一种可拆式过滤器滤芯包含容纳过滤器的过滤器壳体、密封阀，所述密封阀联接到所述过滤器壳体的敞开端且被构形成将所述可拆式过滤器滤芯可拆卸地联接到过滤器头。所述密封阀具有打开位置和密封所述过滤器壳体的闭合位置，且被构形成在与所述过滤器头断开联...

一些实施例涉及具有钝化表面的增材制品及相关方法。所述方法可包括通过增材制造形成三维3D制品以获得包括镁组分的增材制造3D制品。所述方法可进一步包括使所述增材制造3D制品暴露于包括氟组分的反应性气相。来自所述反应性气相的所述氟组分可与所述...

一些实施例涉及具有涂层表面的增材制品及相关方法。所述方法可包括：通过增材制造形成三维3D制品以获得具有不能通过机械加工构造的整体结构的增材制造3D制品；及使所述增材制造3D制品暴露于一或多种前驱气体以在所述增材制造3D制品的表面上形成涂...

本申请案涉及一种双面垫调节器。一种CMP垫调节器组合件包含背板，其包含包括多个第一安装位置的第一面及包括多个第二安装位置的第二面。多个段固定到所述第一面。所述段包含具有第一表面及与所述第一表面相对的第二表面的衬底。多个突起与所述衬底一体...

本申请案涉及一种具有聚合物背板的垫调节器。一种化学机械平坦化CMP垫调节器组合件包含包括至少一种聚合物及至少一种添加剂的背板。所述至少一种添加剂以足以导致背板具有磁性性质、颜色性质、结构性质或其任何组合中的至少一者的量存在。所述CMP垫...

本申请案涉及一种医用排气过滤器。本公开提供在一次性串联输液系统中有用的经改进的排气过滤器。在第一方面中，本公开提供一种过滤器，其包括：(i)包括含氟聚合物膜的层；及(ii)包括至少两个透气性热塑性聚合物层的层，所述透气性热塑性聚合物层由...

本发明提供某些硅前体化合物，其可用于在半导体装置的制造中形成含硅膜；且更具体地关于用于形成此类含硅膜、如包含二氧化硅或氮化硅的膜的组合物及方法。硅的膜的组合物及方法。硅的膜的组合物及方法。

本申请涉及具有集成静电放电缓解的流体回路。所述流体回路包含多个管件节段及多个操作组件。每一管件节段包含：i)非导电聚合物部分，其界定流体通道；及ii)一或多个内部导电氟聚合物条带，其轴向延伸到所述相应管件节段中的每一者的端。每一操作组件...

本申请案涉及静电吸盘及相关方法及结构。描述用于在处理工件的步骤期间支撑所述工件的静电吸盘及通过增材制造技术制备的静电吸盘底座组件。盘底座组件。盘底座组件。

本发明提供一种用于制备下文阐述为式(I)的各种VI族前体化合物的便捷方法，其适用于将某些VI族金属气相沉积于固体衬底，尤其微电子半导体装置衬底上。还提供一种用于制备这类前体化合物的方法。另外，本发明提供一种利用本发明的前体化合物将VI族...

本文描述离子交换膜，其包括多孔聚合物膜和在所述膜表面处的咪唑离子交换基团；离子交换膜和含有所述离子交换膜的过滤器；和使用所述离子交换膜和过滤器从液体分离带电生物分子的方法。子的方法。子的方法。

本实用新型涉及具有氟化钇涂层的衬底。描述衬底，其包含：高纵横比表面和非高纵横比表面、至少两个涂层，一个涂层位于高纵横比表面处且第二涂层位于非高纵横比表面处，且具有氟化外表面；制备这些涂层的方法；以及包含所述涂层的衬底、表面、设备和设备组...

本实用新型涉及用于可汽化固体源材料的汽化器容器，其包括一或多个试剂支撑面板，所述试剂支撑面板在竖直定向上，例如当填充所述汽化器容器时，用作所述容器的内部空间的分隔物，而当旋转到水平定向时，所述面板支撑置于由所述面板和所述容器的内壁形成的...

本发明提供一种用于制备某些具有烷基和烷氨基取代基的有机锡化合物的高效且有效的方法。所述方法提供呈高纯度结晶形式的有机锡化合物，所述有机锡化合物在例如用于制造某些微电子装置的极紫外光(EUV)光刻技术中特别适于用作沉积高纯度氧化锡薄膜的前...

本申请案涉及前驱物输送系统、前驱物供应封装及相关方法。一些实施例涉及用于产生气态前驱物的前驱物输送系统。所述前驱物输送系统可包含容纳固态前驱物材料的一或多个前驱物供应封装。所述一或多个前驱物供应封装可经配置以将所述固态前驱物材料加热到足...

描述用于在受控工艺条件下处理静电卡盘，包含(例如)用于在固化在所述静电卡盘的两个层之间形成接合的粘合剂的步骤期间处理静电卡盘的方法及设备(装置)。卡盘的方法及设备(装置)。卡盘的方法及设备(装置)。

本发明提供一种沉积抗蚀刻SiOCN膜的等离子体增强型原子层沉积(PEALD)方法。这些膜提供改良的生长速率、改良的步阶覆盖率及对湿蚀刻剂及含有O2及NH3共反应物之后沉积等离子体处理的极佳抗蚀刻性。此种PEALD方法依赖于一或多种前体与...

本申请案涉及一种汽化器组合件。特定来说，提供包含汽化器容器的组合件。在一些实施例中，所述汽化器容器界定内部容积。在一些实施例中，所述汽化器容器经配置以在所述内部容积内容纳至少一种源试剂。在一些实施例中，所述组合件包含加热器。在一些实施例...

提供利用某些含硅卤化物、含硅酰胺和某些金属前体连同含氮还原气体用于某些金属氮化物衬底表面的成核的改进方法。在利用预处理步骤的同时，所述方法显示极大改进的成核，其中具有沉积在其上的此一金属氮化物膜的微电子装置衬底具有约至约的厚度及小于约1...

本申请案涉及一种双面垫调节器。一种CMP垫调节器组合件包含背板，其包含包括多个第一安装位置的第一面及包括多个第二安装位置的第二面。多个段固定到所述第一面。所述段包含具有第一表面及与所述第一表面相对的第二表面的衬底。多个突起与所述衬底一体...