光阻层剥离方法及装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种光阻层剥离方法及装置，所述光阻层剥离方法包括：步骤1、提供蚀刻完毕且待去除光阻层的基板（20）；步骤2、采用高能量紫外光照射待去除的光阻层，对基板（20）进行全面曝光；步骤3、采用显影液对曝光后的基板（20）进行显影并清洗；步骤4、采用水气二流体、去离子水对该基板（20）上残留的显影液进行清除；步骤5、对清除残留显影液后的基板（20）进行风刀清洗，风刀清洗后，采用热板（27）对该基板（20）进行干燥处理，完成光阻层的去除。本发明专利技术的光阻层剥离方法及装置，利用显影液对经过高能量紫外光曝光后的光阻层进行清洗，达到去除光阻层的目的，该光阻层剥离方法工序简单，提高设备利用率，降低生产成本。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种光阻层剥离方法，其特征在于，包括以下步骤：步骤1、提供蚀刻完毕且待去除光阻层的基板（20）；步骤2、采用高能量紫外光照射待去除的光阻层，对基板（20）进行全面曝光；步骤3、采用显影液对曝光后的基板（20）进行显影并清洗；步骤4、采用水气二流体、去离子水对显影液清洗后的基板（20）上残留的显影液进行清除；步骤5、对清除残留显影液后的基板（20）进行风刀清洗，风刀清洗后，采用热板（27）对该基板（20）进行干燥处理，完成光阻层的去除。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：姚江波，莫超德，
申请(专利权)人：深圳市华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：