【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种晶硅太阳能电池多层减反射膜制备工艺，其特征在于，在硅片的受光面设置两层以上减反射膜。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：贾河顺，姜言森，任现坤，张春艳，马继磊，徐振华，
申请(专利权)人：山东力诺太阳能电力股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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