一种沉镍设备制造技术

技术编号:9425029 阅读:77 留言:0更新日期:2013-12-06 06:38
本实用新型专利技术涉及一种沉镍设备,所述沉镍设备包括由金属材料制成的第一槽体,所述第一槽体至少包括底壁和沿所述底壁向上延伸的侧壁,所述第一槽体的底壁设置为倾斜并用于药液的回流和容纳,位于所述第一槽体内侧的底壁的全部和侧壁的至少一部分设置有镜面板,并且,所述第一槽体的底壁上方一定高度设置有用于基板在水平方向上输送的传送机构,所述传送机构上侧设置有至少一个用于对基板进行药液喷射的水刀,所述水刀连接水刀进管。本实用新型专利技术能够提高基板传送效率,同时,能够减少药液沉积,提高药液的利用效率,进而降低生产成本。(*该技术在2023年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种沉镍设备,其中,所述沉镍设备包括由金属材料制成的第一槽体,所述第一槽体至少包括底壁和沿所述底壁向上延伸的侧壁,所述第一槽体的底壁设置为倾斜并用于药液的回流和容纳,位于所述第一槽体内侧的底壁的全部和侧壁的至少一部分设置有镜面板,并且,所述第一槽体的底壁上方一定高度设置有用于基板在水平方向上输送的传送机构,所述传送机构上侧设置有至少一个用于对基板进行药液喷射的水刀,所述水刀连接水刀进管。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:陈德和
申请(专利权)人:宇宙电路板设备深圳有限公司
类型:实用新型
国别省市:

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