抗蚀剂剥离液组合物及使用其制造TFT阵列基板的方法技术

技术编号:9405586 阅读:147 留言:0更新日期:2013-12-05 05:56
本发明专利技术涉及一种抗蚀剂剥离液组合物,包括(a)选自由以下化学式1表示的有机磷酸和硅烷醇化合物组成的组中的至少一种;(b)碱性化合物;以及(c)水溶性极性溶剂。[化学式1]

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种抗蚀剂剥离液组合物,包括:(a)选自由以下化学式1表示的有机磷酸和硅烷醇化合物组成的组中的至少一种;(b)碱性化合物:以及(c)水溶性极性溶剂:[化学式1]其中,R1是具有3~15个碳的烷基、烯基或羟烷基。FDA00003232423200011.jpg

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员:金正铉高京俊金圣植慎蕙蠃李喻珍
申请(专利权)人:东友FINECHEM股份有限公司
类型:发明
国别省市:

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