【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】用于双探针原子力显微镜的激光测力系统，属于纳米结构或纳米器件三维操作
，具体涉及原子力显微镜探针的测力技术。它为了解决传统的原子力显微镜（AFM）因不具备探针测力系统而不能实现纳米结构的三维操作的问题。本专利技术包括两套独立的激光力学子系统，所述两套独立的激光力学子系统的布局与两个探针的布局相对应，呈左右对称结构。两套激光力学子系统中的两个四象限位置检测器分别用来测量每个探针的受力变形程度，以此实现两个探针位置的纳米级精密定位和操作力的精确检测控制，进而实现纳米结构的三维操作。本专利技术适用于纳米制造、测试、特性表征以及生物领域。【专利说明】用于双探针原子力显微镜的激光测力系统
本专利技术涉及纳米结构或纳米器件三维操作
，具体涉及原子力显微镜探针的测力技术。
技术介绍
纳米操作和组装是实现纳米结构和纳米器件制造的重要手段，如何实现纳米颗粒、纳米线、纳米管，以及其它纳米结构的三维摄取、搬移和组装，以及特性测试，是纳米结构和纳米器件制造的关键。传统的原子力显微镜(AFM)仅仅具有一个探针，主要功能是实现原子到纳米精度的扫描成像，...
【技术保护点】
用于双探针原子力显微镜的激光测力系统，其特征在于：它包括第一激光力学子系统和第二激光力学子系统，所述第一激光力学子系统用于探测双探针原子力显微镜的第一探针手臂的信号，第二激光力学子系统用于探测双探针原子力显微镜的第二探针手臂的信号，所述第一激光力学子系统与第二激光力学子系统的结构相同，所述第一激光力学子系统包括用于调节激光角度的激光角度调整机构(1)、激光器(2)、入射光凸透镜(9)、用于调节入射光凸透镜(9)的位置的入射凸透镜调整机构(4)、反射镜(8)、反射激光凸透镜(5)、用于调节反射激光凸透镜(5)的位置的反射凸透镜调整机构(6)、四象限位置检测器(7)和用于调节四...
【技术特征摘要】
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。