一种用来制备纳米硅粉的等离子体装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种用来制备纳米硅粉的等离子体装置，其特征在于，包括中空的腔体，所述腔体上端设有供硅粉料进入的投料口和保护气氛通入的风帘；所述腔体内部分为上中下三部分，上半部分为燃烧室，中间部分为接枝反应腔，下半部分为沉淀腔；所述燃烧室内装有石英管，石英管外围绕有放电线圈，石英管内为等离子弧高温区域；所述石英管上端连接投料口和风帘进气端；等离子弧高温区域下端设在接枝反应腔内，接枝反应腔内壁设有从外部通入活性气体和接枝反应气体的进气管道。本实用新型专利技术可以将碾磨好的微米级硅粉经高温等离子体气化、活化处理、接枝反应等步骤得到一种核壳结构硅纳米复合材料，成品转化率和纯度较高，适合规模化生产使用。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种用来制备纳米硅粉的等离子体装置，其特征在于，包括中空的腔体，所述腔体上端设有供硅粉料进入的投料口和保护气氛通入的风帘；所述腔体内部分为上中下三部分，上半部分为燃烧室，中间部分为接枝反应腔，下半部分为沉淀腔；所述燃烧室内装有石英管，石英管外围绕有放电线圈，石英管内为等离子弧高温区域；所述石英管上端连接投料口和风帘进气端；等离子弧高温区域下端设在接枝反应腔内，接枝反应腔内壁设有从外部通入活性气体和接枝反应气体的进气管道，所述活性气体进气管道的喷嘴朝向等离子高温区域下端。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：沈晓东，杨小旭，钟朝伟，刘国钧，
申请(专利权)人：苏州金瑞晨科技有限公司，
类型：实用新型
国别省市：