基片存放容器的干式清洗装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种基片存放容器的干式清洗装置，该干式清洗装置包含：装载部，以用于投入并移送基片存放容器；清洗部，以用于使用干冰粒子清洗所述基片存放容器；卸载部，以用于搬出并移送在所述清洗部完成清洗的所述基片存放容器。依据本发明专利技术，因为使用干冰粒子清洗基片存放容器，所以没有被排出的废弃物而具有环保效果。并且，本发明专利技术因为使用干冰粒子，所以可以进行微细的清洗并使基片存放容器的变形或破损最小，具有延长使用寿命的效果。并且，本发明专利技术与现有的湿式清洗装置相比清洗工艺较简单，因而可以使设备大小显著变小，具有经济效应。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种基片存放容器的干式清洗装置，尤其涉及使用干冰粒子对基片存放容器的主体和盖子分别进行干式清洗的基片存放容器的干式清洗装置。
技术介绍
通常，半导体装置或显示器装置通过使用半导体晶片或平板显示器(FPDflat panel display)基片经过蒸镀、蚀刻、光刻、离子注入等各种工艺而制造。 为了顺利进行上述各种工艺半导体晶片或平板显示器基片不仅在各组之间进行移送，而且还在同一个组中的各制造装置之间进行移送。 作为一例，基片可以通过自动搬运车(truck)或机器移送臂来移送。 这种基片在同一组中较短的距离内可以以张为单位进行移送，而在距离较长或稳定性要求较高时可以以组(lot)为单位存放到输送盒(carrier)或晶片盒(cassette)等基片存放容器中进行移送。 作为一例，基片存放容器中由聚丙烯(poly propylene)材质构成的容器称为P.P.盒。 所述P.P.盒包含内部形成用于存放基片的存放空间的主体和安装在所述主体入口处的盖子。 此外，即使是微细的杂质或颗粒，只要被贴附在基片表面，基片质量将显著降低。 为此，用于存放基片的基片存放容器需本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种基片存放容器的干式清洗装置，其特征在于包含：装载部，以用于装载基片存放容器；清洗部，以用于使用干冰粒子清洗所述基片存放容器；以及卸载部，以用于卸载在所述清洗部进行清洗的所述基片存放容器。

【技术特征摘要】
KR 2005-12-29 10-2005-01337411.一种基片存放容器的干式清洗装置，其特征在于包含装载部，以用于装载基片存放容器；清洗部，以用于使用干冰粒子清洗所述基片存放容器；以及卸载部，以用于卸载在所述清洗部进行清洗的所述基片存放容器。2.根据权利要求1所述的基片存放容器的干式清洗装置，其特征在于所述装载部按照互不相同的路径将所述基片存放容器的主体和盖子装载到所述清洗部；所述清洗部向所述主体和盖子的整个内部分别喷射干冰粒子；所述卸载部按照互不相同的路径卸载进行清洗的所述主体和盖子。3.根据权利要求2所述的基片存放容器的干式清洗装置，其特征在于所述装载部使所述主体开口朝下，同时使主体上升到高于最初的投入高度的位置而移送到所述清洗部；所述清洗部从下向上进入到所述主体内部而喷射干冰粒子；所述卸载部使从所述清洗部搬出的所述主体开口朝上，同时使主体下降到最初的投入高度而进行移送。4.根据权利要求3所述的基片存放容器的干式清洗装置，其特征在于所述装载部和所述卸载部还包含一对翻转单元，以用于上下翻转投入到所述装载部的所述主体，并将从所述清洗部搬到所述卸载部的所述主体上下翻转为开口朝上。5.根据权利要求4所述的基片存放容器的干式清洗装置，其特征在于所述各翻转单元包含加压旋转部件，以用于加压支持所述主体的两个侧面而进行旋转；以及升降部件，...

【专利技术属性】
技术研发人员：金世镐，朴钟秀，尹哲男，
申请(专利权)人：KC科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：KR[韩国]