【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种围栏间隔的设计规则测试电路,其特征在于,包括:一导电层;设于所述导电层的多个通孔,所述多个通孔在所述导电层上呈纵列分布,且每个通孔与所述导电层的围栏间隔各不相等;栅极与所述导电层电连接、漏极与电源输入端电连接、源极与电源输出端电连接的MOSFET;分别与所述多个通孔电连接的多个导线层,所述多个导线层分别与多个控制端电连接。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员:冯军宏,甘正浩,
申请(专利权)人:中芯国际集成电路制造上海有限公司,
类型:发明
国别省市:
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