【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本技术公开了一种可异地加工的高透低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述膜层从玻璃基片依次向外包括：第一电介质层、第二电介质层、第三电介质层、第一阻挡层、功能层、第二阻挡层、第四电介质层、第五电介质层。本技术对于可见光波段具有很高的透过率，能保证良好的自然采光，同时又能有效的限制太阳热辐射的透过，尤其是近红外线的透过。本技术通过其自身的独特膜层结构，使得高透的低辐射镀膜玻璃同样具有超强的耐机械性能、抗化学腐蚀性能，解决了高透低辐射镀膜玻璃异地加工中容易出现的脱膜、划伤、极易氧化的难题。【专利说明】—种可异地加工的高透低辐射镀膜玻璃
本技术涉及建筑玻璃，尤其涉及一种可异地加工的高透低辐射镀膜玻璃。
技术介绍
低辐射镀膜玻璃在倡导低能耗的现今社会，是非常受欢迎的，其在反射和吸收太阳光方面比透明玻璃都要高出很多，但是，过分的高反射和高吸收也会带来一些副作用，一是可见光透过率太低影响白天室内采光，二是玻璃过度升温可能引起热应力炸裂，三是反射太高引起所谓光污染，因此，镀膜玻璃对太阳光的反射和吸收具体要控制在什么程度，还要根据具体的环境和要求来决定，另外，镀膜玻璃...
【技术保护点】
一种可异地加工的高透低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基片和膜层，其特征在于，所述膜层从玻璃基片依次向外包括：第一电介质层、第二电介质层、第三电介质层、第一阻挡层、功能层、第二阻挡层、第四电介质层、第五电介质层；?第一电介质层为SiNx，膜层厚度为20?50nm；?第二电介质层为TiOx，膜层厚度为3?10nm；?第三电介质层为ZnOxNy，膜层厚度为5?15nm；?第一阻挡层为NiV，膜层厚度为1?3nm；?功能层为Ag，膜层厚度为5?15nm；?第二阻挡层为NiV，膜层厚度为1?3nm；?第四电介质层为ZnOxNy，膜层厚度为5?15nm；?第五电介质层为SiNx，膜层厚度为20?50nm。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：林嘉宏，
申请(专利权)人：台玻天津玻璃有限公司，
类型：实用新型
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。