【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种彩膜基板，包括衬底基板、黑矩阵、彩色滤光层和透明导电层，其特征在于，所述透明导电层形成于所述衬底基板和彩色滤光层之间。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：耿淼，高章飞，刘俊豪，程孟德，孔益，
申请(专利权)人：合肥京东方光电科技有限公司，京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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