抗蚀剂剥离剂组合物制造技术

本发明专利技术涉及一种抗蚀剂剥离剂组合物，特别涉及一种包含具有环状胺结构的咪唑烷化合物，所以抗蚀剂剥离性能非常优秀，并且对金属的防腐蚀效果突出，从而可以使图案形成过程中元件的金属布线的腐蚀达到最小化的抗蚀剂剥离剂组合物。

【技术实现步骤摘要】
抗蚀剂剥离剂组合物技术 领域本专利技术涉及一种照相平板印刷(photo-lithography)工艺中使用的抗蚀剂剥离 剂组合物，特别涉及一种在剥离用于形成金属布线的抗蚀剂时，可以使金属布线的 腐蚀达 到最小化，且抗蚀剂的剥离性能优秀的抗蚀剂剥离剂组合物。
技术介绍
抗蚀剂(光刻胶，photo-resist)是照相平板印刷工艺中必不可少的物质，而这种 照相平板印刷工艺一般应用于集成电路(integrated circuit, IC)、大型集成电路(large scale integration, LSI),超大型集成电路(very large scale integration, VLSI)等的 半导体装置和液晶显示装置(liquid crystal display, LCD)、以及平板显示装置(plasma display device, PDP)等的图像显示装置的制造上。然而，照相平板印刷工艺(photo-lithography processing)结束后，在高温条件 下使用剥离溶液来去除抗蚀剂，此时抗蚀剂在高温下被去除的同时，下层金属膜质会被剥 离溶液迅速腐蚀。即，由于所述抗蚀剂剥本文档来自技高网...

【技术保护点】
１．一种抗蚀剂剥离剂组合物，其特征在于：所述组合物包含由以下化学式１表示的咪唑烷化合物和溶剂，［化学式１］上述化学式中，Ｒ１、Ｒ２分别独立或同时表示直链或支链上的Ｃ１－Ｃ５的烷基、烯丙基、Ｃ１－Ｃ５的烷基氨基、Ｃ１－Ｃ５的羟烷基、或Ｃ１－Ｃ５的烷基苯基。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：辛成健，金柄郁，尹锡壹，郑宗铉，许舜范，郑世桓，张斗瑛，权五焕，朴善周，
申请(专利权)人：株式会社东进世美肯，
类型：发明
国别省市：KR