本发明提供了当磁体单元的宽度被减小时在靶的表面上获得充分的漏磁通密度的溅射设备和磁体单元。该溅射设备设置有靶保持件以及具有长边和短边的矩形磁体单元。磁体单元具有：第一磁体；布置在第一磁体周围且在与第一磁体的磁化方向不同的相反方向上被磁化...

溅射装置具备具有磁铁的3个靶，磁铁(7a、7b、7c)的每一个被控制成进行从顺方向的行程端向逆方向移动后停止的第1移动、从第1移动后的停止位置移动到逆方向的逆方向的行程端后停止的第2移动、和从逆方向的行程端移动到顺方向的行程端后停止的第...

溅镀装置具有：配置于基板平台与多个阴极电极之间的防附着板，以及配置于前述防附着板与前述基板平台之间的闸门板。防附着板，在与被前述多个阴极电极保持的多个靶材的各个相向的位置具有孔。在前述防附着板与前述闸门板彼此相向的各自的面，形成有以该闸...

本发明涉及蚀刻装置。所述蚀刻装置包括：能够被抽空的腔室；第一电极，被设置在腔室中，并包含被配置为支撑托盘的托盘支撑部分，所述托盘能保持多个基板并将基板加载到腔室中及从腔室卸载基板；以及电压施加单元，被配置为向第一电极施加电压。电介质板被...

一种基板热处理装置，其在真空处理室内加热处理基板，具有：C字形的基座，设置有能够载置基板的第一基板载置部和开口部；基板平台，设置有载置基板的第二基板载置部和支承基座的基座支承部；加热构件，在基板平台的上方且在与第二基板载置部相向的位置具...

本发明提供一种能够在对带状基板进行磁控溅射时，提高靶材利用率的溅射装置。本发明的一个实施方式所涉及的溅射装置为在腔室内连续输送被接地的金属的带状基板且对带状基板实施溅射的溅射装置。该溅射装置具备：靶材保持件，与腔室内的带状基板相对设置且...

一种真空处理装置，包括：处理腔室；装载锁定腔室，该装载锁定腔室与处理腔室连接；以及传递装置，该传递装置设置成将基板从装载锁定腔室传递至处理腔室。传递装置设置成通过重力而使得基板运动。传递装置包括：引导件，该引导件设置成当基板通过重力而运...

本发明提供一种SrRuO3膜的制造方法，该方法在通过DC磁控溅射法沉积SrRuO3膜的过程中能够在高的沉积速度下沉积高品质的SrRuO3膜同时抑制异常放电的发生。本发明的一个实施方案为通过偏移旋转型DC磁控溅射法的SrRuO3膜的沉积方...

在利用等离子体溅射连续地进行贵金属膜的成膜处理时，防止由于腔室的内壁被贵金属覆膜覆盖而使二次电子的发射特性降低的情况，以谋求生成和维持等离子体。在进行使贵金属膜形成在任意的基板上的成膜处理之后且在对接下来的基板进行成膜处理之前，在腔室内...

本发明提供一种使用了斯特林冷冻机的冷却捕集器。冷冻机(14)具备驱动自由活塞(35)，以便使工作气体在散热部(25)和吸热部(24)之间往复的驱动活塞(31)、测定框体(22)的振动的振动传感器(41)、降低驱动活塞(31)被驱动时的框...

一种溅镀装置，其具备以阴极主体与阴极磁铁成为相同电位的方式施加电力的电力施加装置，施加在阴极磁铁上的电力，经配置在了安装在阴极磁铁上的磁铁旋转轴与阴极主体之间的花键供给。

本发明为处理装置及护罩，提供一种有利于提高对围住基板的护罩的变形的容许度的技术。处理装置具备基板保持部、当由上述基板保持部将基板保持时围在该基板的周围进行配置的护罩，和由磁力保持上述护罩的护罩保持部。上述护罩具有多个第1磁铁和多个第2磁...

本发明公开了一种溅镀装置，具有：背垫板、用以将靶材固定在所述背垫板的固定部、及包围所述靶材的周围的护罩。所述护罩具有开口部，所述固定部构成为通过将所述靶材的周边部按压在所述背垫板上，将所述靶材固定在所述背垫板上。所述护罩具有：没有介于其...

本发明提供能对具有多个电极的基板保持件(7a)稳定地供给电力的电力导入装置(30)。电力导入装置包括：第一固定导电构件(39a)；第二固定导电构件(39b)；在第一固定导电构件与第二固定导电构件之间提供绝缘并被固定到绝缘框架(45b)的...

本发明公开了一种溅射设备，包括处理腔室、基板保持器、靶保持器、闸板、驱动装置、闸板容纳单元以及将气体引入处理腔室中的气体引入管；气体引入管布置成使得气体引入闸板容纳单元且从气体引入管引入闸板容纳单元的气体通过闸板容纳单元的开口部分引入至...

本发明提供一种溅射装置，其能够减慢容易侵蚀的部分的蚀刻速度且靶标的利用效率良好。在安装在磁控阴极（31）上的矩形的磁路单元（11）中，由矩形的长边部分磁铁构成的直线部单元（111）和具有短边部分的磁铁的端部单元（112）的摇动距离不同。...

本发明提供一种镀膜装置，其构造成可以减少靶材间的污染的发生。该镀膜装置包括：多个靶材电极，其分别具有附连面，靶材能够附连于所述附连面；用于在与所述多个靶材电极相对的位置保持基板的基板支架；在所述多个靶材电极及所述基板支架之间可旋转地被设...

成膜装置具有：设有安装有靶的安装面的多个靶电极、及使所述基板保持在相对于所述多个靶电极的位置的基板支架、可旋转地设在所述多个靶电极及所述基板支架之间且具有旋转时相对于所述安装面的多个开口的第1挡板构件、及所述第1挡板构件的2个面之中被配...

本发明提供齿条-小齿轮机构及真空处理装置。以简单的机构避免由于齿条和小齿轮的相位错位而引起齿尖彼此碰撞，从而使齿条和小齿轮顺畅地啮合。齿条-小齿轮机构设有固定于载置台的齿条和连结于驱动源的多个小齿轮，所述载置台用于搭载被搬运物并在搬运轨...

一种成膜装置，该成膜装置由遮挡装置能够选择靶材，能够防止发生在靶材间的污染。成膜装置（10）具备遮挡装置（54）和被固定于靶材电极（C）的第一遮挡板（65）侧的上部遮蔽板（63），遮挡装置（54）具有分别可旋转的第一遮挡板（65）及第二...