【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本专利技术公开了一种用于降低氧化物制备过程中引入的杂质离子含量的方法。杂质离子包括K+、Na+、SO42-、X-（X=F,Cl,Br,I）等其中一种或一种以上，无法利用水洗或在后续焙烧阶段完全除去。本专利技术采用极性、低沸点且与水互溶的有机物，包括甲醇、乙醇、丙醇和丙酮等一种或一种以上混合物为洗涤溶剂。氧化物前躯体滤饼经过至少一次有限次水洗后，滤饼再使用上述溶剂进一步洗涤，最终得到的氧化物的杂质含量能够得到大大降低。【专利说明】
本专利技术涉及一种降低氧化物制备过程中引入杂质离子含量的方法，尤其是在经过常规水洗后所残留的、微量的溶于水且在后续焙烧阶段无法除去的杂质离子含量的降低。本专利技术方法可以用于对纯度要求较高的功能性氧化物材料的制备领域。
技术介绍
功能性材料中有大部分属于氧化物，其中包括单一氧化物和复合氧化物，如催化材料、发光材料、陶瓷材料等。这些材料的性能在一定程度上受材料中杂质离子及其含量的影响，其中大部分属于不利影响。例如，在催化剂制备过程中，沉淀剂以及氧化物前躯体可溶性盐的使用不可避免地会引入Na+、K+、F_、Cl' Br\ S042_等无法在焙烧阶段去除的杂质离子。在沉淀过程中，这些离子以物理吸附和水溶物混杂在沉淀物中，在经过至少一次有限次水洗后，大部分杂质离子被洗掉，而滤饼中微量水溶解的杂质离子(通常含量在500ppnT2000ppm)无法通过浓度差进一步通过常规水洗显著减少。这些离子的存在会影响最终催化剂的物化性质(比表面积降低、表面酸碱性改变、吸附并覆盖活性位等)，进而影响其催化性能。发光材料主要指高纯稀土氧化...
【技术保护点】
一种降低氧化物制备过程中引入的杂质离子含量的方法，其特征在于氧化物前躯体在经过常规水洗后，再使用极性、低沸点且与水互溶的有机溶剂对滤饼进行洗涤。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：于杨，陈海波，仇冬，王琼，贺健，毛春鹏，殷惠琴，曹建平，
申请(专利权)人：中国石油化工股份有限公司，南化集团研究院，
类型：发明
国别省市：
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