INVENIA有限公司专利技术

INVENIA有限公司共有19项专利

  • 本实用新型涉及一种基板处理装置。本实用新型的实施例的基板处理装置包括:腔室,包括处理空间和天线收纳空间,所述处理空间用于收纳待处理基板,所述天线收纳空间用于收纳天线,所述天线被配置成与所述待处理基板对置;多个窗,位于所述腔室内,用于分隔...
  • 本实用新型的实施例的基板处理装置包括:处理空间,用于收纳待处理基板;天线收纳空间,用于收纳天线,所述天线被配置成与所述待处理基板对置;多个窗,用于将所述处理空间与所述天线收纳空间分隔;以及窗支撑框架,用于支撑所述多个窗,其中,所述多个窗...
  • 本实用新型涉及的电感耦合等离子体处理装置包括:天线,根据从外部供应的高频电源而生成感应电流;窗组件,与所述天线相邻设置,将由所述天线的感应电流生成的感应电场传输至基板的工艺空间;盖组件,设置成与窗组件隔开规定间隙,用于收纳从外部供应的工...
  • 本实用新型涉及电感耦合等离子体处理装置用天线组件及包括该组件的电感耦合等离子体处理装置,在对基板进行工艺处理的工艺空间生成电感耦合等离子体,以对基板进行工艺处理。本实用新型的电感耦合等离子体处理装置用天线组件包括:输入天线,与外部的电源...
  • 本实用新型涉及在对基板进行处理的工艺空间生成电感耦合等离子体的电感耦合等离子体处理装置及其天线组件。本实用新型的电感耦合等离子体处理装置用的天线组件包括:输入天线部,与外部的电源电连接;输出天线部,用于向外部输出向输入天线部供电的电源所...
  • 电感耦合等离子体处理装置包括:天线;至少一个窗口;窗框,支撑至少一个窗口;腔室,收纳窗口和窗框,并以窗框为基准分隔成第一腔室和第二腔室,该第一腔室形成有以真空氛围对基板进行工艺处理的工艺空间,该第二腔室形成有以大气压氛围收纳天线的收纳空...
  • 电感耦合等离子体处理装置包括:至少一个窗口;窗框,支撑至少一个窗口;腔室,收纳窗口和窗框,并以窗框为基准分隔成第一腔室和第二腔室,该第一腔室形成有以真空氛围对基板进行工艺处理的工艺空间,该第二腔室形成有以大气压氛围收纳天线的收纳空间;盖...
  • 本实用新型提供一种天线单元及包括该天线单元的等离子体处理装置,能够消除在腔室内部可能产生的等离子体。天线单元用于在工艺空间生成等离子体,其包括:第一天线模块,一端设置有能够输入电力的第一输入端,通过所述第一输入端输入的电流流向第一方向;...
  • 本实用新型涉及一种屏蔽结构体以及包含该屏蔽结构体的等离子体处理装置,所述屏蔽结构体被配置成围绕用于放置基板的静电吸盘的侧部,其包括:第一屏蔽单元,与静电吸盘的一侧相邻地配置;第二屏蔽单元,与所述静电吸盘的另一侧相邻地配置;以及第一介电块...
  • 本实用新型涉及一种用于剥离被粘接支撑的基板的基板卡盘。本实用新型的基板卡盘包含:支撑部;粘接部,配置于支撑部并粘接支撑基板;及剥离部,由支撑部支撑,可膨胀成环形,并借由与基板的接触,将基板从粘接部剥离。
  • 本实用新型涉及一种等离子体处理装置,该装置包括:腔室,内部形成有工序空间;高频电源,用于供给高频电力;天线,构成为接收高频电力并在工序空间内产生等离子体;多个喷淋头,包括用于将从外部引入的气体供给到工序空间的多个气体供给孔;及流量调节部...
  • 本实用新型实施例中的等离子体处理装置包含:收容被处理基板的处理室、与被收容在所述处理室内的所述被处理基板相对地配置的天线结构体、在所述天线结构体和所述处理室之间配置的窗及支承所述窗的框架结构体,所述天线结构体包含包含第一外侧边部、与所述...
  • 本实用新型的实施例中的等离子体处理装置包含:收容被处理基板的处理室、与被收容在所述处理室内的所述被处理基板相对地配置的天线结构体及在所述天线结构体和所述处理室之间配置的窗,所述天线结构体包含由天线导线在与所述窗的上面相对的两个不同的虚拟...
  • 本实用新型实施例中的用于产生等离子体的天线结构体是被施加高频电力并在处理室内生成等离子体的用于产生等离子体天线结构体,包含以形成至少一个角部的方式弯曲地形成的天线导线,所述角部以与所述角部的两侧连接的边部形成钝角的方式折弯地形成。
  • 用于产生等离子体的天线结构体
    本实用新型的用于产生等离子体的天线结构体包含包含位于第一平面上并形成为中央部形成折曲,以至一端部与第一方向平行,而另一端部与第二方向平行的第一角部天线导线、从第一角部天线导线的一端部向第二平面延伸形成的第二角部天线导线、从第二角部天线导...
  • 等离子体发生模块及包含该模块的等离子体处理装置
    本发明为了提供一种可以应对基板大型化且可以确保等离子体密度均匀性的等离子体发生模块及包含该模块的等离子体处理装置,包含供给高频电力的高频电源、以所述高频电力为基础向工序空间产生等离子体的天线及被配置在所述工序空间和所述天线之间的非磁性体...
  • 用于产生等离子体的天线结构体和使用所述天线结构体的等离子体处理装置
    本实用新型涉及等离子体产生用天线和使用所述天线的等离子体处理装置,本实用新型实施例中的用于产生等离子体的天线结构体是被施加高频电力并在处理室内生成等离子体的用于产生等离子体的天线结构体,包含以形成至少一个角部的方式弯曲地形成的天线导线,...
  • 用于产生感应耦合等离子体的天线
    本实用新型的实施例中的用于产生感应耦合等离子体的天线包含:一对沿第一方向相互平行地配置的第一天线部及一对沿与所述第一方向垂直的第二方向相互平行地配置的第二天线部,所述第一天线部及所述第二天线部各自由天线导线沿与平行于所述第一方向及所述第...
  • 感应耦合等离子体处理装置
    本发明的一个实施例中的感应耦合等离子体处理装置包含相互分离的多个天线部、施加供给到所述多个天线部的高频电力的主供电线、分支于所述主供电线并各自与所述多个天线部连接的多个副供电线、各自连接于所述多个副供电线以输出关于通过各副供电线分别施加...
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