聚合物及含有所述聚合物的光敏树脂组合物制造技术

技术编号:9902751 阅读:103 留言:0更新日期:2014-04-10 14:42
本发明专利技术涉及一种具有新的结构的聚合物以及包含该聚合物的光敏树脂组合物。含有本发明专利技术的聚合物的光敏树脂组合物的特征在于具有高锥角和优异的粘合强度。因此,所述含有本发明专利技术的聚合物的光敏树脂组合物可用于各种光敏材料,尤其是优选地用于制造LCD’s的滤色片图案。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】【专利摘要】本专利技术涉及一种具有新的结构的聚合物以及包含该聚合物的光敏树脂组合物。含有本专利技术的聚合物的光敏树脂组合物的特征在于具有高锥角和优异的粘合强度。因此,所述含有本专利技术的聚合物的光敏树脂组合物可用于各种光敏材料,尤其是优选地用于制造LCD’s的滤色片图案。【专利说明】聚合物及含有所述聚合物的光敏树脂组合物本申请要求2011年4月21日在韩国知识产权局(KIPO)提交的第10-2011-0037474号韩国专利申请的优先权,其公开的全部内容以引用的方式纳入本说明书中。
本专利技术涉及一种具有新的结构的聚合物以及包含该聚合物的光敏树脂组合物。更具体地,本专利技术涉及一种改善光敏树脂组合物的光敏性和显影特性的聚合物,以及包含该聚合物的光敏树脂组合物。
技术介绍
光敏树脂组合物可用于通过以下方式形成图案:将光敏树脂组合物涂覆于基板上以形成涂层,使用光掩膜等将涂层的预定部分在光照射下进行曝光,以及通过显影处理除去未曝光部分。由于该光敏树脂组合物可借由光照而聚合及固化,该光敏树脂组合物可用于光固化油墨、光敏印刷板、各种光致抗蚀剂、用于LCD的滤色片光致抗蚀剂、用于黑底的光致抗蚀剂、透明的光敏材料等。
技术实现思路
技术问题在本领域中,需要研发一种改善光敏性及显影特性、对基板具有优异的粘合强度,并且可用于各种光敏材料的光敏树脂组合物。技术方案本专利技术的一个示例性实施方案提供一种聚合物,包括:I)由下式I表示的重复单元;2)由下式2表示的重复单元;3)由下式3表示的重复单元;以及4)由下式4、式5以及式6表示的重复单元中的一种或多种。【权利要求】1.一种聚合物,包括:1)由下式I表示的重复单元;2)由下式2表示的重复单元;3)由下式3表示的重复单元;以及4)由下式4、式5以及式6表示的重复单元中的一种或多种: 2.权利要求1的聚合物,其中所述聚合物由下式7表示: 3.权利要求1的聚合物,其中所述聚合物的酸值为30至300K0Hmg/g。4.权利要求1的聚合物,其中所述聚合物的重均分子量为5,000至50,000。5.一种光敏树脂组合物,其包含: 含有权利要求1至4中任一项的聚合物的粘合剂树脂, 含有烯键式不饱和键的可聚合化合物, 光引发剂,以及 溶剂。6.权利要求5的光敏树脂组合物,其中所述粘合剂树脂的含量为I至20重量%,基于光敏树脂组合物的总重量计。7.权利要求5的光敏树脂组合物,其中所述含有烯键式不饱和键的可聚合化合物的含量为I至30重量%,所述光引发剂的含量为0.1至5重量%,所述溶剂的含量为45至95重量%,基于光敏树脂组合物的总重量计。8.权利要求5的光敏树脂组合物,还包括选自以下物质的一种或多种:着色剂、固化促进剂、热聚合抑制剂、表面活性剂、光敏剂、增塑剂、助粘剂、填料以及附着力助剂。9.一种光敏材料,其包含:权利要求5的光敏树脂组合物。10.权利要求9的光敏材料,其中所述光敏材料选自于用于制造滤色片的颜料分散型光敏材料、用于形成黑底的光敏材料、用于形成外涂层的光敏材料以及柱状间隔物光敏材料和用于印刷电 路板的光敏材料。【文档编号】C08F20/06GK103717626SQ201280018799 【公开日】2014年4月9日 申请日期:2012年4月18日 优先权日:2011年4月21日【专利技术者】金善花, 池昊燦, 崔东昌, 金汉修, 许闰姬, 赵昌镐, 郑元镇 申请人:株式会社Lg化学本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种聚合物,包括:1)由下式1表示的重复单元;2)由下式2表示的重复单元;3)由下式3表示的重复单元;以及4)由下式4、式5以及式6表示的重复单元中的一种或多种:[化学式1][化学式2][化学式3][化学式4][化学式5][化学式6]其中,R1、R2、R3、R4、R5、R6、R8、R9、R10、R12、R13、R14、R17、R18和R19彼此相同或不同,且各自独立地为氢或C1‑C12烷基,R7为C8‑C18烷基,R11为二环戊基、二环戊烯基、二环戊烯氧基乙基、金刚烷基或异莰基,R15为未被取代或被卤素、C6‑C20芳基或C1‑C12烷氧基取代的C1‑C12烷基;C1‑C3烷氧基聚(n=2至30)亚烷基二醇基;或未被取代或被卤素、C1‑C12烷基或C1‑C12烷氧基取代的C6‑C20芳基,R16为未被取代或被卤素、C6‑C20芳基或C1‑C12烷氧基取代的C1‑C12烷基;C1‑C12烷基酯基;或未被取代或被卤素、C1‑C12烷基、C6‑C20芳基或C1‑C12烷氧基取代的C6‑C20芳基,R20为未被取代或被卤素、C1‑C12烷基、C6‑C20芳基或C1‑C12烷氧基取代的C6‑C20芳基,a为10至60,b为10至60,c为10至60,d为0至90,e为0至30,f为0至30,且d、e及f中至少一个大于0。FDA0000396751400000011.jpg,FDA0000396751400000012.jpg,FDA0000396751400000013.jpg,FDA0000396751400000014.jpg,FDA0000396751400000015.jpg,FDA0000396751400000021.jpg...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员:金善花池昊燦崔东昌金汉修许闰姬赵昌镐郑元镇
申请(专利权)人:株式会社LG化学
类型:发明
国别省市:韩国;KR

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