本发明涉及向喷嘴侧供给用于基板清洗的气液两相的双流体的双流体供给模块及利用该模块的清洗装置。本发明所公开的基板清洗用双流体供给模块具有清洗液流入口、空气流入口、清洗液流路、空气流路、清洗液流出口以及空气流出口，从而能够向基板清洗用上部喷...

本发明公开一种衬底移送轴用支撑块及利用该支撑块的衬底移送装置。在本发明中，用于向支撑衬底移送轴的轴承供给润滑液的通道被埋设在衬底移送轴用支撑块的内部，从而不必另设外部润滑油供给管，因此改善了其美观性，且更容易维护及维修衬底移送装置。并且...

本发明提供一种具有被构造成沉淀防止部分的大面积基底蚀刻设备以及一种防沉淀方法。该大面积基底蚀刻设备包括：蚀刻室，具有设置在一侧的入口部分，穿过入口部分输送基底，并在蚀刻室中蚀刻基底；沉淀防止部分，设置在入口部分处，并防止在蚀刻室中产生的...

本发明涉及一种感光液狭缝喷嘴的感光液硬化防止装置及方法，本发明所提供的感光液狭缝喷嘴的感光液硬化防止装置，包含：收容部，用于收容硬化防止液和感光膜涂布喷嘴的狭缝，并使感光膜涂布喷嘴的狭缝不与硬化防止液接触；狭缝接触部件，用于使部分硬化防...

一种喷射均匀度测量装置，用于测量狭缝喷嘴的喷射均匀度，其特征在于包含：　　　　沿所述狭缝喷嘴的横向按照一定区间分配所述狭缝喷嘴所喷出的喷射液体的喷射液体分配器；　　　　测量所述喷射液体分配器所分配的各喷射液体量的喷射液体测量单元。

一种喷射均匀度测量装置，用于测量狭缝喷嘴的喷射均匀度，其特征在于包含：　　　　沿所述狭缝喷嘴的横向并排的多个流体压力测量单元，该流体压力测量单元具有与所述狭缝喷嘴的喷出口相对的流体压力检测面，并测量所述喷出口所喷出的流体的喷射压力；　　...

本发明涉及狭缝式涂布机用预备排出装置，包含：滚轮，接收通过狭缝喷嘴预备排出的感光液；收容部，可旋转地支撑滚轮并使收容的滚轮的一部分露出到外部；清洗组件，在收容部内沿着所述滚轮外表面贴近设置，所述清洗组件包含：溶液供应管，用于供应稀释感光...

本发明涉及狭缝式涂布机的高粘度涂布液涂布装置及其涂布方法。所述涂布装置包括：涂布液储藏罐；泵，用于将所述涂布液储藏罐里的涂布液通过供给管路压送至喷嘴侧；控制部，用于控制所述泵及喷嘴的工作；以及压力检测部，用于检测所述供给管路的压力而传送...

本发明提供一种表面检测装置及利用该检测装置的表面检测方法。该表面检测装置，包含：与检测对象的检测表面隔离而设置的移送杆；具有分别结合于移送杆两端的发光部和收光部的光传感器，以用于在与检测对象的检测表面相隔预定间距的上方按照与检测对象的检...

本发明涉及玻璃基板边缘检查装置及利用该装置的玻璃基板边缘检查方法。该玻璃基板边缘检查装置包含：移送部，以用于沿某一方向移送玻璃基板；设在玻璃基板一表面两侧与玻璃基板保持相当于焦距的距离的固定式扫描模块，以用于扫描处于移送状态的玻璃基板的...

本发明涉及大面积基板干燥装置及方法，本发明所提供的大面积基板干燥装置包含：通过喷射干燥空气对被移送的大面积基板进行干燥的风刀；薄雾清除部，以用于向大面积基板上均匀地垂直喷射与供应到所述风刀的干燥空气相同或具有更低露点的干燥空气，而且其喷...

本发明公开了一种等离子体产生装置，其可以在所期望的位置混合源气体和活性气体。上述等离子体产生装置包括：等离子体产生单元；配置在等离子体产生单元下面的喷头，喷头与等离子体产生单元一起形成等离子体室，且包括上下结合的上板结构和包括多个源气体...

本发明涉及一种化学机械抛光（ＣＭＰ）研磨剂，其包括二氧化铈浆料与含有两个或两个以上官能团的化学添加剂，其中该化学添加剂是通过将一种聚合分子与一种单体混合且合成来获得。本发明还涉及制造该ＣＭＰ研磨剂的方法，其包括提供二氧化铈浆料、通过在反...

本发明揭示一种磨料颗粒、抛光浆料及其制造方法。前述抛光浆料用于ＳＴＩ　　ＣＭＰ（浅槽隔离化学机械抛光）制程，其为制造２５６Ｍ（ｍｅｇａ）Ｄ－ＲＡＭ或更大的超高集成半导体（设计标准为小于或等于０．１３μｍ）所必需，该抛光浆料可以较高移除速...

本发明涉及一种基片存放容器的干式清洗装置，该干式清洗装置包含：装载部，以用于投入并移送基片存放容器；清洗部，以用于使用干冰粒子清洗所述基片存放容器；卸载部，以用于搬出并移送在所述清洗部完成清洗的所述基片存放容器。依据本发明，因为使用干冰...

本发明涉及基片清洗用二流体喷射模块及利用该二流体喷射模块的基片清洗装置，所提供的基片清洗用二流体喷射模块包含：主体内部的用于接收干燥空气的第一接收部；所述主体内部的用于接收清洗液的第二接收部；喷射通道，该喷射通道一端与所述第一接收部连通...

本发明涉及一种用于清除为进行在基板上涂敷光刻胶等多种基板处理作业而固定基板的基板固定盘上表面的杂质的基板固定盘清洗单元、清洗装置及清洗方法。依据本发明所提供的基板固定盘清洗单元，包含：主体；形成在所述主体并向所述基板固定盘喷射清洗剂的喷...

本发明涉及一种湿式清洗设备的防清洗液流出装置，本发明所提供的湿式清洗设备的防清洗液流出装置包含：驱动轴，该驱动轴的从清洗室内部贯通所述清洗室外壁而向外部突出的一端与旋转驱动源结合，由此得到旋转驱动力；设在所述驱动轴轴线上的清除单元，该清...

本发明涉及用于清洗基板涂敷装置的预涂辊子的清洗单元，尤其涉及包含外壳和向所述外壳内部发射超声波的超声波生成单元的清洗单元及包含该清洗单元的基板涂敷装置。本发明具有提高预涂辊子的涂敷液清洗能力并简化清洗装置结构的效果。

本发明公开一种基板清洗用双流体喷嘴，该喷嘴包括：第一收容部及第二收容部，以用于分别收容互不相同的流体；用于移送收容于所述第一收容部的第一流体的第一通道，在其端部形成有喷射所述第一流体的第一喷射口；用于移送收容于所述第二收容部的第二流体的...