厚度测量装置制造方法及图纸

技术编号:9479181 阅读:96 留言:0更新日期:2013-12-19 06:55
本实用新型专利技术公开了一种厚度测量装置,用以测量晶圆的厚度,包括激光探测头组,所述激光探测头组设置于所述晶圆的斜上方,所述激光探测头组包括两个以上的激光探测头,所述两个以上的激光探测头分别探测所述晶圆上的不同位置的厚度。由于可以通过两个以上的激光探测头同时探测晶圆上不同位置的厚度,因此,不但可以减少改变晶圆和激光探测头组位置的次数,而且可以减少所需的探测时间,因为晶圆上有的取样点是同时测量的,因而,可以有效提高厚度测量效率,提高生产效率。(*该技术在2023年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种厚度测量装置,用以测量晶圆的厚度,其特征在于,包括激光探测头组,所述激光探测头组设置于所述晶圆的斜上方,所述激光探测头组包括两个以上的激光探测头,所述两个以上的激光探测头分别探测所述晶圆上的不同位置的厚度。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:许亮唐强
申请(专利权)人:中芯国际集成电路制造北京有限公司
类型:实用新型
国别省市:

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