【技术实现步骤摘要】
本专利技术关于一种退火系统及其退火方法，特别是关于一种等离子体辅助退火系统及其退火方法。
技术介绍
1、在半导体产业中，使用高温退火技术提升金属薄膜品质已行之有年，传统退火处理是将金属薄膜加温到高于再结晶温度后维持一段时间，再缓缓的降温，可有效的提高金属薄膜的结晶性，进而提高其电气性能，但由于传统退火技术需要将金属薄膜加热至高温并维持较长的时间，在功率消耗上相当巨大外，金属薄膜的结晶性的提升也相当有限。
技术实现思路
1、本专利技术的主要目的是借由等离子体解离装置解离的工作气体辅助退火处理，可再进一步地提高金属化合物薄膜的结晶品质。
2、本专利技术的一种等离子体辅助退火系统包含高温炉、等离子体解离装置及连接件，该高温炉具有气体入口，该等离子体解离装置具有工作气体出口，该等离子体解离装置用以解离工作气体，并由该工作气体出口排出解离的该工作气体，该连接件的两端分别连接该等离子体解离装置的该工作气体出口及该高温炉的该气体入口，其中该等离子体解离装置解离的该工作气体经由该连接件传送至该高温炉。
3、较佳地，该连接件具有长度，该长度介于5至50厘米之间。
4、较佳地，包含气体供应装置及流量控制器，该流量控制器的两端分别连接该气体供应装置及该等离子体解离装置的工作气体入口，该气体供应装置用以提供该工作气体，该流量控制器用以控制该工作气体由该气体供应装置流至该等离子体解离装置的流量大小。
5、较佳地，该高温炉具有腔室及气体出口，该气体入口连通该腔室
6、较佳地，该高温炉具有控压阀及抽气装置，该控压阀的两端连接该高温炉的该气体出口及该抽气装置，该抽气装置用以经由该控压阀将该腔室内的该工作气体或解离的该工作气体抽出，该控压阀用以控制该抽气装置抽气的流量。
7、本专利技术的一种等离子体辅助退火系统的退火方法包含等离子体解离装置经由连接件输送工作气体至高温炉，其中该连接件的两端分别连接该等离子体解离装置的工作气体出口及该高温炉的气体入口；该等离子体解离装置解离该工作气体，并将解离的该工作气体经由该连接件输送至该高温炉；以及提高该高温炉的温度，而对设置于该高温炉中的待处理元件进行退火。
8、较佳地，该连接件具有长度，该长度介于5至50厘米之间。
9、较佳地，包含气体供应装置及流量控制器，该流量控制器的两端分别连接该气体供应装置及该等离子体解离装置的工作气体入口，该气体供应装置用以提供该工作气体，该流量控制器用以控制该工作气体由该气体供应装置流至该等离子体解离装置的流量大小。
10、较佳地，该高温炉具有腔室及气体出口，该气体入口连通该腔室，以将该工作气体或解离的该工作气体导入该腔室，该腔室用以容置该待处理元件，该气体出口连通该腔室，以使该腔室内的该工作气体或解离的该工作气体由该气体出口排出，该待处理元件为金属化合物薄膜。
11、较佳地，该高温炉具有控压阀及抽气装置，该控压阀的两端连接该高温炉的该气体出口及该抽气装置，该抽气装置用以经由该控制阀将该腔室内的该工作气体或解离的该工作气体抽出，该控压阀用以控制该抽气装置抽气的流量。
12、本专利技术借由该连接件的两端分别连接该等离子体解离装置及该高温炉，可让等离子体解离及退火处理分开在两个腔体进行，除了能以解离的该工作气体辅助退火处理，还可避免等离子体的高温影响退火温度。
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1.一种等离子体辅助退火系统，其特征在于，包含：
2.根据权利要求1所述的等离子体辅助退火系统，其特征在于，该连接件具有长度，该长度介于5至50厘米之间。
3.根据权利要求1所述的等离子体辅助退火系统，其特征在于，包含气体供应装置及流量控制器，该流量控制器的两端分别连接该气体供应装置及该等离子体解离装置的工作气体入口，该气体供应装置用以提供该工作气体，该流量控制器用以控制该工作气体由该气体供应装置流至该等离子体解离装置的流量大小。
4.根据权利要求1所述的等离子体辅助退火系统，其特征在于，该高温炉具有腔室及气体出口，该气体入口连通该腔室，以将该工作气体或解离的该工作气体导入该腔室，该腔室用以容置待处理元件，该气体出口连通该腔室，以使该腔室内的该工作气体或解离的该工作气体由该气体出口排出，该待处理元件为金属化合物薄膜。
5.根据权利要求4所述的等离子体辅助退火系统，其特征在于，该高温炉具有控压阀及抽气装置，该控压阀的两端连接该高温炉的该气体出口及该抽气装置，该抽气装置用以经由该控压阀将该腔室内的该工作气体或解离的该工作气体抽出，该控压
6.一种等离子体辅助退火系统的退火方法，其特征在于，包含：
7.根据权利要求6所述的等离子体辅助退火系统的退火方法，其特征在于，该连接件具有长度，该长度介于5至50厘米之间。
8.根据权利要求6所述的等离子体辅助退火系统的退火方法，其特征在于，包含气体供应装置及流量控制器，该流量控制器的两端分别连接该气体供应装置及该等离子体解离装置的工作气体入口，该气体供应装置用以提供该工作气体，该流量控制器用以控制该工作气体由该气体供应装置流至该等离子体解离装置的流量大小。
9.根据权利要求6所述的等离子体辅助退火系统的退火方法，其特征在于，该高温炉具有腔室及气体出口，该气体入口连通该腔室，以将该工作气体或解离的该工作气体导入该腔室，该腔室用以容置该待处理元件，该气体出口连通该腔室，以使该腔室内的该工作气体或解离的该工作气体由该气体出口排出，该待处理元件为金属化合物薄膜。
10.根据权利要求9所述的等离子体辅助退火系统的退火方法，其特征在于，该高温炉具有控压阀及抽气装置，该控压阀的两端连接该高温炉的该气体出口及该抽气装置，该抽气装置用以经由该控制阀将该腔室内的该工作气体或解离的该工作气体抽出，该控压阀用以控制该抽气装置抽气的流量。
...【技术特征摘要】
1.一种等离子体辅助退火系统，其特征在于，包含：
2.根据权利要求1所述的等离子体辅助退火系统，其特征在于，该连接件具有长度，该长度介于5至50厘米之间。
3.根据权利要求1所述的等离子体辅助退火系统，其特征在于，包含气体供应装置及流量控制器，该流量控制器的两端分别连接该气体供应装置及该等离子体解离装置的工作气体入口，该气体供应装置用以提供该工作气体，该流量控制器用以控制该工作气体由该气体供应装置流至该等离子体解离装置的流量大小。
4.根据权利要求1所述的等离子体辅助退火系统，其特征在于，该高温炉具有腔室及气体出口，该气体入口连通该腔室，以将该工作气体或解离的该工作气体导入该腔室，该腔室用以容置待处理元件，该气体出口连通该腔室，以使该腔室内的该工作气体或解离的该工作气体由该气体出口排出，该待处理元件为金属化合物薄膜。
5.根据权利要求4所述的等离子体辅助退火系统，其特征在于，该高温炉具有控压阀及抽气装置，该控压阀的两端连接该高温炉的该气体出口及该抽气装置，该抽气装置用以经由该控压阀将该腔室内的该工作气体或解离的该工作气体抽出，该控压阀用以控制该抽气装置抽气的流量。
6.一种等离子体辅助...
【专利技术属性】
技术研发人员：田伟辰，洪政源，叶昌鑫，黄俊凯，吴以德，
申请(专利权)人：财团法人金属工业研究发展中心，
类型：发明
国别省市：
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