肖特基位障二极管及其制造方法技术

技术编号:9296694 阅读:117 留言:0更新日期:2013-10-31 00:59
本发明专利技术提出一种肖特基位障二极管(Schottky?barrier?diode,SBD)及其制造方法。肖特基位障二极管包含:半导体层,具有多个开口,以形成开口矩阵;以及阳极,具有形成于多个开口中的多个导电突出部,以形成导电矩阵;其中,该半导体层与阳极间,形成肖特基接触。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种肖特基位障二极管,其特征在于,包含:一半导体层,具有多个开口,以形成一开口矩阵;以及一阳极,具有形成于该多个开口中的多个导电突出部,以形成一导电矩阵;其中,该半导体层与该阳极间,形成肖特基接触。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:管杰雄廖庭维邱建维黄宗义
申请(专利权)人:立锜科技股份有限公司
类型:发明
国别省市:

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