马达结构制造技术

本发明专利技术是有关于一种马达结构，包含壳体、转子、第一磁石、第二磁石及导磁片，该转子设置于壳体的容置槽，该第一磁石设置于该壳体与该转子之间，该第一磁石具有第一端部，该第一端部与该壳体之间具有第一间隔空间，该第二磁石设置于该壳体与该转子之间，该第二磁石具有第二端部，该第二端部与该壳体之间具有第二间隔空间，该第一间隔空间及该第二间隔空间构成间隔槽，该导磁片设置于该间隔槽中，借由该导磁片导磁可降低该马达结构磁阻，以避免发生磁漏，并可增加马达气隙磁通密度。

【技术实现步骤摘要】
马达结构
本专利技术是有关于一种马达结构，特别是有关于一种具导磁片的马达结构。
技术介绍
请参阅图1，现有习知的马达结构10包含壳体11、第一磁石12、第二磁石13及转子14，该壳体11具有容置槽11a，该第一磁石12、该第二磁石13及该转子14设置于该容置槽Ila中，借由该壳体11导磁使得该转子14可转动，基于制造成本考虑，该马达结构10的该壳体11的厚度皆会刻意薄化，因此造成了该马达结构10发生磁漏及降低马达气隙磁通密度，因而影响马达转动的性能。由此可见，上述现有的马达结构在结构与使用上，显然仍存在有不便与缺陷，而亟待加以进一步改进。为了解决上述存在的问题，相关厂商莫不费尽心思来谋求解决之道，但长久以来一直未见适用的设计被发展完成，而一般产品又没有适切结构能够解决上述问题，此显然是相关业者急欲解决的问题。因此如何能创设一种新型的马达结构，实属当前重要研发课题之一，亦成为当前业界极需改进的目标。
技术实现思路
本专利技术的主要目的在于提供一种马达结构，借由设置于壳体与磁石之间的导磁片，降低该马达结构的磁阻，以避免发生磁漏，并可增加马达气隙磁通密度，以提升马达转动性能。本专利技术的目的及解决其技术问题是采用以下技术方案来实现的。依据本专利技术提出的马达结构，其包含:壳体，其具有容置槽；转子，设置于该容置槽中；第一磁石，其设置于该壳体与该转子之间，该第一磁石具有第一端部，该第一端部与该壳体之间具有第一间隔空间；第二磁石，其设置于该壳体与该转子之间，该第二磁石具有第二端部，该第二端部与该体壳之间具有第二间隔空间，该第一间隔空间及该第二间隔空间构成间隔槽；以及导磁片，其设置于该间隔槽中，且该导磁片接触该壳体。本专利技术的目的及解决其技术问题还可采用以下技术措施进一步实现。前述的马达结构，其另包含定位件，该定位件设置于该第一磁石的该第一端部及该第二磁石的该第二端部之间。前述的马达结构，其中该定位件与该导磁片为一体成型。前述的马达结构，其中该定位件具有连接部及抵触部，该连接部连接该导磁片，该抵触部凸出于该导磁片的表面。前述的马达结构，其中该第一磁石的该第一端部具有第一显露面，该定位件的该抵触部抵触该第一端部的该第一显露面。前述的马达结构，其中该第二磁石的该第二端部具有第二显露面，该定位件的该抵触部抵触该第二端部的该第二显露面。借由上述技术方案，本专利技术马达结构至少具有下列优点及有益效果:借由设置于壳体与磁石之间的导磁片，降低该马达结构的磁阻，以避免发生磁漏，并可增加马达气隙磁通密度，以提升马达转动性能。上述说明仅是本专利技术技术方案的概述，为了能够更清楚了解本专利技术的技术手段，而可依照说明书的内容予以实施，并且为了让本专利技术的上述和其他目的、特征和优点能够更明显易懂，以下特举较佳实施例，并配合附图，详细说明如下。【附图说明】图1:现有习知的马达结构的剖视图。图2:依据本专利技术的一较佳实施例，一种马达结构的剖面图。图3:依据本专利技术的一较佳实施例，一种马达结构的剖面图。图4:依据本专利技术的一较佳实施例，该导磁片的立体示意图。【主要元件符号说明】10:马达结构11:壳体Ila:容置槽12:第一磁石13:第二磁石14:转子100:马达结构110:壳体111:容置槽120:转子130:第一磁石131:第一端部131a:第一显露面140:第二磁石141:第二端部141a:第二显露面150:导磁片160:定位件161:连接部162:抵触部A:间隔槽S1:第一间隔空间S2:第二间隔空间【具体实施方式】为更进一步阐述本专利技术为达成预定专利技术目的所采取的技术手段及功效，以下结合附图及较佳实施例，对依据本专利技术提出的马达结构其【具体实施方式】、结构、特征及其功效，详细说明如后。请参阅图2及图3，其为本专利技术的一较佳实施例，一种马达结构100，其包含壳体110、转子120、第一磁石130、第二磁石140及导磁片150，该壳体110具有容置槽111，该转子120设置于该容置槽111中。请参阅图2,该第一磁石130设置于该壳体110与该转子120之间，该第一磁石130具有第一端部131,该第一端部131与该壳体110之间具有第一间隔空间SI,该第二磁石140设置于该壳体110与该转子120之间,在本实施例中，该第一磁石130及该第二磁石140相对设置于该转子120的两侧，且该第一磁石130及该第二磁石140不相互接触，该第二磁石140具有第二端部141，该第二端部141与该壳体110之间具有第二间隔空间S2，该第一间隔空间SI及该第二间隔空间S2构成间隔槽A。请参阅图3,该导磁片150设置于该间隔槽A中，且该导磁片150接触该壳体110,借由该导磁片150的导磁，可降低该马达结构100的磁阻以避免发生磁漏，并可增加马达气隙磁通密度，以提升马达转动性能。请参阅图3，该马达结构100另包含定位件160，该定位件160设置于该第一磁石130的该第一端部131及该第二磁石140的该第二端部141之间，该定位件160抵触该第一磁石130的该第一端部131及该第二磁石140的该第二端部141，以使该第一磁石130及该第二磁石140被固定于该壳体110的该容置槽111中，较佳地，该定位件160具有弹性，于抵触该第一磁石130及该第二磁石140时，该定位件160产生变形，借由变形回复力使该第一磁石130及该第二磁石140被固定于该壳体110的该容置槽111中。请参阅图3及图4，在本实施例中，该定位件160与该导磁片150可由金属板以冲压工艺一体成型，该定位件160具有连接部161及抵触部162，该连接部161连接该导磁片150，该抵触部162凸出于该导磁片150的表面，该抵触部162抵触该第一磁石130的该第一端部131及该第二磁石140的该第二端部141，在本实施例中，该第一磁石130的该第一端部131具有第一显露面131a,该第二磁石140的该第二端部141具有第二显露面141a,该抵触部162位于该第一显露面131a与该第二显露面141a之间，且该抵触部162抵触该第一端部131的第一显露面131a及该第二端部141的该第二显露面141a。本专利技术是借由设置于该间隔槽A的该导磁片150接触该壳体110，以降低该马达结构100的磁阻及避免发生磁漏，并可增加马达气隙磁通密度，以提升马达转动性能。以上所述，仅是本专利技术的较佳实施例而已，并非对本专利技术作任何形式上的限制，虽然本专利技术已以较佳实施例揭露如上，然而并非用以限定本专利技术，任何熟悉本专业的技术人员，在不脱离本专利技术技术方案范围内，当可利用上述揭示的
技术实现思路
作出些许更动或修饰为等同变化的等效实施例，但凡是未脱离本专利技术技术方案的内容，依据本专利技术的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化与修饰，均仍属于本专利技术技术方案的范围内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种马达结构，其特征在于其包含：壳体，其具有容置槽；转子，设置于该容置槽中；第一磁石，其设置于该壳体与该转子之间，该第一磁石具有第一端部，该第一端部与该壳体之间具有第一间隔空间；第二磁石，其设置于该壳体与该转子之间，该第二磁石具有第二端部，该第二端部与该壳体之间具有第二间隔空间，该第一间隔空间及该第二间隔空间构成间隔槽；以及导磁片，其设置于该间隔槽中，且该导磁片接触该壳体。

【技术特征摘要】
2012.06.19 TW 1011218591.一种马达结构，其特征在于其包含: 壳体，其具有容置槽； 转子，设置于该容置槽中； 第一磁石，其设置于该壳体与该转子之间，该第一磁石具有第一端部，该第一端部与该壳体之间具有第一间隔空间； 第二磁石，其设置于该壳体与该转子之间，该第二磁石具有第二端部，该第二端部与该壳体之间具有第二间隔空间，该第一间隔空间及该第二间隔空间构成间隔槽；以及 导磁片，其设置于该间隔槽中，且该导磁片接触该壳体。2.根据权利要求1所述的马达结构，其特征在于其另...

【专利技术属性】
技术研发人员：黄广淼，蔡行知，杜国印，简铭宏，
申请(专利权)人：财团法人金属工业研究发展中心，
类型：发明
国别省市：