,包括箱体,所述箱体内设置有隔板,所述隔板将所述箱体分割为上箱体和下箱体;所述上箱体上具有溢流水入口,所述上箱体还连接有进水管;所述上箱体与所述下箱体内,设置有箱内溢流管,所述箱内溢流管穿透所述隔板,所述箱内溢流...
  • 本实用新型提供一种用于污染物处理系统的pH值测量装置,包括:稀释箱,液体流通管道,第一自来水通入管道,悬浮液位器,pH值测量探头,pH值显示装置以及第一排泄管道。所述pH值测量探头位于所述稀释箱内,处于被稀释后pH值更接近中性的溶液环境...
  • 本实用新型揭示了一种化学试剂供应装置,所述化学试剂供应装置包括:回收管路,其一端连接储存有化学试剂的供应单元,另一端连接储液单元;第一供气管路,其一端连接所述储液单元,另一端连接第一三通接头;第二供气管路,其一端连接所述第一三通接头,另...
  • 本实用新型揭露了一种支撑装置,所述支撑装置包括支撑架以及设置于所述支撑架上的多个支撑脚,所述支撑脚的内侧面为多级台阶式。使用本实用新型所提供的支撑装置进行烘焙的过程中,氮气可以流入到挡板和面板底部,可缩短烘焙时间,从而提高了生产效率,并...
  • 本实用新型提供一种排气管路,用于化学气相淀积设备,包括:歧管;第一管路,一端与所述歧管相连;以及第二管路,一端与所述歧管相连;其中,所述第二管路的一端具有一延伸部延伸至所述歧管内部,所述延伸部的末端接近所述歧管的出气口。所述第一管路内的...
  • 本实用新型涉及化学机械研磨设备,尤其涉及一种研磨液供应装置。这种研磨液供应装置,包括研磨液罐,还包括保湿液罐,所述保湿液罐内液面上的空间与所述研磨液罐内液面上的空间密闭连通。增设一个与研磨液罐密闭连通的保湿罐后,只要保证研磨液罐内的空间...
  • 本实用新型属于半导体制造领域。公开了一种用于化学气相淀积反应室的紧固组件,包括若干用于连接反应室周壁和气源箱底板的螺栓,所述螺栓和气源箱底板之间设有一隔离板,所述隔离板上设置有圆周刻度,所述螺栓设有与所述圆周刻度相对应的指针。利用指针转...
  • 本实用新型提出的晶圆标记装置,包括:第一筒体,所述第一筒体套合在光学显微镜的镜头的外侧壁上;一端具有孔洞的第二筒体,所述第二筒体的另一端与所述第一筒体匹配连接,所述孔洞与所述镜头中的透镜位置相对应;至少一个吸附单元,所述吸附单元内储存有...