一种刻蚀水洗装置制造方法及图纸

技术编号:29361316 阅读:23 留言:0更新日期:2021-07-20 18:49
本实用新型专利技术涉及太阳能电池技术领域,具体涉及一种刻蚀水洗装置,所述刻蚀水洗装置包括刻蚀装置、水洗装置、输送装置和控制器,所述刻蚀装置包括第一刻蚀组件和第二刻蚀组件;所述水洗装置包括对应设置的喷头和水槽;所述输送装置包括刻蚀输送辊组、旋转吸取器和水洗输送辊组,所述第一刻蚀组件和第二刻蚀组件沿硅片前进方向依次设置在刻蚀输送辊组上,所述旋转吸取器设置在第一刻蚀组件和第二刻蚀组件之间,所述水洗输送辊组设置在所述水槽上方、所述喷头下方;所述刻蚀装置、水洗装置和输送装置分别与控制器电连接。该装置首先对硅片四个侧面进行刻蚀,解决电池存在短路环的问题,再通过水洗装置去除磷硅玻璃。

【技术实现步骤摘要】
一种刻蚀水洗装置
本技术涉及太阳能电池
,具体涉及一种刻蚀水洗装置。
技术介绍
太阳能电池能够将太阳的光能直接转化为电能,根据工作原理不同,太阳能电池可以分为以光伏效应原理工作或以光化学效应原理工作的太阳能电池,目前以光伏效应原理工作的太阳能电池是研究的主流。太阳能电池的生产工艺通常包括硅片切割、制绒、扩散烧结、刻蚀清洗、沉积减反射层和丝印烧结步骤,其中扩散烧结的目的在于形成p-n结,一般采用磷做n型掺杂,但在扩散过程中硅的所有表面都会扩散上磷,此时p-n结的正面、背面以及硅片四个侧边上形成的扩散层便会形成短路环,使电池的并联电阻降低。另一方面,由于扩散过程中有氧的加入,硅片表面还会形成一层二氧化硅,部分磷会留在二氧化硅中形成磷硅玻璃,使电池在空气中的防潮能力下降,导致电流和功率的衰减。基于此,有必要提供一种刻蚀水洗装置。
技术实现思路
针对电池扩散时硅片表面存在磷硅玻璃及四个侧面存在扩散层影响电池性能的技术问题,本技术提供一种刻蚀水洗装置,该装置首先对硅片四个侧面进行刻蚀,解决电池存在短路环的问题,再通过水洗装置去除磷硅玻璃。本技术提供一种刻蚀水洗装置,所述刻蚀水洗装置包括刻蚀装置、水洗装置、输送装置和控制器,所述刻蚀装置包括第一刻蚀组件和第二刻蚀组件,所述第一刻蚀组件包括若干激光发生器,所述第二刻蚀组件包括若干激光发生器;所述水洗装置包括对应设置的喷头和水槽,所述喷头包括酸洗喷头和水洗喷头,所述水槽包括酸洗槽和水洗槽;所述输送装置包括刻蚀输送辊组、旋转吸取器和水洗输送辊组,所述第一刻蚀组件和第二刻蚀组件沿硅片前进方向依次设置在刻蚀输送辊组上,所述旋转吸取器设置在第一刻蚀组件和第二刻蚀组件之间,所述水洗输送辊组设置在所述水槽上方、所述喷头下方;所述刻蚀装置、水洗装置和输送装置分别与控制器电连接。进一步的,所述第一刻蚀组件、第二刻蚀组件均包括若干组激光发生器组,每组所述激光发生器组包括两个相对设置的激光发生器,每组激光发生器组的两个激光发生器之间的空间用于放置硅片。将硅片放置于两个相对设置的激光发生器之间,激光发生器工作,对硅片与激光发生器相对的两个侧面进行刻蚀,第一刻蚀组件刻蚀结束后旋转吸取器能够对硅片进行旋转,之后第二刻蚀组件再对剩余两个未刻蚀的相对面进行刻蚀。进一步的,所述酸洗喷头和酸洗槽之间通过酸洗循环管和泵连通,所述水洗喷头和水洗槽之间通过水洗循环管和泵连通。酸洗槽中的酸洗液(如氢氟酸溶液)通过管道和泵从酸洗喷头喷出对硅片进行清洗,清洗后酸洗液落入酸洗槽中循环使用;水洗循环使用的水同样可以通过水洗喷头和水洗槽之间的回路实现。进一步的,所述旋转吸取器包括液压杆和负压装置,所述液压杆底部连接有旋转驱动件,所述旋转驱动件底部安装有吸附板,所述吸附板具有开口朝下的真空腔,所述真空腔通过气管与负压装置连通。在控制器的控制下,液压杆能够控制吸附板的上下位移,液压杆在硅片到达旋转吸取器位置前伸长,使吸附盘下降,当硅片到达时,负压装置工作,真空腔变为真空状态,从而将硅片吸附到吸附板底部,然后液压杆缩短,带动吸附板上升,旋转驱动件控制吸附板及硅片水平转动90°,之后液压杆伸长,吸附盘再次下降,负压装置配合实现对硅片的放置,此时硅片未被刻蚀的两个侧面与第二刻蚀组件的激光发生器相对放置,激光发生器工作,将未被刻蚀的两个侧面进行刻蚀。进一步的,所述旋转驱动件为步进电机。步进电机控制吸附板转动,从而实现吸附在吸附板下方的硅片的旋转。进一步的,所述真空腔与气管连接处设置有电磁阀。电磁阀能够控制气管的通断,通过电磁阀的开关,能够使真空腔在真空状态和非真空状态间进行切换,实现对硅片的吸附和放置。本技术的有益效果在于,本技术提供的刻蚀水洗装置能够对硅片扩散到磷的四个侧面进行刻蚀,并通过酸洗槽和酸洗喷头对硅片进行清洗去除表面磷硅玻璃,之后硅片经过水洗槽和水洗喷头将表面残留的酸洗液进行清洗;相比于使用刻蚀液对边缘进行刻蚀的方法,本技术利用激光刻蚀更能保证四个侧面扩散层的完全去除,且不会对硅片的正面和反面造成损伤,同时由于刻蚀液中含有硝酸,采用本技术还能够避免含氮废水的产生,降低生产成本。附图说明为了更清楚地说明本技术实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,对于本领域普通技术人员而言,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为本技术的右视图;图2为本技术的俯视图。图中,1-第一刻蚀组件,2-第二刻蚀组件,3-旋转吸取器,4-激光发生器,5-硅片,6-酸洗喷头,7-酸洗槽,8-水洗喷头,9-水洗槽,10-液压杆,11-旋转驱动件,12-吸附板,13-输送装置。具体实施方式为了使本
的人员更好地理解本技术中的技术方案,下面将结合本技术实施例中的附图,对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本技术的一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都应当属于本技术保护的范围。实施例1如图1、图2所示,一种刻蚀水洗装置,刻蚀水洗装置包括刻蚀装置、水洗装置、输送装置13和控制器,刻蚀装置包括第一刻蚀组件1和第二刻蚀组件2,水洗装置包括对应设置的喷头和水槽,输送装置13包括刻蚀输送辊组、旋转吸取器3和水洗输送辊组,输送装置13可以为在传动带或电机齿轮等结构驱动下转动以输送硅片的输送辊;第一刻蚀组件1和第二刻蚀组件2沿硅片5前进方向依次设置在刻蚀输送辊组上,第一刻蚀组件1、第二刻蚀组件2均包括若干组激光发生器组,每组激光发生器组包括两个相对设置的激光发生器4,每组激光发生器组的两个激光发生器4之间的空间用于放置硅片5,激光发生器4的发射头对准硅片5的侧面圆周以便发射头发射的激光去除硅片5侧面的扩散层,旋转吸取器3设置在第一刻蚀组件1和第二刻蚀组件2之间,水洗输送辊组设置在水槽上方、喷头下方;喷头包括酸洗喷头6和水洗喷头8,水槽包括酸洗槽7和水洗槽9,酸洗喷头6和水洗喷头8可通过支架等结构固定,酸洗喷头6和酸洗槽7之间通过酸洗循环管和泵连通,水洗喷头8和水洗槽9之间通过水洗循环管和泵连通;旋转吸取器3包括液压杆10和负压装置,液压杆10底部连接有旋转驱动件11,旋转驱动件11为步进电机,旋转驱动件11底部安装有吸附板12,吸附板12具有开口朝下的真空腔,真空腔通过气管与负压装置连通,真空腔与气管连接处设置有电磁阀,旋转吸取器3可通过支架等结构固定上;刻蚀装置、水洗装置和输送装置13分别与控制器电连接。尽管通过参考附图并结合优选实施例的方式对本技术进行了详细描述,但本技术并不限于此。在不脱离本技术的精神和实质的前提下,本领域普通技术人员可以对本技术的实施例进行各本文档来自技高网
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【技术保护点】
1.一种刻蚀水洗装置,其特征在于,所述刻蚀水洗装置包括刻蚀装置、水洗装置、输送装置(13)和控制器,所述刻蚀装置包括第一刻蚀组件(1)和第二刻蚀组件(2),所述第一刻蚀组件(1)包括若干激光发生器(4),所述第二刻蚀组件(2)包括若干激光发生器(4);/n所述水洗装置包括对应设置的喷头和水槽,所述喷头包括酸洗喷头(6)和水洗喷头(8),所述水槽包括酸洗槽(7)和水洗槽(9);/n所述输送装置(13)包括刻蚀输送辊组、旋转吸取器(3)和水洗输送辊组,所述第一刻蚀组件(1)和第二刻蚀组件(2)沿硅片(5)前进方向依次设置在刻蚀输送辊组上,所述旋转吸取器(3)设置在第一刻蚀组件(1)和第二刻蚀组件(2)之间,所述水洗输送辊组设置在所述水槽上方、所述喷头下方;/n所述刻蚀装置、水洗装置和输送装置(13)分别与控制器电连接。/n

【技术特征摘要】
1.一种刻蚀水洗装置,其特征在于,所述刻蚀水洗装置包括刻蚀装置、水洗装置、输送装置(13)和控制器,所述刻蚀装置包括第一刻蚀组件(1)和第二刻蚀组件(2),所述第一刻蚀组件(1)包括若干激光发生器(4),所述第二刻蚀组件(2)包括若干激光发生器(4);
所述水洗装置包括对应设置的喷头和水槽,所述喷头包括酸洗喷头(6)和水洗喷头(8),所述水槽包括酸洗槽(7)和水洗槽(9);
所述输送装置(13)包括刻蚀输送辊组、旋转吸取器(3)和水洗输送辊组,所述第一刻蚀组件(1)和第二刻蚀组件(2)沿硅片(5)前进方向依次设置在刻蚀输送辊组上,所述旋转吸取器(3)设置在第一刻蚀组件(1)和第二刻蚀组件(2)之间,所述水洗输送辊组设置在所述水槽上方、所述喷头下方;
所述刻蚀装置、水洗装置和输送装置(13)分别与控制器电连接。


2.如权利要求1所述的刻蚀水洗装置,其特征在于,所述第一刻蚀组件(1)、第二刻蚀组件(2...

【专利技术属性】
技术研发人员:陈冲杨晓君仲伟佳任现坤宋超曹振葛永见郭瑞静韩其家张洪岩
申请(专利权)人:山东力诺太阳能电力股份有限公司
类型:新型
国别省市:山东;37

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