一种石英承载舟制造技术

技术编号:9491115 阅读:142 留言:0更新日期:2013-12-26 00:47
本发明专利技术公开了一种石英承载舟,包括有舟体及设置在舟体两端的拉环,舟体包括下刻槽石英棒及与之相连的上支撑石英棒、中支撑石英棒、下支撑石英棒、承重石英棒等组成,其特征在于:在所述舟体上设置上刻槽石英棒、在所述上刻槽石英棒、下刻槽石英棒之间设置侧支撑石英弯板。本发明专利技术的有益效果是:设置了上刻槽石英棒,在上下刻槽石英棒之间加强了支撑,增加了舟体的稳固性,避免了在进出炉过程中易出现断裂的现象,增强石英承载舟的载重能力,降低石英承载舟的破损几率,延长石英承载舟的使用寿命。本发明专利技术具有使用效果好、结构简单、成本低廉之优点。

【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本专利技术公开了一种石英承载舟,包括有舟体及设置在舟体两端的拉环,舟体包括下刻槽石英棒及与之相连的上支撑石英棒、中支撑石英棒、下支撑石英棒、承重石英棒等组成,其特征在于:在所述舟体上设置上刻槽石英棒、在所述上刻槽石英棒、下刻槽石英棒之间设置侧支撑石英弯板。本专利技术的有益效果是:设置了上刻槽石英棒,在上下刻槽石英棒之间加强了支撑,增加了舟体的稳固性,避免了在进出炉过程中易出现断裂的现象,增强石英承载舟的载重能力,降低石英承载舟的破损几率,延长石英承载舟的使用寿命。本专利技术具有使用效果好、结构简单、成本低廉之优点。【专利说明】一种石英承载舟
本专利技术涉及半导体生产
。尤其是涉及在半导体生产中用于SIPOS沉积工艺的一种石英承载舟。
技术介绍
半导体产品生产过程中的LPCVD系统中需经过SIPOS沉积的工序,其特征是在晶片表面通过特殊气体在特殊条件下沉积一层SIPOS薄膜,同时承载晶片的石英承载舟表面被沉积一层SIPOS薄膜,经过多次沉积后石英承载舟需经混合酸浸泡去除表面SIPOS薄膜,而石英承载舟经多次混酸浸泡后的使用寿命及其稳固性成为生产成本的制约因本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种石英承载舟,包括有舟体及设置在舟体两端的拉环,舟体包括下刻槽石英棒及与之相连的上支撑石英棒、中支撑石英棒、下支撑石英棒、承重石英棒等组成,其特征在于:在所述舟体上设置上刻槽石英棒、在所述上刻槽石英棒、下刻槽石英棒之间设置侧支撑石英弯板。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:郭城吕明徐明星郭英云纪大鹏
申请(专利权)人:济南科盛电子有限公司
类型:发明
国别省市:

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