【技术实现步骤摘要】
e指数型非线性纳米金属锥探针
本专利技术属于光学和光电
,涉及纳米光电器件、表面等离子体激发、纳米聚焦和矢量场,是一种高空间分辨率、高灵敏度、能产生强纵向偏振电场,并且能够根据需要进行电场强度调节的金属光电探针。
技术介绍
产生具有大纵向偏振电场分量的纳米聚焦强场,对于提高单分子成像、热辅助磁记录、纳米光刻及诱发热电子至关重要。目前已有多种增强纳米聚焦的金属结构,其中最常用的是金属纳米线性锥形结构,但是线性纳米结构的聚焦存在局限性,不能通过改变曲率半径对光场进行聚焦,不具有非线性特性,使得对表面等离激元的研究和应用存在局限性。研究表明,若纳米金属锥的曲率增大(即非线性程度增加),则对于聚焦形成的电场强度有明显的增大效果。而目前已经被提出的对数型的非线性结构对于纳米聚焦场的增强效果也只能达到有限的程度(4个数量级)。
技术实现思路
本专利技术目的是为产生具有大纵向偏振电场分量的纳米聚焦矢量场,对金属锥的结构进行改进,提供一种高空间分辨率和高灵敏度的e指数型非线性纳米金属锥探针。本专利技术提供的高空间分辨率和高灵敏度的e指数型非线性纳米金属锥探针,由e指数型金属纳米 ...
【技术保护点】
一种能提高空间分辨率和灵敏度以及能产生强纵向偏振电场的e指数型非线性纳米金属锥探针,其特征在于该e指数型非线性纳米金属锥探针由非线性锥形结构构成,该探针在柱状坐标系下的结构方程h(ρ,θ)为:
【技术特征摘要】
1.一种能提高空间分辨率和灵敏度以及能产生强纵向偏振电场的e指数型非线性纳米金属锥探针,其特征在于该e指数型非线性纳米金属锥探针由非线性锥形结构构成,该探针在柱状坐标系下的结构方程h(ρ,θ)为:其中:ρ和θ分别是柱状坐标系下的半径和角度,h0是预设的高度参数,r0是预设的底面半径,h0和r0的大小在纳米量级;a为e指数型非线性因子,且0.04≤a≤0.055,a的变化幅...
【专利技术属性】
技术研发人员:匡登峰,滕学智,姚广宇,陈思宇,
申请(专利权)人:南开大学,
类型:发明
国别省市:天津,12
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