瓦片状钕铁硼磁体制造技术

技术编号:9684137 阅读:97 留言:0更新日期:2014-02-15 13:53
本实用新型专利技术涉及电机用磁体,公开了一种瓦片状钕铁硼磁体,包括磁体(1),所述的磁体(1)包括中间层(11),中间层(11)外包裹保护层(12)。本实用新型专利技术通过将磁体设置成拱形,提高了磁体的结构强度,使磁体具有一定的承载能力,同时在磁体外部设置保护层,一方面提高了磁体的抗腐蚀能力,另一方提高了磁体的抗冲击性能。(*该技术在2023年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】
瓦片状钕铁硼磁体
本技术涉及电机用磁体,尤其涉及了一种瓦片状钕铁硼磁体。
技术介绍
目前,在电机、传感器等设备上,都需要应用磁体,而现有的磁体,由于其磁性差、磁性不稳定,容易损坏等缺点,导致磁性设备无法正常、高效的运行。同时,由于磁体装配性差,也导致磁体无法与磁性设备精确配合,影响设备的安装。
技术实现思路
本技术针对现有技术中磁体磁性不稳定,结构强度低,无法承载,容易摔碎等缺点,提供了一种磁性稳定、结构强度高、承载力强,不容易损坏的瓦片状钕铁硼磁体。为了解决上述技术问题,本技术通过下述技术方案得以解决:瓦片状钕铁硼磁体,包括磁体,所述的磁体包括中间层,中间层外包裹保护层,磁体的横截面为拱形,保护层为电泳层,电泳层为环氧树脂层,磁体上设置一条以上的加劲棱。。。通过采用拱形结构,提高了磁体承载能力,使得磁体在特殊的工作环境中,能够承受一定的压力,不至于损坏。通过在磁体的中间层外设置具有耐冲击性能的环氧树脂层,使得磁体在应用于抗冲击的环境中,保证了磁体的正常使用。加劲棱设置在拱形磁体的拱背上,通过设置加劲棱,进一步增大了磁体抗压能力,提高了磁体的结构强度。作为优选,所述的中间层表面的粗糙度为I一50μπι。通过在中间层表面的设置一定的粗糙度,一方面能够提高磁体的中间层与保护层的结合力,另一方面,为提高保护层的厚度提供了必要条件。作为优选,所述的保护层为电镀层,电镀层为镀锌层或镀镍层。通过设置镀锌层或镀镍层,提高了磁体的抗腐蚀性能。本技术由于采用了以上技术方案,具有显著的技术效果:本技术通过将磁体设置成拱形,提高了磁体的结构强度,使磁体具有一定的承载能力,同时在磁体外部设置保护层,一方面提高了磁体的抗腐蚀能力,另一方提高了磁体的抗冲击性能。【附图说明】图1是本技术实施例1的结构示意图。图2是图1中A— A面截面图。图3是本技术实施例2的结构示意图。以上附图中各数字标号所指代的部位名称如下:其中I一磁体、11—中间层、12—保护层、13 一加劲棱。【具体实施方式】下面结合附图1至图3与实施例对本技术作进一步详细描述:实施例1瓦片状钕铁硼磁体,如图1至图2所示,包括磁体1,所述的磁体I包括中间层11,中间层11外包裹保护层12,磁体I的横截面为拱形。通过采用拱形结构,提高了磁体I承载能力,使得磁体在特殊的工作环境中,能够承受一定的压力,不至于损坏。中间层11表面的粗糙度为8 μ m。通过在中间层11表面的设置一定的粗糙度,一方面能够提高磁体I的中间层11与保护层12的结合力,另一方面,为提高保护层12的厚度提供了必要条件。保护层12为电泳层,电泳层为环氧树脂层。通过在磁体I的中间层11外设置具有耐冲击性能的环氧树脂层,使得磁体在应用于抗冲击的环境中,保证了磁体的正常使用,使得磁体的磁稳定性大大提高。实施例2如图3所示,本实施例与实施例1的区别在于:中间层11表面的粗糙度为21 μ m。通过在中间层11表面的设置一定的粗糙度,一方面能够提高磁体I的中间层11与保护层12的结合力,另一方面,为提高保护层12的厚度提供了必要条件。保护层12为电镀层,电镀层为镀锌层或镀镍层。通过设置镀锌层或镀镍层,提高了磁体I的抗腐蚀性能。磁体I上沿磁体I纵向方向设置一条以上的加劲棱13。加劲棱13设置在拱形磁体的拱背上,通过设置加劲棱13,进一步增大了磁体I抗压能力,提高了磁体的结构强度。总之,以上所述仅为本技术的较佳实施例,凡依本技术申请专利范围所作的均等变化与修饰,皆应属本技术专利的涵盖范围。本文档来自技高网...

【技术保护点】
瓦片状钕铁硼磁体,包括磁体(1),其特征在于:所述的磁体(1)包括中间层(11),中间层(11)外包裹保护层(12),磁体(1)的横截面为拱形,保护层(12)为电泳层,电泳层为环氧树脂层,磁体(1)上设置一条以上的加劲棱(13)。

【技术特征摘要】
1.瓦片状钕铁硼磁体,包括磁体(I),其特征在于:所述的磁体(I)包括中间层(11),中间层(11)外包裹保护层(12),磁体(I)的横截面为拱形,保护层(12)为电泳层...

【专利技术属性】
技术研发人员:鲍金胜
申请(专利权)人:浙江鑫盛永磁科技有限公司
类型:实用新型
国别省市:

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